KR101266886B1

KR101266886B1 - 포토레지스트 공급장치

Info

Publication number: KR101266886B1
Application number: KR1020060098466A
Authority: KR
Inventors: 하루유키 마쓰오카; 노리히로 타카사키
Original assignee: 미츠비시 가가쿠 엔지니어링 가부시키가이샤
Priority date: 2005-11-21
Filing date: 2006-10-10
Publication date: 2013-05-24
Also published as: TW200721257A; JP2007142264A; JP5142464B2; KR20070053606A; TWI390597B

Abstract

과제: 질소 등의 불활성 가스의 소비량을 절감할 수 있고 또 기포가 완전하게 제거된 포토레지스트를 안정하게 연속공급할 수 있는 포토레지스트 공급장치를 제공한다.

해결수단: 포토레지스트 공급장치는 가반식용기(1a, 1b)에서 반입되는 포토레지스트를 펌프(4)에 의해 처리 공정으로 연속 공급하는 포토레지스트 공급 장치이고, 가반식용기(1a, 1b)로부터 펌프(4)에 이르는 송액라인(L1), (L2)...을 복수개 계통 구비하며, 각 송액라인(L1), (L2)에는 가반식용기(1a, 1b)로부터 취출된 포토레지스트를 일단 수용하는 중간용기(2a, 2b)가 설치되어 있다. 중간용기(2a, 2b)는 분리된 기체를 배출가능한 기액분리기로서 구성되고, 그리고 복수계통의 송액라인(L1, L2)은 중간용기(2a, 2b)의 액량에 대응하여 대체 사용하도록 구성되어 있다.

포토레지스트, 송액라인, 중간용기, 펌프, 가반식 용기, 기액분리기

Description

포토레지스트 공급장치{Apparatus for providing photoresists}

도 1은 본 발명에 관한 포토레지스트 공급 장치의 주요부의 구성예를 도시하는 계통도이다.

부호의 설명

1a, 1b: 가반식 용기

2a, 2b: 중간용기

3a, 3b: 액면계

4, 4a, 4b: 펌프

5a 5b: 필터

61a, 61b, 71a, 71b: 플렉시블 호스

72a, 72b: 질소공급장치

73a, 73b: 배기유로

L1: 제1 송액라인

L2: 제2 송액라인

본 발명은 포토레지스트 공급장치에 관한 것이고, 보다 상세하게는 반도체나 액정 디바이스 제조에 있어서 포토레지스트 도포장치 등의 처리 공정에 대하여 가반식(可搬式) 용기에서 반입되는 포토레지스트를 펌프에 의해 연속 공급하는 포토레지스트 공급장치에 관한 것이다.

반도체나 액정기판을 제조할 때의 포토리소그래피에서는 가반식 용기에서 반입된 조제 포토레지스트를 사용하고 있다. 이러한 포토레지스트는 질소로 가압하는 것에 의해 가반식 용기로부터 포토레지스트 공급 장치의 저장조로 이동된 후 동일하게 질소로 가압하는 것에 의해 포토레지스트 공급 장치의 유로를 통하여 포토레지스트 도포 장치 등의 처리 공정에 공급된다. 그리고 상기 공급 장치에 있어서는, 처리 공정에 이르는 유로의 도중에 수지 다공질 재료로 이루어진 필터(탈기 기구)를 배치하고 있다. 이러한 필터의 장착은 포토레지스트 중에 혼입된 압송용 질소의 미세기포를 포착하는 것에 의해 포토마스크의 성능 저하를 방지하고 현상 결함의 발생을 방지하는 것을 도모한 것이다.

[특허문헌 1] 특개평 9-7936호 공보

그런데 상기 처리 공정에 있어서 지금의 디바이스의 대형화, 양산화에 수반하여 대량의 포토레지스트를 소비하는 경향에 있고, 포토레지스트 공급 장치에 있어서도 압송용의 질소도 대량으로 소비하는 것으로 되어 있다. 따라서 질소의 소비량을 절감하고 대량의 포토레지스트를 연속하여 안정 공급하기 위해서는 송액 펌프의 이용이 요망된다. 그러나, 포토레지스트 공급 장치에서 펌프를 사용한 경우, 가 반식 용기로부터 포토레지스트를 뺄 때(취출할 때)에 혼입되는 질소(밀봉용 및 취출용 질소)의 기포가 펌프의 교반 작용 및 흡입, 토출압력에 의해 포토레지스트 중에 다시 확산되기 때문에 실제 필터로는 완전히 제거할 수 없는 것이 실정이었다.

본 발명은 상기 실정을 감안하여 실시된 것이고, 그 목적은 가반식 용기에서 반입되는 포토레지스트를 펌프에 의해 처리 공정으로 연속 공급하는 포토레지스트 공급 장치에 있어서 질소 등의 불활성 가스의 소비량을 절감할 수 있고 또 기포가 완전하게 제거된 포토레지스트를 안정하고 연속 공급할 수 있는 포토레지스트 공급장치를 제공하는 것에 있다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명에서는 상기 과제를 해결하기 위하여 가반식 용기로부터 펌프에 이르는 송액라인을 복수의 가반식 용기에 대응시켜 복수계통 설치하는 것과 함께 펌프의 흡입측에 상당하는 각 송액라인의 도중에 기액분리기로서 기능하는 중간용기를 설치하고, 중간용기에 포토레지스트를 일단 수용하는 것에 의해 포토레지스트에 혼입된 기체를 미리 분리 배출하고, 기포가 제거된 포토레지스트를 펌프에 의해 처리 공정으로 송액하게 된다. 그리고 중간용기의 액량에 따라서 송액라인을 대체하는 것에 의해 처리 공정으로 연속 공급하게 된다.

즉, 본 발명의 요지는 가반식 용기에서 반입된 포토레지스트를 펌프에 의해 처리 공정으로 연속 공급하는 포토레지스트 공급 장치에 있어서 기단에 가반식 용기가 접속되고 또 당해 가반식 용기로부터 상기 펌프에 이르는 송액라인을 복수 계 통 설치하고, 각 송액라인에는 가반식 용기로부터 취출된 포토레지스트를 일단 수용하는 중간용기가 설치되며, 상기 중간용기는 분리한 기체를 배출 가능한 기액 분리기로서 구성되며, 상기 복수 계통의 송액라인은 상기 중간용기의 액량에 대하여 대체 사용하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 공급 장치에 존재한다.

발명의 실시하기 위한 최선의 형태

본 발명에 관한 포토레지스트 공급 장치의 일실시예를 도면에 기초하여 설명한다. 도 1은 본 발명에 관한 포토레지스트 공급 장치의 주요부의 구성예를 도시하는 계통도이다. 이하의 설명에서는 포토레지스트 공급 장치를 "공급장치"라 약칭한다.

본 발명의 공급장치는 도1에 도시한 바와 같이 가반식 용기(1a, 1b)에서 반입되는 포토레지스트를 포토리소그래피 등의 처리 공정(도시 생략)에 펌프(4)에 의해 연속 공급하는 장치이다. 포토레지스트로서는 기판이 노광된 부분이 현상액에 의해 가용하게 되는 각종 포지형(positive) 포토레지스트, 및 노광되지 않은 부분이 현상액에 의해 용해되는 각종 네가형(negative) 포토레지스트를 들 수 있다.

가반식 용기(1a, 1b)는 제조된 포토레지스트를 반송하기 위한 유통 용기이고, 이러한 용기에는 수용된 포토레지스트의 변질을 방지하기 위하여 포토레지스트와 함께 질소 등의 불활성 가스가 밀봉된다. 가반식 용기(1a, 1b)로서는 후술하는 중간용기(2a, 2b)에 질소 등의 불활성 가스로 포토레지스트를 취출하는데 필요한 압력을 가할 수 있는 용기, 구체적으로는 상용압력 10 KPa 정도의 수지제 밀폐 용 기가 사용된다. 통상 가반식 용기(1a, 1b)의 내용적은 20 내지 2000 리터 정도이다.

가반식 용기(1a, 1b)의 상단부에는 가압용의 질소를 용기에 공급하기 위한 가스 공급구, 용기 저부 근방까지 신장된 사이폰(siphon) 관을 구비한 포토레지스트 취출구가 설치되어 있다. 즉, 가반식 용기(1a, 1b)는 각각 후술하는 제1 송액라인(L1), 제2 송액라인(L2)의 각 기단에 플렉시블(flexible) 호스(61a, 61b)를 통하여 포토레지스트 취출구가 접속되며, 제1 송액라인(L1) 및 제2 송액라인(L2)에 각 대응하는 질소 공급 유로(72a, 72b)에 플렉시블 호스(71a, 71b)를 통하여 가스 공급구가 접속되도록 구성되어 있다.

본 발명의 공급 장치는 상기 가반식 용기(1a), (1b).... 에서의 반입에 대응하여 순차 포토레지스트를 받아들이기 때문에 전술한 바와 같이 기단에 가반식 용기(1a), (1b)... 가 접속되고 또 상기 가반식 용기로부터 상기 펌프(4)로 이르는 송액라인을 복수 계통 구비하고 있다. 처리 공정 측에서 포토레지스트의 소비량에 따른 것이지만, 통상은 제1 송액라인(L1)과 제2 송액라인(L2)의 2개의 계통이 설치되어 있다. 또 각 송액라인에는 각각 가반식 용기(1a, 1b)로부터 취출된 포토레지스트를 일단 수용하는 중간용기(2a, 2b)가 설치되어 있다.

상기 송액라인에 관하여 구체적으로 설명하면, 예컨대 제1 송액라인(L1)은 가반식 용기(1a)의 포토레지스트 취출구에 접속되는 상기 플렉시블 호스(61a)가 일단에 부설되고 또 포토레지스트 취입용의 밸브(81a)를 통하여 타단이 중간용기(2a)에 이르는 유로(62a)와 인수된 가반식 용기(1a)의 포토레지스트를 일시적으로 저류 하는 중간용기(2a), 중간용기(2a)로부터 유로대체용 밸브(83b)를 통하여 펌프(4)에 이르는 유로(63a), 펌프(4)로부터 필터 기구에 이르는 공통 유로(66), 필터 기구로부터 처리 공정에 이르는 포토레지스트 공급용 유로(69)로 주로 구성된다.

또한 제1 송액라인(L1)의 기단측에는 상기 가반식 용기(1a)로부터 포토레지스트를 받아들이는 경우, 가반식 용기(1a)에 불활성 가스로서 예컨대 질소를 공급하기 위하여 질소용기의 집합장치 또는 저장조, 감압조정기, 버퍼 탱크 등으로 이루어지는 질소공급장치(도시생략)이 배치되어 있고, 이러한 질소공급장치는 여기부터 신장된 질소공급유로(72a) 및 상기 플렉시블 호스(71a)을 통하여 가반식 용기(1a)에 압출용 질소를 공급하도록 되어 있다.

중간용기(2a)는 가반식 용기(1a)와 동등한 가압에 견딜 수 있는 용기로서 구성된다. 중간용기(2a)는 상기 상단부로부터 저부 근방에 이르는 사이폰관을 내부에 구비하고 있고, 이러한 사이폰관에는 상기 유로(62a)의 타단이 접속되어 있다. 또한 중간용기(2a)의 상단에는 포토레지스트에 동반되어 유입된 질소를 배출하기 위하여 밸브(88a)를 갖는 배기유로(73a)가 부설된다. 그리고 중간용기(2a)의 저부에는 상기 중간용기로부터 포토레지스트를 취출하기 위하여 상기 펌프(4)에 이르는 유로(63a)가 접속되어 있다.

즉, 중간용기(2a)는 취입한 포토레지스트를 일시 저류하는 것에 의해 포토레지스트와 여기에 혼입된 질소를 분리하고, 분리된 기체인 질소를 배기 유로(73b)로부터 배출가능한 기액분리기로서 구성되어 있다. 또한 중간용기(2a)의 내용적은 통상 5 내지 20 리터 정도로 설계된다. 도면 중의 부호(82a)는 유로(63a)의 분기부에 부설된 드레인 밸브를 나타낸다.

또한 질소를 배출하기 위한 배기유로(73a)는 제1 송액라인(L1)의 기단측에 설치된 전술한 질소공급장치에 접속되며, 질소공급장치에 있어서 중간용기(2a)로부터 배출된 질소를 버퍼 탱크에 회수하고, 가반식 용기(1a)로 공급하는 압출용 질소로서 재이용하도록 되어 있다. 상기와 같이, 가반식 용기(1a)에 공급된 압출용 질소를 중간용기(2a)로 회수하고, 다시 압출용에 이용하는 것에 의해 질소의 소비량을 한층 절감할 수 있다.

또한 중간용기(2a)에는 항상 액체 포토레지스트만을 펌프(4)측으로 보내고 또 용기내의 기체가 펌프(4) 측으로 배출되는 것을 방지하기 위하여 상기 중간용기내의 액체량을 검출하는 액면계(3a)가 설치되어 있다. 액면계(3a)로서는 차압형, 플로트형, 광전 센서형, 초음파형 등의 신호출력가능한 다양한 액면계측기기를 사용할 수 있다.

액면계(3a)는 중간용기(2a)에서 관리해야할 포토레지스트의 액면, 즉 포토레지스트를 오버플로우시킴없이 중간용기(2a)에 안전하게 도입할 수 있는 액면의 상한(H)과, 기체가 동반됨없이 포토레지스트를 펌프(4)측으로 안전하게 배출할 수 있는 액면의 하한(L) (하한잔량)을 검출하도록 설정된다. 보다 바람직하게는 액면계(3a)는 도시한 바와 같이, 안전하게 가동가능한 액면의 상한의 상기 상한(H) 및 하한(L) 이외에, 가동을 정지해야할 위험 영역의 상한(HH) 및 하한(LL)을 검출하도록 설정된다.

본 발명에 있어서, 처리 공정으로 포토레지스트를 공급하는 비용을 절감하기 위하여 중간용기(2a)로부터 하류측은 펌프(4)를 사용하여 포토레지스트를 송액하도록 되어 있다. 펌프(4)로서는 예컨대 일본 필러 공업 주식회사제의 저맥압 벨로즈 펌프(PS-10MA)(상품명) 등의 송액 펌프가 사용된다. 상기 펌프(4)는 후술하는 바와 같이 제1 송액라인(L1)과 제2 송액라인(L2)을 대체 사용하기에 적합하고, 도시되지 않지만, 제1 송액라인(L1) 및 제2 송액라인(L2)에 공통되어 사용되도록 1대만 설치하여도 좋고, 또 도시된 바와 같이 송액라인 마다 복수대를 개별적으로 설치하여도 좋다.

송액라인 마다 개별적으로 배치되는 경우, 펌프(4)로서 제1 송액라인(L1)에 대응하는 펌프(4a) 및 제2 송액라인(L2)에 대응하는 펌프(4b) 2대가 배치된다. 2대의 펌프(4a, 4b)를 개별적으로 사용하는 경우, 예컨대 제1 송액라인(L1)에서는 중간용기(2a)의 포토레지스트를 유로(63a, 64a)를 통하여 펌프(4a)에 흡입하고, 흡입된 포토레지스트를 유로(65a), 공통유로(66)으로 토출하도록 유로가 구성된다.

또한 2대의 펌프(4a, 4b)를 배치한 경우에서도 밸브(83a, 83b, 84a, 84b, 85a, 85b)의 개폐 제어에 의해 1대의 펌프(4), 예컨대 펌프(4a)를 상용하고, 펌프(4b)를 고장시 등의 예비로서 사용할 수 있다. 즉, 1대의 펌프(4a)를 상용하는 경우, 제1 송액라인(L1)을 가동시킬 경우는 상기와 같이 유로(63a, 64a)를 통하여 펌프(4a)에 포토레지스트를 흡입하고, 흡입된 포토레지스트를 유로(65a), 공통유로(66)로 토출하도록 유로가 구성되며, 그리고 후술하는 제2 송액라인(L2)을 가동시킬 경우는 중간용기(2b)의 포토레지스트를 유로(63b), 분기유로(63c), 유로(64a)를 통하여 펌프(4a)에 흡입하고, 흡입된 포토레지스트를 유로(65a), 공통유로(66) 로 토출하도록 유로가 구성된다.

한편, 제2 송액라인(L2)도 상기 제1 송액라인(L1)과 동일하게 구성된다. 즉, 도시하는 바와 같이, 제2 송액라인(L2)은 플렉시블 호스(61b)가 부설된 유로(62b), 배기유로(73b) 및 액면계(3b)가 부설된 중간용기(2b), 유로(63b, 64b, 65b), 밸브(81b, 88b, 82b, 83b, 84b, 85b) 등으로 구성되며, 이들 기기는 각각 제1 송액라인(L1)에서 유로(62a), 배기유로(73a), 액면계(3a), 중간용기(2a), 유로(63a, 64a, 65a), 밸브(81a, 88a, 82a, 83a, 84a, 85a)와 동일한 것이다. 제2 송액라인(L2)의 기단측의 질소공급유로(72b)는 전술한 질소공급장치로부터 신장되어 있고, 플렉시블 호스(71b)를 통하여 가반식 용기(1b)에 압출용 질소를 공급하도록 되어 있다.

또한 펌프(4)의 하류측의 공통유로(66)와 포토레지스트 공급용의 유로(69)의 사이에는 이물이나 응집물을 최종적으로 제거하기 위하여 필터(5a, 5b)를 포함하는 필터 기구가 부설되어 있다. 이러한 필터 기구는 유로(67a), 밸브(86a), 필터(5a), 밸브(87a) 및 유로(68a)로 구성되는 계통과 유로(67b), 밸브(86b), 필터(5b), 밸브(87b) 및 유로(68b)로 구성되는 계통의 2개 계통으로 구성된다. 이들 2개 계통은 변(86a, 87a) 또는 밸브(86b, 87b)의 개폐 설정에 의해 어떠한 한편을 상용하며, 다른 쪽은 예비로서 대기시키는 방식으로 되어 있다.

본 발명에 있어서는 처리 공정에 대하여 포토레지스트를 연속 공급하기 위하여 상기의 복수 계통의 제1 송액라인(l1), 제2 송액라인(L2)은 중간용기(2a, 2b)의 액량에 따라 대체 사용하도록 구성된다. 구체적으로는, 중간용기(2a, 2b)의 액면계(3a, 3b)에 의한 하한 잔량(액면의 하한(L))의 검출에 의해 대체가능하게 구성된 다.

예컨대 제1 송액라인(L1)의 중간용기(2a)에 있어서 액면계(3a)에 의한 포토레지스트 액면이 하한(L)을 검출한 경우에는 제1 송액라인(L1)의 가동을 정지시키고, 제2 송액라인(L2)을 가동시키며, 또한 제2 송액라인(L2)의 중간용기(2b)에 있어서 액면계(3b)에 의해 포토레지스트의 액면이 하한(L)을 검출한 경우에는 제2 송액라인(L2)의 가동을 정지시키고 제1 송액라인(L1)을 가동시키도록 되어 있다.

본 발명의 공급장치에 있어서는 미리 소정 프로그램이 서입된 제어장치(도시생략)가 사용되며, 이러한 제어장치에 의한 상기의 몇 개의 밸브의 개폐제어에 의해 가반식 용기(1a, 1b)로부터 포토레지스트의 도입, 처리 공정으로 포토레지스트 공급, 및 상기와 같은 송액라인의 대체 작업이 자동적으로 실시되도록 되어 있다.

이어, 본 발명의 공급장치를 사용한 포토레지스트의 공급방법에 관하여 설명한다. 처리 공정에 포토레지스트를 공급함에 있어서 먼저 준비작업으로서 예컨대 제1 송액라인(L1)의 중간용기(2a)에 포토레지스트를 받아들인다. 포토레지스트는 유로(62a)의 밸브(81a)를 개방하고, 유로(63a)의 밸브(83a)를 폐지하며 또 배기유로(73a)의 밸브(88a)를 개방시킨 상태에서 질소공급장치로부터 질소공급유로(72a), 플렉시블 호스(71a)를 통하여 가반식 용기(1a)에 질소를 공급하는 것에 의해 플렉시블 호스(61a), 유로(62a)를 통하여 중간용기(2a)로 압출할 수 있다.

포토레지스트의 인수에 의해, 중간용기(2a)에서 포토레지스트의 액면이 상한(H)에 도달한 경우, 액면계(3a)의 신호를 기초로 하여 가반식 용기(1a)로의 질소 공급을 정지시키고, 포토레지스트의 인수를 정지하는 것과 함께 밸브(81a)를 폐지 한다. 가반식 용기(1a)로부터 인수할 때 분리된 과잉의 질소는 배기유로(73a)를 통하여 질소공급장치로 회수된다.

한편, 중간용기(2a)에 포토레지스트를 인수하는 사이 또는 인수한 후, 상기와 동일한 작업에 의해 제2 송액라인(L2)에도 포토레지스트를 인수한다. 즉, 포토레지스트는 밸브(81b)를 개방하고, 밸브(83b)를 폐지하며, 밸브(88b)를 개방한 상태에서 질소공급장치로부터 가반식 용기(1b)에 질소를 공급하는 것에 의해 유로(62b)를 통하여 중간용기(2b)로 압출된다. 그리고 중간용기(2b)의 포토레지스트의 액면이 상한(H)에 도달한 경우, 액면계(3b)의 신호를 기초로 하여 가반식 용기(1b)로의 질소공급을 정지하여 포토레지스트의 인수를 정지시키고, 밸브(81b)를 폐지한다.

상기와 같이, 제1 송액라인(L1)의 중간용기(2a)에 포토레지스트를 인수한 경우, 중간용기(2a)에서는 일시적으로 포토레지스트를 저류하기 위하여 포토레지스트 중에 혼입된 기체(가반식 용기(1a)에 공급되는 질소)가 비중차로 분리되어 기체가 제거된 포토레지스트를 얻을 수 있다.

이어서, 제1 송액라인(L1)을 가동시켜서 포토레지스트를 처리 공정에 공급한다. 포토레지스트를 공급하기 위해서는 밸브(83a, 84a, 85a)를 개방하는 것과 함께 펌프(4a)를 작동시킨다. 이것에 의해 중간용기(2a)로부터 유로(63a, 64a, 65a)를 통하여 포토레지스트를 공통유로(66)로 흘린다. 그리고 필터 기구 중 예컨대 밸브(86a, 87a)를 개방하여 필터(5a)를 사용하는 것에 의해 공통유로(66)로부터 유로(67a, 68a) 및 공급용 유로(69)를 통하여 처리 공정으로 포토레지스트를 공급할 수 있다.

이어서 중간용기(2a)의 포토레지스트의 잔량이 적어진 경우는 제1 송액라인(L1)으로부터 제2 송액라인(L2)으로 대체 조작을 실시한다. 이러한 대체 조작은 중간용기(2a)에서 포토레지스트의 액면이 하한(L)에 도달한 경우, 액면계(3a)의 신호를 기초로 하여 실시된다.

그 경우, 먼저 제2 송액라인(L2)의 밸브(83a 84a, 85a)를 개방하는 것과 함께 펌프(4b)를 동작시킨다. 이것에 의해 중간용기(2b)로부터 유로(63b, 64b, 65b)를 통하여 포토레지스트를 공통유로(66)로 흘린다. 그리고 제2 송액라인(L2)의 가동개시와 동시 또는 근소하게 늦은 타이밍으로 제1 송액라인(L1)의 가동을 정지시킨다. 즉, 펌프(4a)의 작동을 정지시키고, 밸브(83a, 84a, 85a)를 폐지시킨다. 상기와 같이 제1 송액라인(L1)으로부터 제2 송액라인(L2)으로 대체하는 것에 의해 처리 공정측으로 끊임없이 포토레지스트를 연속 공급할 수 있다.

또한 송액라인을 제2 송액라인(L2)으로 대체한 후는 정지시킨 제1 송액라인(L1)의 중간용기(2a)에 다시 포토레지스트를 새로이 가반식 용기(도시 생략)로부터 받아들인다. 이후는 상기와 동일하게하여 제1 송액라인(L1)과 제2 송액라인(L2)을 순차 대체하면서 처리 공정으로의 포토레지스트 공급 및 중간용기(2a, 2b)으로의 포토레지스트의 인수를 반복하는 것에 의해 처리 공정으로 포토레지스트를 연속 공급할 수 있다.

상기와 같이 본 발명의 공급장치에 있어서 가반식 용기(1a, 1b)로부터 펌프(4)에 이르는 송액라인을 예컨대 제1 송액라인(L1), 제2 송액라인(L2)과 같이 가 반식 용기에 대응시켜 복수계통 설치하는 것과 함께 펌프(4)의 흡입측에 상당하는 각 송액라인(L1, L2)의 도중에 기액분리기로서 기능하는 중간용기(2a, 2b)를 배치하고, 이들 중간용기에 포토레지스트를 일단 수용하는 것에 의해 포토레지스트에 혼입된 기체를 미리 분리 배출하고, 기체가 제거된 포토레지스트를 펌프(4)로 처리 공정에 송액한다. 또한 중간용기(2a, 2b)의 액량에 따라서 제1 송액라인(L1)과 제2 송액라인(L2)을 절환하고 또 그 사이에 새로운 포토레지스트를 보충하는 것에 의해 처리 공정으로 끊임없이 포토레지스트를 공급한다.

따라서, 본 발명의 공급장치에 의하면, 대량의 포토레지스트를 필요로하는 처리 공정에 대하여도 기포가 안전하게 제거된 포토레지스트를 안정하게 연속 공급할 수 있고, 더구나 질소의 소비량을 절감시킬 수 있다. 특히 가반식 용기(1a, 1b)로부터 중간용기(2a, 2b)로 포토레지스트를 취입한 경우, 사용한 질소를 질소공급장치로 회수하고 가반식 용기(1a, 1b)에서 압출용으로서 재이용하는 것에 의해 질소의 소비량을 절감할 수 있고, 공급 비용을 한층 절감할 수 있다.

본 발명에 관한 포토레지스트 공급 장치에 의하면 가반식 용기로부터 송액라인에 인수된 포토레지스트를 특정 중간용기에 일단 수용하고 기체가 제거된 포토레지스트를 펌프로 공급하고 또 중간용기의 액량에 따라서 대체 사용하도록 구성되어 있기 때문에 질소 등의 불활성 가스의 소비량을 절감할 수 있고, 또한 기포가 완전하게 제거된 포토레지스트를 처리 공정에 안정하게 연속 공급할 수 있다.

Claims

가반식 용기에서 반입된 포토레지스트를 펌프에 의해 처리 공정으로 연속 공급하는 포토레지스트 공급장치로서, 기단에 가반식 용기가 접속되고 또 상기 가반식 용기로부터 상기 펌프에 이르는 송액라인을 복수 계통 설치하고, 각 송액라인에는 가반식 용기로부터 취출된 포토레지스트를 일단 수용하는 중간용기가 설치되며, 상기 중간용기는 분리한 기체를 배출 가능한 기액 분리기로서 구성되고, 또 상기 중간용기에는 기체가 동반됨없이 포토레지스트를 배출가능한 하한 잔량을 검출하는 액면계가 부설되며, 상기 펌프가 벨로즈 펌프이고, 상기 복수 계통의 송액라인은, 상기 중간용기에 포토레지스트를 인수하는 조작과, 상기 중간용기에 저류된 포토레지스트를 상기 펌프에 의해 처리 공정으로 송액하는 조작을 순차로 수행하도록 구성되고, 또 상기 액면계에 의한 하한 잔량의 검출에 의해 대체가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 공급장치.
제1항에 있어서, 펌프가 송액라인 마다 복수대 설치되어 있는 포토레지스트 공급장치.
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