KR101394312B1 - 웨이퍼 정렬장치 - Google Patents

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KR101394312B1 KR1020120125199A KR20120125199A KR101394312B1 KR 101394312 B1 KR101394312 B1 KR 101394312B1 KR 1020120125199 A KR1020120125199 A KR 1020120125199A KR 20120125199 A KR20120125199 A KR 20120125199A KR 101394312 B1 KR101394312 B1 KR 101394312B1
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문인호
최광열
임정호
최원진
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Abstract

본 발명의 웨이퍼 정렬장치는, 본체; 상기 본체에 설치되며 그 하부로 웨이퍼가 흡착되는 상부 스테이지; 상기 본체에 설치되는 하부 스테이지; 상기 하부 스테이지에 안착되며 그 상부로 웨이퍼가 흡착되는 웨이퍼 척; 및 상기 상부 스테이지와 웨이퍼 척에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 카메라 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 상,하부 스테이지에 의해 웨이퍼 2 매를 정렬마크를 이용하여 높은 정밀도로 빠르게 정렬하는 효과가 있다.

Description

웨이퍼 정렬장치{WAFER ALIGNMENT APPARATUS}
본 발명은 웨이퍼 정렬장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼 본더에서 웨이퍼 2매를 본딩하기 위하여 사전에 웨이퍼 2 매를 정렬마크를 이용하여 정렬하는 웨이퍼 정렬장치에 관한 것이다.
가속도계, 자이로스코프, 광부품, 자외선 센서, 적외선 센서, 화학 센서, 잉크젯 헤드를 포함한 멤스(MEMS) 부품, LED, 다층 메모리 등은 소형화, 집적화, 저전력, 저가격을 구현할 수 있는 장점이 있으며 웨이퍼 접합 공정을 이용하여 제조된다.
웨이퍼 접합 공정은 다음과 같이 진행된다. 먼저 통상의 반도체 공정에 의하여 한 조를 구성하는 2 매의 웨이퍼에 별도로 회로와 정렬 마크를 새긴다. 그런 다음, 정렬 공정에서 정렬 마크를 이용하여 그 2매의 웨이퍼를 정렬시킨 후 고정한다.
마지막으로 웨이퍼 접합 공정에서 정렬된 2매의 웨이퍼를 고압, 고전압, 고진공, 고온의 조건으로 접합시킨다.
이와 같은 웨이퍼 접합 공정에서 접합 대상인 2매의 웨이퍼는 극히 정밀하게 정렬되어야 하며, 정밀한 정렬을 위해 보통 웨이퍼 정렬장치가 이용된다.
즉, 웨이퍼 정렬장치(Wafer Aligner)는 2매의 웨이퍼를 정확히 일치시켜 웨이퍼의 손실 양을 최소화함으로써 생산량을 증가시킴과 동시에, 일치되지 않았을 경우 발생할 수 있는 문제점, 예를 들어 공정 진행 중 웨이퍼의 계면에 도포되어 있는 물질들의 기화로 인한 오염 등을 차단함으로써, 최종 생산품의 수율을 향상시키는데 그 목적이 있다.
따라서, 웨이퍼 정렬장치의 경우, 기구적으로 높은 위치 반복 정밀도 및 위치 분해능을 갖도록 설계되어야 하며 동시에 적합한 제어기 및 알고리즘을 필요로 한다.
이와 같은 웨이퍼 정렬장치에 관한 대표적인 예가 하기 문헌 1(이하, '종래기술'이라 한다)에 개시되어 있다.
그러나, 종래기술의 웨이퍼 정렬장치는 2매의 웨이퍼를 하나의 진공흡착판에 순차적으로 올린 상태로 카메라 줌렌즈로 초점을 맞춘 후 정렬하여 정렬에 오랜 시간이 소요되는 문제점이 있었다.
또한, 종래기술의 웨이퍼 정렬장치는 모터가 적용되어 있어 모터에서 발생된 동력을 기구물로 전달하기 위한 부수적인 장치가 필요하며, 추가 구조물에서 발생하는 백래쉬 및 마찰력 등에 의한 추력의 손실과, 비선형 구동 특성이 발생하게 된다.
따라서, 전술한 문제점을 개선한 웨이퍼 정렬장치의 개발이 요구되고 있는 실정이다.
[문헌 1] 한국공개특허 제2011-0126316호(2011.11.23. 공개)
본 발명은 전술한 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 웨이퍼 2 매를 정렬마크를 이용하여 높은 정밀도로 빠르게 정렬하는 웨이퍼 정렬장치를 제공하는데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 웨이퍼 정렬장치는, 본체; 상기 본체에 설치되며 그 하부로 웨이퍼가 흡착되는 상부 스테이지; 상기 본체에 설치되는 하부 스테이지; 상기 하부 스테이지에 안착되며 그 상부로 웨이퍼가 흡착되는 웨이퍼 척; 및 상기 상부 스테이지와 웨이퍼 척에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 카메라 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 스테이지는 상기 카메라 스테이지에서 얻어진 상,하부 스테이지의 웨이퍼 위치 데이터를 기반으로 주행축(Y축), 수직축(X축) 이동 및 Z축으로 기준으로 회전(θ) 구동하여 상기 웨이퍼 척의 웨이퍼에 대해 상부 스테이지의 웨이퍼의 위치가 정렬되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 하부 스테이지는 주행축(Y축), 승강축(Z축)으로 구동되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 스테이지는, 상기 본체에 설치되는 베이스; 상기 베이스의 상부를 따라 주행축(Y축) 방향으로 이동하며, 수직축(X축) 이동 및 Z축을 기준으로 회전(θ)하는 웨이퍼 흡착부가 구비된 이송 테이블; 및 상기 이송테이블로 구동력을 전달하도록 상기 베이스와 이송 테이블 사이에 설치되는 한 쌍의 리니어 모터로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 하부 스테이지는, 상기 본체에 설치되며 승강축(Z축) 방향으로 승강이 이루어지는 베이스; 상기 베이스의 상부를 따라 주행축(Y축) 방향으로 이동하며 상기 웨이퍼 척이 안착되는 이송 테이블; 및 상기 이송테이블로 구동력을 전달하도록 상기 베이스와 이송 테이블 사이에 설치되는 한 쌍의 리니어 모터로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 카메라 스테이지는, 상기 상부 스테이지의 하면에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 한 쌍의 카메라 렌즈가 구비된 하부 카메라; 및 상기 웨이퍼 척의 상면에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 한 쌍의 카메라 렌즈가 구비된 상부 카메라로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 스테이지 및 웨이퍼 척으로 웨이퍼를 공급하기 전에 승강축(Z축), 주행축(Y축) 및 Z축을 기준으로 회전(θ)하며 예비 정렬하는 웨이퍼 반입 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 웨이퍼 반입 유닛에서 정렬된 웨이퍼를 상부 스테이지의 하면으로 진공흡착하여 이송하는 하부 웨이퍼 중계 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 웨이퍼 반입 유닛에서 정렬된 웨이퍼를 웨이퍼 척의 상면으로 진공흡착하여 이송하는 상부 웨이퍼 중계 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 웨이퍼 척을 이송시키는 척 중계 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치에 따르면, 상,하부 스테이지에 의해 웨이퍼 2 매를 정렬마크를 이용하여 높은 정밀도로 빠르게 정렬하는 효과가 있다.
또한, 상,하부 스테이지에 리니어 모터를 적용하여 주행축 방향으로의 정밀 위치 제어 및 반복 정밀도가 향상된다.
또한, 상,하부 스테이지에 리니어 모터를 2대 적용하여 추력의 보완 및 높은 위치 정밀도를 얻게 된다.
즉, 리니어 모터에 의해 각 축에 대하여 상위제어기로부터 인가되는 지령에 대한 빠른 응답성을 확보할 수 있으며, 각 축의 위치 오차 값에 대한 직관적인 보정이 가능하므로 더욱 높은 위치 정밀도를 얻을 수 있게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치를 분해 도시한 사시도이다.
도 3은 도 2의 하부 스테이지를 분해 도시한 사시도이다.
도 4는 도 2의 상부 스테이지를 분해 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4의 이송 테이블을 도시한 저면 사시도이다.
도 6은 도 2의 웨이퍼 중계 유닛과 척 중계 유닛을 도시한 사시도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치를 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치를 분해 도시한 사시도이며, 도 3은 도 2의 하부 스테이지를 분해 도시한 사시도이고, 도 4는 도 2의 상부 스테이지를 분해 도시한 사시도이며, 도 5는 도 4의 이송 테이블을 도시한 저면 사시도이고, 도 6은 도 2의 웨이퍼 중계 유닛과 척 중계 유닛을 도시한 사시도이다.
도 1 내지 도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치(A)는, 본체(100)와, 상기 본체(100)에 설치되며 그 하부로 웨이퍼가 흡착되는 상부 스테이지(200)와, 상기 본체(100)에 설치되는 하부 스테이지(300)와, 상기 하부 스테이지(300)에 안착되며 그 상부로 웨이퍼가 흡착되는 웨이퍼 척(400) 및 상기 상부 스테이지(200)와 웨이퍼 척(400)에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 카메라 스테이지(500)로 구성된다.
또한, 상기 상부 스테이지(200)는 상기 카메라 스테이지(500)에서 얻어진 상,하부 스테이지(200,300)의 웨이퍼 위치 데이터를 기반으로 주행축(Y축), 수직축(X축) 이동 및 Z축으로 기준으로 회전(θ) 구동하여 상기 웨이퍼 척(400)의 웨이퍼에 대해 상부 스테이지(200)의 웨이퍼의 위치가 정렬된다.
구체적으로, 상기 상부 스테이지(200)는 도 4와 같이 상기 본체(100)에 설치되는 베이스(210)와, 상기 베이스(210) 상부를 따라 주행축(Y축) 방향으로 이동하며, 수직축(X축) 이동 및 Z축을 기준으로 회전(θ)하는 웨이퍼 흡착부(220)가 구비된 이송 테이블(230) 및 상기 이송테이블(230)로 구동력을 전달하도록 상기 베이스(210)와 이송 테이블(230) 사이에 설치되는 한 쌍의 리니어 모터(240)로 구성된다.
더욱이, 상기 웨이퍼 흡착부(220)는 압전 모터(Piezo Motor)를 통해 이송 테이블(230)에 대해 수직축(X축) 이동 및 Z축을 기준으로 회전(θ)이 이루어지게 된다.
그리고, 상기 베이스(210)에는 가이드 레일(211)이 설치되고, 상기 이송 테이블(230)에는 상기 가이드 레일(211)에 대응되도록 가이브 블록(231)이 설치된다.
상기 가이드 레일(211)과 가이드 블록(231)은 공지된 "LM가이드"로 구성되어 상세한 설명은 생략한다.
한편, 상기 리니어 모터(240)는 상기 베이스(210)의 양측에 설치되는 고정자(241)와 상기 이송 테이블(230)에 설치되는 이송자(242)로 구성된다.
또한, 상기 하부 스테이지(300)는 주행축(Y축), 승강축(Z축)으로 구동하여 웨이퍼의 반입 및 카메라 스테이지(500)로의 이동 등이 이루어짐과 동시에 정렬공정이 완료된 2매의 웨이퍼가 고정된 웨이퍼 척(400)이 반출된다.
구체적으로, 상기 하부 스테이지(300)는, 도 3과 같이 상기 본체(100)에 설치되며 승강축(Z축) 방향으로 승강이 이루어지는 베이스(310)와, 상기 베이스(310)의 상부를 따라 주행축(Y축) 방향으로 이동하며 상기 웨이퍼 척(400)이 안착되는 이송 테이블(320) 및 상기 이송테이블(320)로 구동력을 전달하도록 상기 베이스(310)와 이송 테이블(320) 사이에 설치되는 한 쌍의 리니어 모터(330)로 구성된다.
그리고, 상기 베이스(310)에는 가이드 레일(311)이 설치되고, 상기 이송 테이블(320)에는 상기 가이드 레일(311)에 대응되도록 가이브 블록(321)이 설치된다.
상기 가이드 레일(311)과 가이드 블록(321)은 공지된 "LM가이드"로 구성되어 상세한 설명은 생략한다.
한편, 상기 리니어 모터(330)는 상기 베이스(310)의 양측에 설치되는 고정자(331)와 상기 이송 테이블(320)에 설치되는 이송자(332)로 구성된다.
즉, 전술한 바와 같이 상,하부 스테이지(200,300)는 한 쌍의 리니어 모터(240,330)가 적용되어 있어, 종래기술에서 일반적으로 사용되는 로터리 서보 모터(RotarX servo motor)에서 발생된 동력을 기구물로 전달하기 위한 부수적인 장치가 불필요하며, 추가 구조물에서 발생하는 백래쉬 및 마찰력 등에 의한 추력의 손실과, 비선형 구동의 발생을 방지하게 된다.
따라서, 본 발명은 리니어 모터(240,330)에 의해 별도의 동력 전달부를 필요로 하지 않음과 동시에 주행축 방향으로의 정밀 위치 제어 및 반복 정밀도를 얻을 수 있게 된다.
더욱이, 한 쌍의 리니어 모터(240,330)를 적용함에 따라 추력의 보완 및 높은 위치 정밀도를 얻게 된다.
즉, 리니어 모터(240,330)에 의해 각 축에 대하여 상위제어기로부터 인가되는 지령에 대한 빠른 응답성을 확보할 수 있으며, 각 축의 위치 오차 값에 대한 직관적인 보정이 가능하므로 더욱 높은 위치 정밀도를 얻을 수 있게 된다.
또한, 상기 카메라 스테이지(500)는, 상기 상부 스테이지(200)의 하면에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 한 쌍의 카메라 렌즈(511)가 구비된 하부 카메라(510) 및 상기 웨이퍼 척(400)의 상면에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 한 쌍의 카메라 렌즈(521)가 구비된 상부 카메라(520)로 구성된다.
더욱이, 상기 카메라 스테이지(500)는 웨이퍼 정렬 공정 시, 기준점으로 활용되는 정렬 마크(Marker)는 웨이퍼 제조사에 따라 그 모양과 형태 및 위치를 달리하므로, 범용성을 위해 마커 검출장치는 반입된 웨이퍼의 전 영역을 감시할 수 있는 스트로크(Stroke)를 갖추어야 함과 동시에 낮은 수준의 진동, 특히 정지 상태에서의 낮은 진동 특성을 가지도록 구성된다.
따라서 직관적 제어가 가능하며, 큰 정지 토크 특성을 가지는 스테핑 모터를 사용하여 비전 검사시스템을 구동하도록 구성하였다.
그리고, 카메라 스테이지(500)는 외팔보(Cantilever) 구조물로 설계되었으며, 흔들림을 최소화하기 위해 내부를 트러스 구조로 설계하여 강성을 증가 시켰다.
마지막으로, 상기 카메라 스테이지(500)에는 상부와 하부에 각각 2대씩, 총 4대의 카메라 렌즈(511,521)에 의해 정렬마크를 검출한 후, 화각(Field Of view, FOV)의 중심좌표와 마커의 중심좌표의 위치 편차 값과, 비틀어짐 값을 연산하게 된다.
이때, 상하로 배치된 카메라 렌즈(511,521)의 중심축이 동일선상에 위치되어야 하며, 좌우로 배치된 카메라 렌즈의 평행도 또한 정밀하게 정렬되어야 한다.
또한, 상기 상부 스테이지(200) 및 웨이퍼 척(400)으로 웨이퍼를 공급하기 전에 승강축(Z축), 주행축(Y축) 및 Z축을 기준으로 회전(θ)하며 예비 정렬하는 웨이퍼 반입 유닛(600)이 더 포함된다.
상기 웨이퍼 반입 유닛(600)은 전 공정인 Pre-Aligner에서 1차적으로 정렬된 웨이퍼의 위치 편차를 최소화하면서 본 발명의 웨이퍼 정렬장치(A)로 반입된다.
그리고, 상기 웨이퍼 반입 유닛(600)에서 정렬된 웨이퍼를 상부 스테이지(200)의 하면으로 진공흡착하여 이송하는 하부 웨이퍼 중계 유닛(700)이 더 포함된다.
한편, 상기 웨이퍼 반입 유닛(600)에서 정렬된 웨이퍼를 웨이퍼 척(400)의 상면으로 진공흡착하여 이송하는 상부 웨이퍼 중계 유닛(800)이 더 포함된다.
또한, 상기 웨이퍼 척(400)을 이송시키는 척 중계 유닛(900)이 더 포함된다.
본 발명의 웨이퍼 정렬장치에 따르면, 상,하부 스테이지(200,300)에 의해 웨이퍼 2 매를 정렬마크를 이용하여 높은 정밀도로 빠르게 정렬하게 된다.
이하, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬장치를 동작을 설명한다.
먼저, 하부 스테이지(300)에 척 중계 유닛(900)에 의해 웨이퍼 척(400)이 로딩됨과 동시에 상부 스테이지(200)에 웨이퍼가 로딩된다. 이때, 상기 상부 스테이지(200)로의 웨이퍼 로딩은 하부 웨이퍼 중계 유닛(700)이 담당하게 된다.
다음, 하부 스테이지(300)가 웨이퍼 반입 위치로 이송됨과 동시에 상부 스테이지(200)는 카메라 스테이지(500)로 이송된다.
그리고, 하부 스테이지(300)에 웨이퍼가 로딩된다. 이때, 상기 하부 스테이지(300)로의 웨이퍼 로딩은 상부 웨이퍼 중계 유닛(800)이 담당하게 된다.
다음, 하부 스테이지(300)가 카메라 스테이지(500)로 이송됨과 동시에 상부 스테이지(200)는 웨이퍼 반입 위치로 이송된다.
그리고, 하부 스테이지(300)의 웨이퍼 위치를 카메라 스테이지(500)의 상부 카메라(520)가 확인한다.
다음, 상부 스테이지(200)가 카메리 스테이지(500)로 이동됨과 동시에 하부 스테이지(300)는 웨이퍼 반입 위치로 이송된다.
그리고, 상부 스테이지(200)의 웨이퍼 위치를 카메라 스테이지(500)의 하부 카메라(520)가 확인한다.
다음, 하부 스테이지(300)가 카메라 스테이지(500)로 이송된다.
그리고, 하부 스테이지(300)가 상승하여 두 장의 웨이퍼가 결합된다.
다음, 웨이퍼 척(400)이 두 장의 웨이퍼를 고정한다.
그리고, 하부 스테이지(300)가 하강한다.
다음, 하부 스테이지(300)가 척 언로딩 위치로 이송됨과 동시에 상부 스테이지(200)는 웨이퍼 반입 위치(초기 위치)로 이송된다.
마지막으로 척 중계 유닛(900)에 의해 웨이퍼 척(400)이 언로딩된다.
전술한 순서는 반복된다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 기술적 범위는 전술한 실시 예에 한정되지 않고 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 이때, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 고려해야 할 것이다.
A - 웨이퍼 정렬장치 100 - 본체
200 - 상부 스테이지 300 - 하부 스테이지
400 - 웨이퍼 척 500 - 카메라 스테이지
600 - 웨이퍼 반입 유닛 700 - 하부 웨이퍼 중계 유닛
800 - 상부 웨이퍼 중계 유닛 900 - 척 중계 유닛

Claims (10)

  1. 본체;
    상기 본체에 설치되며 그 하부로 웨이퍼가 흡착되는 상부 스테이지;
    상기 본체에 설치되며 주행축(Y축), 승강축(Z축)으로 구동되는 하부 스테이지;
    상기 하부 스테이지에 안착되며 그 상부로 웨이퍼가 흡착되는 웨이퍼 척; 및
    상기 상부 스테이지와 웨이퍼 척에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 카메라 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 상부 스테이지는 상기 카메라 스테이지에서 얻어진 상,하부 스테이지의 웨이퍼 위치 데이터를 기반으로 주행축(Y축), 수직축(X축) 이동 및 Z축을 기준으로 회전(θ) 구동하여 상기 웨이퍼 척의 웨이퍼에 대해 상부 스테이지의 웨이퍼의 위치가 정렬되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  3. 삭제
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 상부 스테이지는,
    상기 본체에 설치되는 베이스;
    상기 베이스의 상부를 따라 주행축(Y축) 방향으로 이동하며, 수직축(X축) 이동 및 Z축을 기준으로 회전(θ)하는 웨이퍼 흡착부가 구비된 이송 테이블; 및
    상기 이송테이블로 구동력을 전달하도록 상기 베이스와 이송 테이블 사이에 설치되는 한 쌍의 리니어 모터로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 하부 스테이지는,
    상기 본체에 설치되며 승강축(Z축) 방향으로 승강이 이루어지는 베이스;
    상기 베이스의 상부를 따라 주행축(Y축) 방향으로 이동하며 상기 웨이퍼 척이 안착되는 이송 테이블; 및
    상기 이송테이블로 구동력을 전달하도록 상기 베이스와 이송 테이블 사이에 설치되는 한 쌍의 리니어 모터로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 카메라 스테이지는,
    상기 상부 스테이지의 하면에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 한 쌍의 카메라 렌즈가 구비된 하부 카메라; 및
    상기 웨이퍼 척의 상면에 흡착된 웨이퍼의 정렬마크를 검출하는 한 쌍의 카메라 렌즈가 구비된 상부 카메라로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  7. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 상부 스테이지 및 웨이퍼 척으로 웨이퍼를 공급하기 전에 승강축(Z축), 주행축(Y축) 및 Z축을 기준으로 회전(θ)하며 예비 정렬하는 웨이퍼 반입 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 웨이퍼 반입 유닛에서 정렬된 웨이퍼를 상부 스테이지의 하면으로 진공흡착하여 이송하는 하부 웨이퍼 중계 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 웨이퍼 반입 유닛에서 정렬된 웨이퍼를 웨이퍼 척의 상면으로 진공흡착하여 이송하는 상부 웨이퍼 중계 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
  10. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 웨이퍼 척을 이송시키는 척 중계 유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬장치.
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