JP2011189295A - 塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンク - Google Patents

塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンク Download PDF

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Abstract

【課題】塗布液がムダに廃棄されるのを避けつつ、さらに供給する塗布液に気泡が混入するのを抑えることができる塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンクを提供する。
【解決手段】塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、塗布液タンクを加圧することにより、バッファタンクから塗布液を送液させて、塗布液タンクの塗布液を供給する塗布液供給装置であって、塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、この残量検知手段により、塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止動作を行った後、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液させる残液送液動作が行われ、その後、塗布液タンクの交換を行うタンク交換動作が行われるように構成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に塗布液を供給する塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンクに関するものであり、特に塗布液の残液をムダなく使用できるとともに、塗布液中に気泡が混入した状態で供給するのを抑えることができる塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンクに関するものである。
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス基板上にレジスト液が塗布されたもの(塗布基板と称す)が使用されている。この塗布基板は、レジスト液や薬液等の塗布液を均一に塗布する基板処理装置によって形成されている。この基板処理装置は、図11に示すように、塗布液の供給源である塗布液供給装置100と、塗布液を基板上に塗布する塗布装置105とを備えており、塗布液供給装置100から送液された塗布液が塗布装置105のポンプ105aに供給され、このポンプ105aを作動させることにより塗布装置105のノズル105bから基板に塗布液が吐出されることにより、基板上に均一な塗布膜が形成されるようになっている。
一般に、塗布液供給装置100は、塗布液を貯留する塗布液タンク101と、塗布液を一時的に貯留するバッファタンク102を有しており、塗布液タンク101からの塗布液をバッファタンク102に一時的に滞留させることで塗布液中に気泡wが混入するのを防止できるようになっている。具体的には、塗布液タンク101は、容器内に伸縮性を有する袋状のチューブ101aが設けられており、チューブ101a内に塗布液が貯留されている。そして、容器内を加圧することにより、チューブ101aが収縮されてチューブ101a内の塗布液がバッファタンク102に送液されるとともに、バッファタンク102から塗布装置105のポンプに送液されることにより、塗布液が塗布液供給装置100から塗布装置105に供給されるようになっている。ここで、仮に塗布液内に気泡wが混入した場合には、バッファタンク102に一時的に貯留される間に浮力によって気泡wを上昇させて気泡wを除去することにより、バッファタンク102の底面に設けられた液排出部には気泡wが除去された塗布液が供給されるようになっている(例えば、下記特許文献1参照)。
このようにして、チューブ101a内の塗布液が塗布装置105に供給されるが、図12に示すように、チューブ101a内の塗布液の残量が少なくなった状態でチューブ101aを収縮させると、チューブ101a内の空気が塗布液に混入し、大量の気泡wが塗布液に含まれて供給されてしまう。この状態では、バッファタンク102に一時的に滞留させるだけでは気泡wの除去が十分に行うことができず、バッファタンク102から気泡wの混入した塗布液が供給されることにより、塗布膜の品質不良の原因となる。したがって、気泡wを検出するセンサ103を設けておき、チューブ101aから送液される塗布液内に気泡wが僅かでも検出されると、チューブ101a内の塗布液が空になったと判断し、新たな塗布液タンク101と交換されることにより気泡wの混入を避けつつ、塗布装置105に継続的に塗布液が供給されるようになっている。
特開平5−304087号公報
しかし、上述の塗布液供給装置100では、レジスト液等の塗布液がムダに廃棄されるという問題があった。すなわち、気泡wの混入を防止するため、送液される塗布液内に気泡wを検知すると塗布液タンク101が空と判断されて塗布液タンク101が交換されることにより、チューブ101a内にはある程度の塗布液が残った状態で塗布液タンク101が交換される。この残った塗布液は、高価であるにもかかわらず、タンク交換時には廃棄されてしまうため、ランニングコストがかかる要因になるという問題があった。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布液がムダに廃棄されるのを避けつつ、さらに供給する塗布液に気泡wが混入するのを抑えることができる塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンクを提供することを目的としている。
上記課題を解決するために本発明の塗布液供給装置は、塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、前記塗布液タンクを加圧することにより、塗布液をバッファタンクに送液させるとともに、バッファタンクから塗布液を送液させて、塗布液タンクの塗布液を供給する塗布液供給装置であって、前記塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、この残量検知手段により、前記塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、前記バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止動作を行った後、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、前記塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液させる残液送液動作が行われ、その後、塗布液タンクの交換を行うタンク交換動作が行われることを特徴としている。
上記塗布液供給装置によれば、塗布液タンクの残量が残り僅かであることを検知すると、送液停止動作によりバッファタンクからの送液が停止される。そして、この送液を停止させた状態で、残液送液動作により塗布液タンクに残留する塗布液をバッファタンクに送液させるため、残留した塗布液内に大量の気泡が混入している場合であっても、気泡がバッファタンクより下流側に流れることを防止することができる。そして、残液送液動作の後、タンク交換動作が行われることにより、タンク交換動作に要する時間内に、バッファタンクに送液された残留塗布液内の気泡が浮力を受けて上昇することにより、塗布液と気泡とが分離される。すなわち、塗布液タンク内の塗布液を最後まで使い切ることができるとともに、塗布液内の気泡も十分に除去することができる。したがって、塗布液がムダに廃棄されるのを避けつつ、供給する塗布液に気泡が混入するのを抑えることができる。
また、塗布液タンクとバッファタンクとを有する塗布液供給ユニットが複数設けられ、これらの塗布液供給ユニットのバッファタンクは、共通の供給経路に択一的に連通して連結されており、前記供給経路に連通して連結された第1の塗布液供給ユニットのバッファタンクにおける送液停止動作が行われた後、第1の塗布液供給ユニットから第2の塗布液供給ユニットに前記供給経路への繋ぎ換えが行われ、前記第2の塗布液供給ユニットから塗布液が送液される構成とすることができる。
この構成によれば、第1の塗布液供給ユニットにおける送液停止動作が行われた後、前記供給経路には、第1の供給ユニットから第2の塗布液供給ユニットに繋ぎ換えが行われることにより、塗布液が第2の塗布液供給ユニットから送液される。したがって、第1の塗布液供給ユニットが送液停止動作の後、残量送液動作を行うことにより、バッファタンク内に気泡が混入した残留塗布液を送液してバッファタンク内で気泡と塗布液とを分離している間、塗布液の供給を停止させることなく、第2の塗布液供給ユニットから塗布液を供給することができる。
また、前記送液停止動作が行われた後、残液送液動作が行われる前に、前記バッファタンクの塗布液を減少させる塗布液減量動作が行われ、その減少量は、前記残液送液動作により塗布液タンク内の残液が送液される量に設定される構成にしてもよい。
この構成によれば、予め残液送液動作によりバッファタンクに供給される塗布液量が減量されるため、バッファタンクに残液を収容する容量を別途設ける必要がない。したがって、バッファタンクが必要以上に大型化するのを抑えることができる。
また、前記バッファタンクは、供給された塗布液を収容する容器部と、この容器部の底面部に設けられるとともに、供給された塗布液を排出して送液する液排出部と、塗布液タンクから送液された塗布液を前記容器部に供給する液供給部と、を備え、前記液供給部は、容器部の底面部から容器部の内部まで延伸するパイプ部を有し、このパイプ部の先端に塗布液を吐出する吐出口を有する構成にしてもよい。
この構成によれば、塗布液タンクから送液された塗布液を容器部に供給する液供給部が、容器部の底面部から延伸するパイプ部先端部分に設けられ、一方、容器部内の塗布液を排出する液排出部が底面部に設けられているため、液供給部と液排出部とが互いに離れた位置に存在する。したがって、残留塗布液が液供給部から供給された場合であっても、残留塗布液内の気泡が液排出部からすぐに排出されてバッファタンクの下流側に流れるのを抑えることができる。
また、上記課題を解決するために本発明の塗布液供給方法によれば、塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、塗布液タンクの塗布液をバッファタンクを経て、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に塗布液を供給する塗布液供給方法であって、前記塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、この残量検知手段により、前記塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、前記バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止工程と、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液する残液送液工程と、塗布液タンクの交換を行うタンク交換工程とを有することを特徴としている。
上記塗布液供給方法によれば、塗布液タンクの残量が残り僅かであることを検知すると、送液停止工程によりバッファタンクからの送液が停止される。そして、この送液を停止させた状態で、残液送液工程により塗布液タンクに残留する塗布液をバッファタンクに送液させるため、残留した塗布液内に大量の気泡が混入している場合であってもバッファタンクからの送液が停止されていることにより、気泡がバッファタンクより下流側に流れることを防止することができる。そして、残液送液工程の後、タンク交換工程が行われることにより、タンク交換工程に要する時間内に、バッファタンクに送液された残留塗布液内の気泡が浮力を受けて上昇することにより、塗布液と気泡とが分離される。すなわち、塗布液タンク内の塗布液を最後まで使い切ることができるとともに、塗布液内の気泡も十分に除去することができる。したがって、塗布液がムダに廃棄されるのを避けつつ、供給する塗布液に気泡が混入するのを抑えることができる。
また、上記課題を解決するために本発明のバッファタンクによれば、供給された塗布液を収容する容器部と、この容器部の底面部に設けられるとともに、供給された塗布液を排出して送液する液排出部と、塗布液タンクから送液された塗布液を前記容器部に供給する液供給部と、を備えるバッファタンクであって、前記液供給部は、容器部の底面部から容器部の内部まで延伸するパイプ部を有し、このパイプ部の先端に塗布液を吐出する吐出口を有することを特徴としている。
この構成によれば、塗布液タンクから送液された塗布液を容器部に供給する液供給部が、容器部の底面部から延伸するパイプ部先端部分に設けられ、一方、容器部内の塗布液を排出する液排出部が底面部に設けられているため、液供給部と液排出部とが互いに離れた位置に存在する。したがって、残留塗布液が液供給部から供給された場合であっても、残留塗布液内の気泡が液排出部からすぐに排出されてバッファタンクの下流側に流れるのを抑えることができる。これにより、気泡が大量に混入する塗布液タンクの残留塗布液がバッファタンクに供給された場合であっても、気泡を下流側に流れるのを抑えることができるため、塗布液がムダに廃棄されるのを避けることができる。
本発明の塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンクによれば、塗布液がムダに廃棄されるのを避けつつ、さらに供給する塗布液に気泡が混入するのを抑えることができる。
本発明の一実施形態における塗布液供給装置を示す概略図である。 本発明の一実施形態におけるバッファタンクを示す概略図である。 バッファタンクに塗布液が供給された状態を示す図である。 塗布液供給装置の動作を示すフローチャートである。 バッファタンク充填工程におけるバルブの開閉状態を示す図である。 塗布液供給工程におけるバルブの開閉状態を示す図である。 送液停止工程におけるバルブの開閉状態を示す図である。 バッファタンク液量調整工程におけるバルブの開閉状態を示す図である。 残液送液工程におけるバルブの開閉状態を示す図である。 タンク交換工程におけるバルブの開閉状態を示す図である。 従来の塗布液供給装置を示す図である。 従来の塗布液供給装置において、塗布液が少なくなった状態を示す図である。
本発明の塗布液供給装置、塗布液供給方法、及びバッファタンクに係る実施の形態を図面を用いて説明する。
図1は、本発明の一実施形態における塗布液供給装置を示す概略図であり、図2は、バッファタンクを示す図である。
図1、図2に示すように、塗布液供給装置は、塗布液供給ユニット10(第1の塗布液供給ユニット),塗布液供給ユニット20(第2の塗布液供給ユニット)を備えており、この塗布液供給ユニット10,20からタンクや塗布装置のポンプにレジスト液等の塗布液を供給するものである。本実施形態における図1では、塗布液供給ユニット10,20から予備タンク2を経て塗布装置3のポンプ3aに塗布液を供給する例を示している。本実施形態における塗布液供給装置は、塗布液供給ユニット10,20を2つ備える例を示しており、一方の塗布液供給ユニット10(又は塗布液供給ユニット20)の塗布液が供給し終ると、他方の塗布液供給ユニット20(又は塗布液供給ユニット10)から塗布液が供給されるというように、いずれか一方の塗布液供給ユニット10(又は塗布液供給ユニット20)から塗布液が供給されるようになっている。
なお、本実施形態において、塗布液は塗布液供給ユニット10,20から予備タンク2、塗布装置3に送液されるが、直接塗布装置3に送液してもよく、いずれの構成であっても送液される側を特に下流側と呼ぶことにする。
塗布液供給ユニット10は、塗布液を貯留する塗布液タンク11と、塗布液を一時的に貯留するバッファタンク12とを備えており、塗布液タンク11の塗布液がバッファタンク12で一時的に貯留された後、予備タンク2に供給される。具体的には、塗布液タンク11とバッファタンク12とが配管D1aによって連通して接続されており、この配管D1aを通じて塗布液タンク11の塗布液がバッファタンク12に供給される。すなわち、配管D1aに設けられたバルブV1aを開状態にして、塗布液タンク11から塗布液が送液されることにより塗布液がバッファタンク12に供給される。
塗布液タンク11は、大量の塗布液を貯留させておくものであり、塗布装置によって塗布される基板複数枚分の塗布液が貯留されている。この塗布液タンク11は、塗布液タンク本体11aと、塗布液タンク本体11a内にガスを導入するためのガス導入部11bと、塗布液を排出する塗布液排出部11cとを有している。
塗布液タンク本体11aは、塗布液を貯留する容器である。この塗布液タンク本体11aは、取り替え可能に構成されており、塗布液がなくなった場合には塗布液が充填された塗布液タンク本体11a自体を取り替えることができるようになっている。この塗布液タンク本体11aの上方部分にはガス導入部11bが設けられており、このガス導入部11bと図示しないエアコンプレッサとが配管D2aによって連結されている。そして、この配管D2aには、バルブV2aが設けられており、このバルブV2aを開閉動作させることにより塗布液タンク本体11aにエアを供給することができるようになっている。このバルブV2aは、エアオペレート式バルブが使用されており、後述する制御装置により開閉動作を制御できるようになっている。そして、このバルブV2aの開閉動作を制御し塗布液タンク本体11aにエアを供給して加圧することにより、塗布液タンク本体11aの塗布液をバッファタンク12に送液することができる。すなわち、バルブV2aを開状態にしてエアが塗布液タンク本体11aに供給されると、塗布液タンク本体11aの圧力が上昇することにより塗布液タンク本体11aの塗布液が圧力を受け、塗布液が塗布液排出部11cを通じて配管D1aに排出され、バッファタンク12に送液される。
また、塗布液排出部11cは、パイプ状の管状部材が塗布液タンク本体11aの上方から下方に延びるように設けられており、この管状部材と配管D1aとが連結されている。そして、この管状部材は、塗布液タンク本体11aの底面部分まで延伸して設けられており、これにより、塗布液タンク本体11aの塗布液の残量が少ない場合(底面部付近に液面がある場合)であっても配管D1aを通じてバッファタンク12に塗布液を送液できるようになっている。
なお、配管D1aには、気泡を検知する気泡検知センサF1aが取付けられている。この気泡検知センサF1aは、塗布液タンク本体11aの塗布液の残量が少ないことを検知するものである。すなわち、塗布液タンク本体11a内の塗布液の残量が少ない場合、塗布液と同時に塗布液タンク本体11a内の空気もいっしょに取り込まれることにより、気泡が混入した状態で塗布液が送液される。したがって、塗布液に僅かな気泡wが混入した状態でも検知させることにより、バッファタンク12に大量の気泡wが供給されるのを防止できるようになっている。
なお、図1に示す例では、塗布液タンク本体11aがケース部材で示されているが、ケース部材内にチューブ状の袋部材を有する構成であって、ケース部材内の圧力を高くすることにより、袋部材内の塗布液がバッファタンク12に供給されるものであってもよい。
また、バッファタンク12は、塗布液タンク11から送液された塗布液を一時的に貯留し、塗布液内の気泡を除去するものである。バッファタンク12は、図2に示すように、塗布液を貯留する容器部41と、塗布液タンク11から送液された塗布液を容器部41に供給する液供給部42と、塗布液を下流側に排出する液排出部43と、容器部41内の気体を排出する排気部44を有している。
容器部41は、塗布液を貯留できる円筒形状のケース部材である。この容器部41は、上側容器部41aと下側容器部41bとに分割できるようになっており、上側容器部41aのフランジ部と下側容器部41bのフランジ部とがシール部材を介在させた状態で連結固定されている。これにより、容器部41内の塗布液を密封できるようになっている。そして、容器部41は、上側容器部41aと下側容器部41bとが連結固定された状態では、容器部41の上面部41cと底面部41dとが対面した状態になり、底面部41dが鉛直方向下側に位置した状態で使用される。したがって、塗布液タンク11から塗布液が供給されると塗布液は容器部41の底面部41dから順に満たされるようになっている。
また、液供給部42は、容器部41に塗布液を供給するものであり、本実施形態では、容器部41の底面部41dから容器部41の内部まで延伸されたパイプ部45を有している。具体的には、底面部41dには、配管D1aと連結される供給孔が形成されており、この供給孔にパイプ部45が取付けられている。そして、パイプ部45の先端部分には、容器部41に開口した吐出口45aが形成されており、塗布液タンク11から配管D1aを通じて塗布液が送液されると、吐出口45aから容器部41に塗布液が供給されるようになっている。具体的には、このパイプ部45は、鉛直方向に直立した姿勢を維持できるように固定されており、配管D1aを通じて送液された塗布液は、吐出口45aから湧き出してパイプ部45の側面部45bを伝って容器部41に供給される。すなわち、パイプ部45の側面部45bを伝って供給されることにより、吐出口45aから勢いよく噴出して供給される場合に比べて供給時に気泡が発生するのが抑えられ、容器部41の底面部41dから静かに満たされるようになっている。
ここで、容器部41には、液面センサC1a、C2aが設けられており、容器部41に供給される塗布液の容量を検知することができる。すなわち、液面センサC1aは、塗布液の液量の上限を検知するものであり、本実施形態ではパイプ部45の吐出口45aよりも上方に設けられている。そして、塗布液の液面が液面センサC1aの高さに一致すると液面センサC1aが反応し、容器部41内の塗布液がその液面の高さ以上に供給されるのを防止できるようになっている。また、液面センサC2aは、塗布液の液量の下限を制御するものであり、液面センサC2aより下方に設けられている。本実施形態では、液面センサC1aが反応する上限値に比べて、所定量だけ少ない量で液面センサC2aが反応する位置に設けられている。具体的には、塗布液タンク11の塗布液量が残り僅かになり、気泡検知センサF1aが反応したときの塗布液タンク11の塗布液量とほぼ等しい量に設定されている。
また、排気部44は、容器部41内の気体を排出するものであり、本実施形態では、上側容器部41aに設けられている。具体的には、上側容器部41aの上面部41cに排気孔が開口して形成されており、この排気孔に配管D4aが連通して接続されている。この配管D4aは、バルブV4aが設けられており、配管D4aの端部は大気中に開口されている。そして、バルブV4aはエアオペレート式バルブが使用されており、制御装置によって開閉動作を制御できるようになっている。したがって、バルブV4aの開閉動作を制御することにより、容器部41内の気体を排気しつつ、容器部41内の圧力を調節できるようになっている。これにより、液供給部42から塗布液が容器部41に供給されることにより、このバルブV4aを開閉動作を制御して容器部41内の気体を排気することにより、容器部41内の圧力の上昇を抑えて容器部41に所定量の塗布液が安定して供給できるようになっている。
液排出部43は、容器部41に貯留された塗布液を塗布装置3側に排出するものであり、本実施形態では、塗布液が排出されることにより下流側の予備タンク2に送液される。この液排出部43は、底面部41dに開口して形成された排出孔である。そして、液排出部43と予備タンク2とが配管D3aによって連結されていることにより、容器部41に貯留された塗布液は、液排出部43から配管を通じて予備タンク2に排出されるようになっている。具体的には、配管D3aと共通配管60とがバルブV3aによって連結されており、共通配管60が予備タンク2に連通して接続されている。そして、バルブV3aはエアオペレート式バルブが使用されており制御装置によって開閉動作を制御できるようになっている。したがって、バルブV4aが閉状態で、かつ、バルブV1a,V2a及びバルブV3aが開状態で塗布液タンク本体11aにエアが供給されると、塗布液タンク本体11aの塗布液がバッファタンク12に送液され、この送液された塗布液によりバッファタンク12内の圧力が上昇することにより、バッファタンク12内の塗布液が圧力を受け、配管D3a及び共通配管60を通じて下流側の予備タンク2に送液されるようになっている。そして、液排出部43が底面部41dに設けられることにより、仮に塗布液中に気泡wが混入する場合であっても、塗布液中の気泡wを除去することができる。すなわち、図3に示すように、液供給部42の吐出口45aから塗布液が気泡wと共に供給されると、気泡wは塗布液の流れと共に底面部41dに向かうものの、すぐに浮力により上昇することにより、気泡wが塗布液と共に液排出部43から排出されるのが抑えられる。したがって、液供給部42の吐出口45aが、液排出部43が設けられる底面部41dから離れた位置に配置されていることにより、液供給部42の吐出口45aから供給された塗布液中に気泡wが混入していた場合であっても、塗布液とともに気泡wが液排出部43から排出されるのを抑えることができ、塗布液内の気泡wを除去することができる。
また、容器部41の上面部41cには、ガス導入部48が設けられている。このガス導入部48は、塗布液タンク11のガス導入部11bと同様の機能を有するものであり、このガス導入部48からエアが供給されることにより、塗布液タンク11から塗布液が送液されなくても、容器部41内の塗布液を下流側に排出することができる。具体的には、ガス導入部48と図示しないエアコンプレッサとが配管D5aによって連結されている。そして、この配管D5aには、バルブV5aが設けられており、このバルブV5aを開閉動作させることにより容器部41にエアを供給することができるようになっている。このバルブV5aは、エアオペレート式バルブが使用されており、制御装置により開閉動作を制御できるようになっている。そして、このバルブV5aの開閉動作を制御し容器部41にエアを供給することにより、容器部41の塗布液が予備タンク2に送液することができる。すなわち、バルブV3a、バルブV5aを開状態、バルブV1a、バルブV4aを閉状態にしてエアが容器部41に供給されると、容器部41の圧力が上昇することにより容器部41の塗布液が圧力を受け、塗布液が液排出部43を通じて配管D3aに排出され、共通流路60(共通の供給経路)を経て予備タンク2に送液される。
また、本実施形態では、塗布液供給ユニット10とは別に塗布液供給ユニット20が設けられている。この塗布液供給ユニット20は、塗布液供給ユニット10と同様の構成を有しており、図1において対象の位置関係にある構成部材は同じ機能を有している。したがって、塗布液供給ユニット20については、説明を省略することとする。
これらの塗布液供給ユニット10,20は、共通流路60に連通して接続されており、この共通流路60への接続を切替えることにより、塗布装置3にいずれか一方の塗布液供給ユニット10、20から塗布液を供給することができる。すなわち、バルブV3aを開状態、バルブV3bを閉状態に設定した場合には、共通流路60が塗布液供給ユニット10と連通して接続されるため、塗布液が塗布液供給ユニット10から供給される。また、バルブV3bを開状態、バルブV3aを閉状態にした場合には、共通流路60が塗布液供給ユニット20と連通して接続されるため、塗布液が塗布液供給ユニット20から供給される。
また、この塗布液供給装置は、図示しない制御装置が設けられている。この制御装置により、塗布液供給装置が統括的に制御されるようになっている。具体的には、気泡検知センサF1a,F1b、液面センサC1a、C2a、C1b、C2b等の各センサ類からの信号を受け、各バルブV1a、V2a・・・の開閉動作を制御される。この各バルブV1a、V2a・・・の開閉動作を制御することにより、塗布液タンク11、21やバッファタンク12,22の送液、停止などが制御される。
次にこの塗布液供給装置の動作について、図4に示すフローチャート、及び図5〜図10の各工程におけるバルブの開閉状態を示す図に基づいて説明する。なお、図5〜図10では、白抜きのバルブは開状態を示し、黒塗りのバルブは閉状態を示している。また、この説明では、最初に塗布液供給ユニット10から塗布液を供給し、次いで塗布液供給ユニット20から塗布液を供給する例について説明する。
まず、ステップS1により、バッファタンク充填が行われる(バッファタンク充填工程)。すなわち、塗布液供給ユニット10の塗布液タンク11から塗布液が送液されることにより、バッファタンク12に所定量の塗布液が充填される。具体的には、図5に示すようにバルブV1a,V2a,V4aが開状態に設定され、配管D2aからガス導入部11bを通じてエアが供給されると、塗布液タンク本体11aの塗布液が圧力を受け、塗布液が塗布液排出部11cを通じて配管D1aに排出され、バッファタンク12に送液される。そして、配管D1aを通じて送液された塗布液は、液供給部42の吐出口45aから湧き出してパイプ部45の側面部45bを伝って容器部41に供給される。そして、バッファタンク12の容器部41に塗布液が充填され、液面センサC2aのスイッチが入り、さらに塗布液が供給されることにより、液面センサC1aのスイッチが入ることにより、バッファタンク12に所定量の塗布液が供給されたと判断され、バッファタンク充填が完了する。
次に、ステップS2により、塗布装置3への塗布液供給が行われる(塗布液供給工程)。すなわち、バッファタンク12の塗布液が予備タンク2を介して塗布装置3に供給される。具体的には、液面センサC1aのスイッチが入ると、図6に示すように、バルブV4aが閉じられ、バルブV3aが開かれることにより、バッファタンク12の塗布液が塗布装置3側に供給される。すなわち、図6に示すバルブの開閉状態になることにより、配管D2aからガス導入部11bを通じてエアが供給されると、塗布液タンク本体11aの塗布液がバッファタンク12に送液され、この送液された塗布液によりバッファタンク12内の圧力が上昇し、液排出部43から排出された塗布液が配管D3a及び共通配管60を通じて予備タンク2を介して塗布装置3に送液される。これにより、供給された塗布液がポンプ3aの駆動により吐出されることにより、塗布対象である基板等に塗布液が塗布される。
次に、ステップS3により送液停止が行われる(送液停止工程)。すなわち、塗布液タンク11の塗布液の残量が僅かになると、液排出部43から排出される塗布液中に大量の気泡wが混入するのを防止するため、送液停止が行われる。具体的には、気泡検知センサF1aにより、配管D1a内の塗布液に気泡が含まれていることが検知されると、図7に示すように、今まで開状態であったバルブV1a,V3aが閉じられることにより、送液が停止される。すなわち、バルブV1a、V3aが閉じされることにより、バッファタンク12に新たな気泡wが供給されることを防止すると共に、バッファタンク12に供給された気泡wが液排出部43から排出されることを防止する。これにより、気泡検知センサF1aにより検知された気泡wがバッファタンク12に供給されても、バルブV1a、V3aが閉状態で送液が停止されており、さらに、液供給部42と液排出部43とが離れているため、液供給部42の吐出口45aから吐出された気泡wは浮力により上昇する。これにより、気泡wが液排出部43から排出されるのを防止することができる。なお、この送液停止を行う状態では、配管D1aに気泡wが検知されるとすぐに行われるため、塗布液タンク11には、まだ廃棄するにはもったいない量の塗布液が残存している。
次に、ステップS4によりバッファタンク液量調整が行われる(バッファタンク液量調整工程)。すなわち、通常、バッファタンク12は、スペース的な問題もあり、液面センサC1aが反応する状態から塗布液をさらに追加することは難しい大きさに設計されている。したがって、塗布液タンク11に残留した塗布液をバッファタンク12に送液するためには、バッファタンク12の液量を調整する必要があり、塗布液タンク11に残留した塗布液の量だけバッファタンク12の液量を減量させるものである。具体的には、図8に示すように、バルブV3a,V5aを開いて配管D5aからガス導入部48を通じて容器部41内にエアを供給する。これにより、塗布液が液排出部43を通じて配管D3aに排出され、共通流路60を経て予備タンク2に送液される。そして、液面センサC2aがOFFになるまで送液し続けることにより、バッファタンク12の液量を減少させる。そして、バッファタンク12の液量が減少し、液面センサC2aがOFFになると、バルブV1a,V3aを閉状態にして、バッファタンク液量調整が完了する。
一方、このバッファタンク液量調整完了により、バルブV1a,V3aが閉状態になると、塗布液供給ユニット20に切替える準備が行われる。すなわち、バルブV1b、V2b、V4bを開いて塗布液をバッファタンク22に供給することにより、塗布液供給ユニット20についてバッファタンク充填工程が行われる。
次に、ステップS5により、残液送液動作が行われる(残液送液工程)。すなわち、塗布液タンク11に残留した塗布液をムダに廃棄することなくバッファタンク12に送液する。具体的には、図9に示すように、バルブV1a,V2a,V4aを開いた状態で、配管D2aからガス導入部11bを通じてエアが供給されると、塗布液が塗布液排出部11cを通じて配管D1aに排出され、バッファタンク12に送液される。すなわち、液面センサC1aがONになるまで塗布液タンク11に残留した塗布液の送液動作が行われる。ここで、塗布液タンク11の塗布液残量が少ない状態であるため、塗布液といっしょに大量のエアが塗布液排出部11cに入り込むため、塗布液には大量の気泡wが混入した状態で残量塗布液がバッファタンク12に供給される。すなわち、大量の気泡wが混入した塗布液は、液供給部42の吐出口45aから供給されることにより容器部41内に大量の気泡wが散在することになるが、吐出口45aと液排出部43とが離れた位置に配置されており、さらに、バルブV3aが閉状態に維持されているため、液排出部43から配管D3aへの流れが生じず、塗布液に混入した気泡wが容器部41に残存することになる。
次に、塗布液タンクの交換が行われる(タンク交換工程)。具体的には、塗布装置3への塗布液の供給が塗布液供給ユニット20から行われ、塗布液供給ユニット10の塗布液タンク11が塗布液が充填された塗布液タンク11に交換される。すなわち、図10に示すように、塗布液供給ユニット10のバッファタンク液量調整工程完了と同時に開始された塗布液供給ユニット20についてバッファタンク充填動作が完了すると、バルブV2b,V1b、V3bが開いた状態で、配管D2bからガス導入部21bを通じてエアが供給されると、塗布液タンク本体21aの塗布液がバッファタンク22に送液され、この送液された塗布液によりバッファタンク22内の圧力が上昇し、液排出部53から排出された塗布液が配管D3b及び共通配管60を通じて予備タンク2を介して塗布装置3に送液される。これにより、塗布装置3に塗布液が途切れることなく供給し続けることができる。
そして、この塗布液タンク11の交換が行われることにより、このタンク交換工程の時間を利用して塗布液供給ユニット10の容器部41の気泡wを除去することができる。すなわち、塗布液供給ユニット20の塗布液が供給されつつ、塗布液供給ユニット10の塗布液タンク11が交換される間、次回の塗布液供給ユニット10のバッファタンク12から塗布液の送液が開始されるまでに、十分な時間を確保することができるため、バッファタンク12に供給された塗布液に存在するすべての気泡wを浮力により上昇させることができる。すなわち、塗布液内の大量の気泡wが液排出部43から離間させることができ、残留塗布液内の大量の気泡wを除去することができる。これにより、気泡wが大量に含まれる残存塗布液を供給しても、気泡wが塗布装置3側に供給されるのを抑えることができるため、塗布液タンク11の塗布液をムダなく使用することができる。
その後、塗布液供給ユニット20についても、図4のフローチャートに基づいて、上述した塗布液供給ユニット10の動作が行われる。そして、塗布液供給ユニット20から再度、塗布液供給ユニット10に切替えられることにより、塗布装置3に継続して塗布液を供給することができる。
以上、上記実施形態における塗布液供給装置によれば、塗布液タンクの残量が残り僅かであることを検知すると、送液停止動作によりバッファタンクからの送液が停止される。そして、この送液を停止させた状態で、残液送液動作により塗布液タンクに残留する塗布液をバッファタンクに送液させることにより、残留した塗布液内に大量の気泡が混入している場合であっても、気泡がバッファタンクより下流側に流れることを防止することができる。そして、残液送液動作の後、タンク交換動作が行われることにより、タンク交換動作に要する時間内に、バッファタンクに送液された残留塗布液内の気泡が浮力を受けて上昇することにより、塗布液と気泡とを分離させることができる。すなわち、塗布液タンク内の塗布液を最後まで使い切ることができるとともに、塗布液内の気泡も十分に除去することができる。したがって、塗布液がムダに廃棄されるのを避けつつ、供給する塗布液に気泡が混入するのを抑えることができる。
また、上記実施形態では、塗布液供給ユニットを2つ設ける場合について説明したが、3つ以上設ける構成であってもよい。この場合、一の塗布液供給ユニットが塗布液の供給が終了した後、残りの二つの塗布液供給ユニットの塗布液が供給し終るまでの間、塗布液と気泡wとを分離させる時間を十分確保できるため、塗布液供給ユニットを2つ設ける場合に比べて気泡wの除去をより確実に行うことができる。また、塗布液供給ユニットを複数設ける構成ではなく、1つのみ設ける構成であってもよい。この場合であっても、タンク交換工程において、塗布液を排出し尽くした塗布液タンクを交換する時間を利用して気泡wを除去することができる。
10 塗布液供給ユニット(第1塗布液供給ユニット)
11 塗布液タンク
12 バッファタンク
20 塗布液供給ユニット(第2塗布液供給ユニット)
41 容器部
42 液供給部
43 液排出部
44 排気部
45 パイプ部
45a 吐出口
48 ガス導入部
60 共通流路
F1a、F1b 気泡検知センサ

Claims (6)

  1. 塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、前記塗布液タンクを加圧することにより、塗布液をバッファタンクに送液させるとともに、バッファタンクから塗布液を送液させて、塗布液タンクの塗布液を供給する塗布液供給装置であって、
    前記塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、
    この残量検知手段により、前記塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、前記バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止動作を行った後、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、前記塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液させる残液送液動作が行われ、その後、塗布液タンクの交換を行うタンク交換動作が行われることを特徴とする塗布液供給装置。
  2. 塗布液タンクとバッファタンクとを有する塗布液供給ユニットが複数設けられ、これらの塗布液供給ユニットのバッファタンクは、共通の供給経路に択一的に連通して連結されており、前記供給経路に連通して連結された第1の塗布液供給ユニットのバッファタンクにおける送液停止動作が行われた後、第1の塗布液供給ユニットから第2の塗布液供給ユニットに前記供給経路への繋ぎ換えが行われ、前記第2の塗布液供給ユニットから塗布液が送液されることを特徴とする塗布液供給装置。
  3. 前記送液停止動作が行われた後、残液送液動作が行われる前に、前記バッファタンクの塗布液を減少させる塗布液減量動作が行われ、その減少量は、前記残液送液動作により塗布液タンク内の残液が送液される量であることを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布液供給装置。
  4. 前記バッファタンクは、
    供給された塗布液を収容する容器部と、
    この容器部の底面部に設けられるとともに、供給された塗布液を排出して送液する液排出部と、
    塗布液タンクから送液された塗布液を前記容器部に供給する液供給部と、
    を備え、
    前記液供給部は、容器部の底面部から容器部の内部まで延伸するパイプ部を有し、このパイプ部の先端に塗布液を吐出する吐出口を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の塗布液供給装置。
  5. 塗布液を貯留する塗布液タンクと、塗布液を一時的に貯留するバッファタンクとを備え、塗布液タンクの塗布液をバッファタンクを経て、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に塗布液を供給する塗布液供給方法であって、
    前記塗布液タンク内の塗布液の残量を検出する残量検知手段を備え、
    この残量検知手段により、前記塗布液タンク内の塗布液の残量が僅かであることを検知すると、前記バッファタンクから塗布液を送液するのを停止させる送液停止工程と、バッファタンクからの送液を停止させた状態で、塗布液タンク内の残留塗布液をバッファタンクに送液する残液送液工程と、塗布液タンクの交換を行うタンク交換工程とを有することを特徴とする塗布液供給方法。
  6. 供給された塗布液を収容する容器部と、
    この容器部の底面部に設けられるとともに、供給された塗布液を排出して送液する液排出部と、
    塗布液タンクから送液された塗布液を前記容器部に供給する液供給部と、
    を備えるバッファタンクであって、
    前記液供給部は、容器部の底面部から容器部の内部まで延伸するパイプ部を有し、このパイプ部の先端に塗布液を吐出する吐出口を有することを特徴とするバッファタンク。
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KR1020110013550A KR20110103854A (ko) 2010-03-15 2011-02-16 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크
CN201110042101.1A CN102189064B (zh) 2010-03-15 2011-02-22 涂布液供给装置、涂布液供给方法以及缓冲箱

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014534065A (ja) * 2011-11-14 2014-12-18 フォッケ・ウント・コンパニー(ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンデイトゲゼルシャフト) 媒体に香味料を塗布するための装置
CN106140567A (zh) * 2015-05-13 2016-11-23 东京应化工业株式会社 涂布装置、涂布系统及涂布方法
CN112892927A (zh) * 2021-01-20 2021-06-04 程建国 一种半导体表面绝缘薄膜加工装置
CN114669447A (zh) * 2022-04-25 2022-06-28 京东方科技集团股份有限公司 涂布设备的缓冲装置和涂布设备
WO2022180930A1 (ja) * 2020-05-08 2022-09-01 兵神装備株式会社 流動物吐出システム
US11976673B2 (en) 2019-04-24 2024-05-07 Fujifilm Corporation Blower with silencer

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102650774A (zh) * 2012-05-18 2012-08-29 深圳市华星光电技术有限公司 液晶吸取装置和液晶涂布设备
JP6257740B1 (ja) * 2016-12-09 2018-01-10 中外炉工業株式会社 塗工液供給装置
CN106938239B (zh) * 2017-04-24 2019-07-16 武汉华星光电技术有限公司 一种涂布头及涂布机
CN108897154A (zh) * 2018-08-15 2018-11-27 张家港康得新光电材料有限公司 一种涂布设备
CN109976098B (zh) * 2019-03-22 2024-04-12 福建华佳彩有限公司 一种光阻刀头
KR102322677B1 (ko) * 2019-11-26 2021-11-05 세메스 주식회사 약액 토출 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6199700U (ja) * 1984-12-04 1986-06-25
JPH02190700A (ja) * 1989-01-19 1990-07-26 Sigma Gijutsu Kogyo Kk 液体圧送装置
JP2002136912A (ja) * 2000-10-31 2002-05-14 Dainippon Printing Co Ltd 溶液の供給装置
JP2007029835A (ja) * 2005-07-26 2007-02-08 Toray Ind Inc 塗布方法および塗布装置、ディスプレイ用部材の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000189880A (ja) * 1998-12-28 2000-07-11 Canon Inc 塗布方法および装置ならびにカラ―フィルタの製造方法
CN1296144C (zh) * 2003-07-28 2007-01-24 中华映管股份有限公司 用以吹附阴极材料药液的多喷头涂布装置
KR100610023B1 (ko) * 2005-07-19 2006-08-08 삼성전자주식회사 포토스피너설비의 분사불량 제어장치
CN101003039A (zh) * 2006-01-20 2007-07-25 达信科技股份有限公司 省空间的涂料供应系统
TWI561312B (en) * 2006-03-31 2016-12-11 Toray Industries Coating method, coating device and manufacturing method and manufacturing device for components of a display

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6199700U (ja) * 1984-12-04 1986-06-25
JPH02190700A (ja) * 1989-01-19 1990-07-26 Sigma Gijutsu Kogyo Kk 液体圧送装置
JP2002136912A (ja) * 2000-10-31 2002-05-14 Dainippon Printing Co Ltd 溶液の供給装置
JP2007029835A (ja) * 2005-07-26 2007-02-08 Toray Ind Inc 塗布方法および塗布装置、ディスプレイ用部材の製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014534065A (ja) * 2011-11-14 2014-12-18 フォッケ・ウント・コンパニー(ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンデイトゲゼルシャフト) 媒体に香味料を塗布するための装置
CN106140567A (zh) * 2015-05-13 2016-11-23 东京应化工业株式会社 涂布装置、涂布系统及涂布方法
CN106140567B (zh) * 2015-05-13 2020-07-07 东京应化工业株式会社 涂布装置、涂布系统及涂布方法
US11976673B2 (en) 2019-04-24 2024-05-07 Fujifilm Corporation Blower with silencer
WO2022180930A1 (ja) * 2020-05-08 2022-09-01 兵神装備株式会社 流動物吐出システム
CN112892927A (zh) * 2021-01-20 2021-06-04 程建国 一种半导体表面绝缘薄膜加工装置
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