JP2011192676A - 基板処理装置、積層半導体装置製造方法及び積層半導体装置 - Google Patents
基板処理装置、積層半導体装置製造方法及び積層半導体装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】基板を処理する複数の処理室に連結された連結室と、連結室に配され、基板を複数の処理室の間で搬送する搬送アームと、搬送アームを目標位置に移動した場合の搬送アームの実際の位置を計測する計測部と、目標位置と計測部により計測された位置との差を算出する算出部とを備える基板処理装置が提供される。複数の処理室の少なくとも一つは、減圧環境で複数の基板を押圧して貼り合わせる加圧室であり、複数の処理室の少なくとも他の一つは、搬送アームに受け渡す基板を仮置きするロードロック室である請求項1に記載の基板処理装置。
【選択図】図2
Description
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1] 特開2010−10628号公報
Claims (11)
- 基板を処理する複数の処理室に連結された連結室と、
前記連結室に配され、前記基板を前記複数の処理室の間で搬送する搬送アームと、
前記搬送アームを目標位置に移動した場合の前記搬送アームの実際の位置を計測する計測部と、
前記目標位置と前記計測部により計測された位置との差を算出する算出部と
を備える基板処理装置。 - 前記複数の処理室の少なくとも一つは、減圧環境で複数の前記基板を押圧して貼り合わせる加圧室であり、
前記複数の処理室の少なくとも他の一つは、前記搬送アームに受け渡す前記基板を仮置きするロードロック室である請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記計測部は、前記連結室および前記ロードロック室の少なくともいずれか一方に配される請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記計測部は、前記搬送アームが前記基板の質量に相当する対象物を保持した状態で、前記搬送アームを目標位置に移動した場合の、前記基板の面に垂直方向における前記搬送アームの実際の位置を計測する請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記計測部は、前記搬送アームが対象物を保持しない状態で、前記搬送アームを目標位置に移動した場合の前記搬送アームの実際の位置を計測する請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記算出部により算出された前記差が閾値を超えたら警告する警告部を更に備える請求項1から5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記計測部は、前記搬送アームを複数の位置で計測し、
前記警告部は、前記搬送アームの傾きが閾値を超えたら警告する請求項6に記載の基板処理装置。 - 前記警告部は、前記目標位置と前記計測部により計測された位置との差が閾値を超えたら前記搬送アームの動作を停止する請求項6又は7に記載の基板処理装置。
- 前記搬送アームは、前記基板の面に垂直な方向に重なって二つ配され、
二つの前記搬送アームは互いに独立して動作し、
前記計測部が二つの前記搬送アームの一方の位置を計測する場合に、二つの前記搬送アームは前記基板の面方向について互いにずれた位置にある請求項1から8のいずれかに記載の基板処理装置。 - 請求項1から9のいずれかに記載の基板処理装置により基板を処理することを含む積層半導体装置製造方法。
- 請求項10に記載の積層半導体装置製造方法により製造された積層半導体装置。
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