JP2011189295A - 塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンク - Google Patents
塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンク Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011189295A JP2011189295A JP2010058461A JP2010058461A JP2011189295A JP 2011189295 A JP2011189295 A JP 2011189295A JP 2010058461 A JP2010058461 A JP 2010058461A JP 2010058461 A JP2010058461 A JP 2010058461A JP 2011189295 A JP2011189295 A JP 2011189295A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating liquid
- tank
- liquid
- buffer tank
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 633
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 518
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 518
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 238000012840 feeding operation Methods 0.000 claims description 11
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 8
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 239000006194 liquid suspension Substances 0.000 abstract 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 6
- 238000005429 filling process Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、塗布液タンクを加圧することにより、バッファタンクから塗布液を送液させて、塗布液タンクの塗布液を供給する塗布液供給装置であって、塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、この残量検知手段により、塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止動作を行った後、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液させる残液送液動作が行われ、その後、塗布液タンクの交換を行うタンク交換動作が行われるように構成する。
【選択図】図1
Description
11 塗布液タンク
12 バッファタンク
20 塗布液供給ユニット(第2塗布液供給ユニット)
41 容器部
42 液供給部
43 液排出部
44 排気部
45 パイプ部
45a 吐出口
48 ガス導入部
60 共通流路
F1a、F1b 気泡検知センサ
Claims (6)
- 塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、前記塗布液タンクを加圧することにより、塗布液をバッファタンクに送液させるとともに、バッファタンクから塗布液を送液させて、塗布液タンクの塗布液を供給する塗布液供給装置であって、
前記塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、
この残量検知手段により、前記塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、前記バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止動作を行った後、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、前記塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液させる残液送液動作が行われ、その後、塗布液タンクの交換を行うタンク交換動作が行われることを特徴とする塗布液供給装置。 - 塗布液タンクとバッファタンクとを有する塗布液供給ユニットが複数設けられ、これらの塗布液供給ユニットのバッファタンクは、共通の供給経路に択一的に連通して連結されており、前記供給経路に連通して連結された第1の塗布液供給ユニットのバッファタンクにおける送液停止動作が行われた後、第1の塗布液供給ユニットから第2の塗布液供給ユニットに前記供給経路への繋ぎ換えが行われ、前記第2の塗布液供給ユニットから塗布液が送液されることを特徴とする塗布液供給装置。
- 前記送液停止動作が行われた後、残液送液動作が行われる前に、前記バッファタンクの塗布液を減少させる塗布液減量動作が行われ、その減少量は、前記残液送液動作により塗布液タンク内の残液が送液される量であることを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布液供給装置。
- 前記バッファタンクは、
供給された塗布液を収容する容器部と、
この容器部の底面部に設けられるとともに、供給された塗布液を排出して送液する液排出部と、
塗布液タンクから送液された塗布液を前記容器部に供給する液供給部と、
を備え、
前記液供給部は、容器部の底面部から容器部の内部まで延伸するパイプ部を有し、このパイプ部の先端に塗布液を吐出する吐出口を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の塗布液供給装置。 - 塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、塗布液タンクの塗布液をバッファタンクを経て、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に塗布液を供給する塗布液供給方法であって、
前記塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、
この残量検知手段により、前記塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、前記バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止工程と、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液する残液送液工程と、塗布液タンクの交換を行うタンク交換工程とを有することを特徴とする塗布液供給方法。 - 供給された塗布液を収容する容器部と、
この容器部の底面部に設けられるとともに、供給された塗布液を排出して送液する液排出部と、
塗布液タンクから送液された塗布液を前記容器部に供給する液供給部と、
を備えるバッファタンクであって、
前記液供給部は、容器部の底面部から容器部の内部まで延伸するパイプ部を有し、このパイプ部の先端に塗布液を吐出する吐出口を有することを特徴とするバッファタンク。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010058461A JP5534591B2 (ja) | 2010-03-15 | 2010-03-15 | 塗布液供給装置、及び、塗布液供給方法 |
TW100101242A TWI498170B (zh) | 2010-03-15 | 2011-01-13 | A coating liquid supply device and a coating liquid supply method |
KR1020110013550A KR20110103854A (ko) | 2010-03-15 | 2011-02-16 | 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크 |
CN201110042101.1A CN102189064B (zh) | 2010-03-15 | 2011-02-22 | 涂布液供给装置、涂布液供给方法以及缓冲箱 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010058461A JP5534591B2 (ja) | 2010-03-15 | 2010-03-15 | 塗布液供給装置、及び、塗布液供給方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011189295A true JP2011189295A (ja) | 2011-09-29 |
JP5534591B2 JP5534591B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=44598456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010058461A Active JP5534591B2 (ja) | 2010-03-15 | 2010-03-15 | 塗布液供給装置、及び、塗布液供給方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5534591B2 (ja) |
KR (1) | KR20110103854A (ja) |
CN (1) | CN102189064B (ja) |
TW (1) | TWI498170B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014534065A (ja) * | 2011-11-14 | 2014-12-18 | フォッケ・ウント・コンパニー(ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンデイトゲゼルシャフト) | 媒体に香味料を塗布するための装置 |
CN106140567A (zh) * | 2015-05-13 | 2016-11-23 | 东京应化工业株式会社 | 涂布装置、涂布系统及涂布方法 |
CN112892927A (zh) * | 2021-01-20 | 2021-06-04 | 程建国 | 一种半导体表面绝缘薄膜加工装置 |
CN114669447A (zh) * | 2022-04-25 | 2022-06-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 涂布设备的缓冲装置和涂布设备 |
WO2022180930A1 (ja) * | 2020-05-08 | 2022-09-01 | 兵神装備株式会社 | 流動物吐出システム |
US11976673B2 (en) | 2019-04-24 | 2024-05-07 | Fujifilm Corporation | Blower with silencer |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102650774A (zh) * | 2012-05-18 | 2012-08-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶吸取装置和液晶涂布设备 |
JP6257740B1 (ja) * | 2016-12-09 | 2018-01-10 | 中外炉工業株式会社 | 塗工液供給装置 |
CN106938239B (zh) * | 2017-04-24 | 2019-07-16 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种涂布头及涂布机 |
CN108897154A (zh) * | 2018-08-15 | 2018-11-27 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 一种涂布设备 |
CN109976098B (zh) * | 2019-03-22 | 2024-04-12 | 福建华佳彩有限公司 | 一种光阻刀头 |
KR102322677B1 (ko) * | 2019-11-26 | 2021-11-05 | 세메스 주식회사 | 약액 토출 장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6199700U (ja) * | 1984-12-04 | 1986-06-25 | ||
JPH02190700A (ja) * | 1989-01-19 | 1990-07-26 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 液体圧送装置 |
JP2002136912A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 溶液の供給装置 |
JP2007029835A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置、ディスプレイ用部材の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000189880A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Canon Inc | 塗布方法および装置ならびにカラ―フィルタの製造方法 |
CN1296144C (zh) * | 2003-07-28 | 2007-01-24 | 中华映管股份有限公司 | 用以吹附阴极材料药液的多喷头涂布装置 |
KR100610023B1 (ko) * | 2005-07-19 | 2006-08-08 | 삼성전자주식회사 | 포토스피너설비의 분사불량 제어장치 |
CN101003039A (zh) * | 2006-01-20 | 2007-07-25 | 达信科技股份有限公司 | 省空间的涂料供应系统 |
TWI561312B (en) * | 2006-03-31 | 2016-12-11 | Toray Industries | Coating method, coating device and manufacturing method and manufacturing device for components of a display |
-
2010
- 2010-03-15 JP JP2010058461A patent/JP5534591B2/ja active Active
-
2011
- 2011-01-13 TW TW100101242A patent/TWI498170B/zh active
- 2011-02-16 KR KR1020110013550A patent/KR20110103854A/ko active IP Right Grant
- 2011-02-22 CN CN201110042101.1A patent/CN102189064B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6199700U (ja) * | 1984-12-04 | 1986-06-25 | ||
JPH02190700A (ja) * | 1989-01-19 | 1990-07-26 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 液体圧送装置 |
JP2002136912A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 溶液の供給装置 |
JP2007029835A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置、ディスプレイ用部材の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014534065A (ja) * | 2011-11-14 | 2014-12-18 | フォッケ・ウント・コンパニー(ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンデイトゲゼルシャフト) | 媒体に香味料を塗布するための装置 |
CN106140567A (zh) * | 2015-05-13 | 2016-11-23 | 东京应化工业株式会社 | 涂布装置、涂布系统及涂布方法 |
CN106140567B (zh) * | 2015-05-13 | 2020-07-07 | 东京应化工业株式会社 | 涂布装置、涂布系统及涂布方法 |
US11976673B2 (en) | 2019-04-24 | 2024-05-07 | Fujifilm Corporation | Blower with silencer |
WO2022180930A1 (ja) * | 2020-05-08 | 2022-09-01 | 兵神装備株式会社 | 流動物吐出システム |
CN112892927A (zh) * | 2021-01-20 | 2021-06-04 | 程建国 | 一种半导体表面绝缘薄膜加工装置 |
CN114669447A (zh) * | 2022-04-25 | 2022-06-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 涂布设备的缓冲装置和涂布设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102189064A (zh) | 2011-09-21 |
JP5534591B2 (ja) | 2014-07-02 |
KR20110103854A (ko) | 2011-09-21 |
CN102189064B (zh) | 2014-12-10 |
TW201130573A (en) | 2011-09-16 |
TWI498170B (zh) | 2015-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5534591B2 (ja) | 塗布液供給装置、及び、塗布液供給方法 | |
KR101929688B1 (ko) | 기포없이 포토리소그래피 화학 용액을 공급 및 분배하기 위한 시스템 및 방법 | |
KR101357961B1 (ko) | 가스 제거를 수행하는 액체 분배 시스템 | |
US8197046B2 (en) | Ink-jet printer | |
KR102314540B1 (ko) | 고점성 액체-함유 재료의 압력 분배를 위한 장치 및 방법 | |
JP2006114906A (ja) | 半導体製造用フォトレジストのディスペンス装置 | |
JP2009539606A5 (ja) | ||
TW200307646A (en) | Apparatus and method for minimizing the generation of particles in ultrapure liquids | |
JP2016172587A (ja) | ボトル給液システム及びボトルキャップアダプター | |
US20020050247A1 (en) | Device for providing solution | |
JP2004216797A (ja) | インクジェット記録装置及びインク供給方法 | |
JP2009006729A (ja) | インクジェット記録装置 | |
JP2017052099A (ja) | 液体供給システム及び液体供給方法 | |
JP4534245B2 (ja) | インクジェット印刷装置 | |
JP2005231674A (ja) | 充填装置 | |
KR101266886B1 (ko) | 포토레지스트 공급장치 | |
WO2020170752A1 (ja) | 印刷装置およびインク供給方法 | |
JP2011098302A (ja) | インクジェットユニット | |
JP2011139972A (ja) | 気泡除去装置及び基板処理装置 | |
JP7111592B2 (ja) | 液体供給装置 | |
JP4138440B2 (ja) | 薬液供給装置 | |
JP2005096297A (ja) | インク経路の管理装置及びその方法 | |
US11667129B2 (en) | Arrangement for supplying ink to a print bar with small pressure fluctuations and with small gas fraction in the ink | |
JP5297658B2 (ja) | レジスト液供給回収システム | |
KR101083802B1 (ko) | 용액 공급 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140421 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5534591 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |