JPH11121422A - 薬液供給装置 - Google Patents

薬液供給装置

Info

Publication number
JPH11121422A
JPH11121422A JP27732197A JP27732197A JPH11121422A JP H11121422 A JPH11121422 A JP H11121422A JP 27732197 A JP27732197 A JP 27732197A JP 27732197 A JP27732197 A JP 27732197A JP H11121422 A JPH11121422 A JP H11121422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
relay tank
liquid level
chemical
liquid
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27732197A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotsugu Nakayama
裕嗣 中山
Morio Uchida
盛男 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Device Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd, Hitachi Consumer Electronics Co Ltd filed Critical Hitachi Device Engineering Co Ltd
Priority to JP27732197A priority Critical patent/JPH11121422A/ja
Publication of JPH11121422A publication Critical patent/JPH11121422A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】気泡の混入のない薬液をユースポイントに供給
する。 【解決手段】通い容器からの薬液を一旦中継タンクに貯
留し、通い容器にガスを圧入することで当該薬液を中継
タンクに圧送し、中継タンクから送液ポンプを用いてユ
ースポイントへ前記薬液を供給する薬液供給装置であっ
て、中継タンクとして、通い容器1に一次供給管3を介
して接続されてタンク上方から薬液が供給されるごとく
構成し脱気遮蔽板26を設置した第1の中継タンク21
と、第1の中継タンク21の後段に接続して第1の中継
タンク21の液面下側から液面の下方に薬液が注入され
るごとく構成した第2の中継タンク4と、第1の中継タ
ンク21と第2の中継タンク4の間に設置した脱気フィ
ルタ23とからなり、第2の中継タンク4に貯留した薬
液を当該第2の中継タンク4の下側から送液ポンプ7に
よりユースポイントへ送液する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置や液晶
表示装置の製造装置に係り、特にその製造装置に供給す
る液状薬品(以下、薬液と称する)への気体の混入を抑
制して当該薬液を用いた処理操作における気体成分によ
る悪影響を回避する薬液供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置の製造におい
ては、基板表面への微細パターンを形成するために各種
の薬液が用いられる。
【0003】例えば、液晶パネルの製造では、画素を形
成するための薄膜電極、あるいはTFT等のスイッチン
グ素子、その他のパターンをフォトリソエッチング技法
を用いて形成するが、この種の薬液は搬入した供給容器
から処理装置(以下、ユースポイントとも言う)へ直接
供給しないで、一旦中継タンクに貯留した後に所定の流
量でユースポイントに供給するのが通例である。
【0004】図4は従来の薬液供給装置の概略を説明す
る模式図であって、1は供給容器である通い容器、2は
薬液、3は1次供給管、4は中継タンク、5はドレイン
管、6はオートバルブ、7は送液ポンプ、8は流量計、
9は2次供給管、10はセーフテイハイレベル液面セン
サ、11はハイレベル液面センサ、12はローレベル液
面センサ、13はセーフテイローレベル液面センサ、1
4は気泡である。
【0005】薬液は外部からキャニスタ付きの通い容器
1で薬液処理装置に搬入される。搬入された通い容器1
の供給管カプラ1aに1次供給管3の一端を結合すると
共に、圧送ガス管カプラ1bに圧送ガス源からのガス管
(図示せず)を接続する。また、1次供給管3の他端は
中継タンク4の蓋4aから当該中継タンクの蓋に設置し
た排気ダクト4cに開放している。
【0006】圧送ガス管カプラ1bから窒素ガスN2
のガスを圧送することにより、通い容器1内の薬液2は
1次供給管3を通して中継タンク4に注入される。中継
タンク4内での薬液は、ハイレベル液面センサ11とロ
ーレベル液面センサ12の間で液面制御がなされ、ドレ
イン管5とオートバルブ6および送液ポンプ7により中
継タンク4から汲み取られる。送液ポンプ7の下流には
流量計8が設けられており、この流量計8で計測される
所定の流量で2次供給管9によりエッチング槽等のユー
スポイントに供給される。
【0007】なお、中継タンク4に設置されたセーフテ
イハイレベル液面センサ10とセーフテイローレベル液
面センサ13は、それぞれ薬液の過大レベルと過少レベ
ルを検知して薬液のオーバーフローと液欠如を防止する
目的をもつ。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】半導体や液晶パネルの
製造に使用される薬液には、気泡を発生し易いものや発
生した気泡が抜け難いものがある。気泡の抜け難い薬液
の場合は、中継タンク内で気泡が混合したままユースポ
イントに送液されてしまい。流量計の誤動作が起きた
り、ワークに適用した時に気泡が薬液の接触を妨げて、
均一な処理がなされなくなるという問題がある。例え
ば、薬液がエッチング液である場合は、流量のの変化で
蝕刻量にばらつきが生じ、また気泡が付着した部分では
十分な蝕刻がなされないことになり、製品不良を招く。
【0009】上記従来の構成をもつ薬液供給装置では、
通い容器1から中継タンク4に薬液を注入する際に1次
供給管3の開放端と当該中継タンク4の液面の間でガス
の巻き込みが生じ、これが薬液中に気泡14となって混
入する。中継タンク4の蓋4aには排気口4bが設けら
れており、この排気口に図示しない排気パイプが連結さ
れて薬液から抜けた気泡(ガス成分)を排気するように
構成されている。
【0010】しかし、気泡が抜け難い薬液では、気泡が
抜け切らない状態で送液ポンプ7によってユースポイン
トへ供給されることになり、上記したような問題が発生
する。
【0011】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消して気泡の混入のない薬液をユースポイントに供給
するようにした薬液供給装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、従来の中継タンクと通い容器の間にさ
らに新たに中継タンクを直列接続し、この新たな中継タ
ンクで圧送ガスの大部分を除去し、後段の中継タンクの
ドレイン管との間に脱気フィルタを設けることで残留し
たガスを除去するようにした。
【0013】すなわち、本発明は下記の構成としたこと
に特徴を有する。
【0014】(1)通い容器からの薬液を一旦中継タン
クに貯留し、前記通い容器にガスを圧入することで当該
薬液を中継タンクに圧送し、前記中継タンクから送液ポ
ンプを用いてユースポイントへ前記薬液を供給する薬液
供給装置において、前記中継タンクは、前記通い容器に
一次供給管を介して接続されてタンク上方から薬液が供
給されるごとく構成した第1の中継タンクと、第1の中
継タンクの後段に接続して前記第1の中継タンクの液面
下側から液面の下方に薬液が注入されるごとく構成した
第2の中継タンクとからなり、前記第2の中継タンクに
貯留した薬液を当該第2の中継タンクの下側から送液ポ
ンプによりユースポイントへ送液することを特徴とす
る。
【0015】(2)(1)において、前記第1の中継タ
ンクの内部に薬液中に混入した気泡を除去するための脱
気遮蔽板を設置し、前記第1の中継タンクと第2の中継
タンクの間に薬液中に混入した気泡を除去するための脱
気フィルタを設置したことを特徴とする。
【0016】(3)前記第2の中継タンクはハイレベル
液面センサとローレベル液面センサを有し、前記ローレ
ベル液面センサの下方に前記薬液の流入口を位置させた
ことを特徴とする。
【0017】上記(1)の構成により、第1の中継タン
クで大部分の気泡が除去され、残留した気泡は第2の中
継タンクで除去でき、ユースポイントに送液される薬液
中に気泡が混入するのが防止される。
【0018】また、上記(2)の構成により、通い容器
から注入される過程で混入した圧送ガス成分は脱気遮蔽
板との接触で大きな塊りとなって液面から放出されるた
め、混入していたガスの大部分が除去され、残留した少
量のガスも第1の中継タンクと第2の中継タンクの間に
設けた脱気フィルタを通過することで除去される。
【0019】さらに、上記(3)の構成により、第2の
中継タンクに薬液を注入する過程でのガスの巻き込みが
防止される。
【0020】以上の各構成により、ユースポイントへの
送液量を計測する流量計に誤動作が生ぜず、適正な薬液
が供給されると共に、ユースポイントでの処理が均一化
され、薬液の適用における製品不良が回避される。
【0021】なお、本発明では、第1の中継タンクと第
2の中継タンクの間にのみ脱気フィルタを設置したが、
第2の中継タンクの出口にも同様の脱気フィルタを設置
してもよい。また、中継タンクを2つ直列に接続した2
段階としたが、これに限るものではなく、中継タンクを
さらに多段階とすることもできる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。
【0023】図1は本発明による薬液供給装置の1実施
例の構成を説明する模式図であって、図4と同一符号は
同一機能部分に相当し、21は第1の中継タンク、21
aは第1の中継タンクの蓋、21bは第1の中継タンク
の排気口、22は第1ドレイン管、23は脱気フィル
タ、24は第1のオートバルブ、25は脱気バルブ、2
6は第1の脱気遮蔽板、27はハイレベル液面センサ、
28はミドルレベル液面センサ、29はローレベル液面
センサ、30は第2の脱気遮蔽板である。
【0024】通い容器1は外部から搬入され、その供給
管カップラ1aに1次供給管3の一端を結合すると共
に、圧送ガス管カプラ1bに圧送ガス源からのガス管
(図示せず)を接続する。1次供給管3の他端は第1の
中継タンク21の蓋21aから当該第1の中継タンクの
内部の通じており、圧送ガス源から不活性ガス、例えば
窒素ガス(N2 )を圧入する。
【0025】第1の中継タンク21の下方に設けた第1
ドレイン管22は脱気フィルタ23と第1オートバルブ
24を通して第2の中継タンク4(図4の中継タンク4
に相当)の側壁に開口して、第1の中継タンク21から
の薬液が第2の中継タンク4の薬液レベル以下の部分で
注入される。
【0026】第2の中継タンク4の下方に設置した第2
ドレイン管5(図4のドレイン管5に相当)からの薬液
は第2オートバルブ6(図4のオートバルブ6に相当)
を通して送液ポンプ7によりユースポイントへ供給され
る。送液ポンプ7とユースポイントの間の2次供給管9
には流量計8が設置されており、この流量計8により薬
液の所定の供給量が制御される。
【0027】また、第1の中継タンク21の内部には斜
め設置された1または複数の第1脱気遮蔽板26が設け
てあり、1次供給管3から注入される薬液中のガス成分
を補足して、これを排気口21bから図示しない排気管
に放出する。
【0028】第2の中継タンク5の内部には、第1の中
継タンク21からの薬液注入口近傍で、流入する薬液を
邪魔する位置に第2脱気遮蔽板30は設けてあり、流入
する薬液が直接第2ドレイン管5(図4のドレイン管5
に相当)に達しないようにすると共に、ガス成分が残留
している場合には、この第2脱気遮蔽板で気泡の成長を
行って蓋4aの排気口4bから排気ダクト4cに排気す
る。
【0029】第2の中継タンク4に設置されたセーフテ
イハイレベル液面センサ10は薬液のオーバーフローを
防止し、セーフテイローレベル液面センサ13は当該タ
ンク中に薬液の欠如が発生するのを防止する。通常の液
面制御はハイレベル液面センサ11とローレベル液面セ
ンサ12とで行われる。ローレベル液面センサ12は第
1の中継タンク21からの薬液注入口より上方に位置さ
せることで、第2の中継タンク4への薬液注入時にガス
の巻き込みを防止している。
【0030】第2の中継タンク4のローレベル液面セン
サ12が液面を検知できなくなったとき、通い容器1に
ガスを圧入し、薬液2を第1の中継タンク21に供給す
る。第1の中継タンク21への薬液の供給は1次供給管
3の開口からの落下であり、この時に巻き込まれて混入
するガスの気泡を第1の脱気遮蔽板26に付着させ、気
泡を成長させて浮上させる。第1の脱気遮蔽板26は、
少なくとも落下する薬液を受ける面積を有する凹凸平面
状、あるいはその他の局面を有する平板状、または一部
または複数部分に開口を有する平板状でよく、少なくと
も裏面に気泡が付着して当該裏面に沿って気泡が成長し
ながら上昇する構成を備える。この第1の脱気遮蔽板2
6は少なくとも1枚設置され(この実施例では4枚)、
薬液中のガスの大部分がここで除去される。
【0031】第1の中継タンク4はミドルレベル液面セ
ンサ28が液面を検知した時点で第1オートバルブ24
を開き、第1の中継タンク21から第2の中継タンク4
に薬液を供給する。ハイレベル液面センサ27とローレ
ベル液面センサ29は上限液面レベルと下限液面レベル
の制御用である。
【0032】第1の中継タンク21と第2の中継タンク
4の間には脱気フィルタ23が設置されており、第1の
脱気遮蔽板26で除去されなかった残留ガスを除去す
る。脱気フィルタ23で除去されたガスは脱気バルブ2
5を通して図示しない排気管に排気される。
【0033】第2の中継タンク4のハイレベル液面セン
サ11が液面を検知したとき、通い容器1へのガスの圧
送を停止し、第1の中継タンク21のローレベル液面セ
ンサ29が液面を検知した時点で第1オートバルブ24
を閉じる。したがって、この実施例では、第1の中継タ
ンクの液面と第2の中継タンク4の液面は同一となる。
なお、これに限らず、第1の中継タンクの液面と第2の
中継タンク4の液面を独立して制御するように構成して
もよい。
【0034】図2は本発明の実施例における第1の中継
タンクに設置する第1の脱気遮蔽板の構成例とその作用
の説明図である。
【0035】第1の中継タンク21に設置する第1の脱
気遮蔽板26は、(a)に示したように第1の中継タン
ク21の内径より若干小さい平板状の3枚の板体26
a,26b,26cを適宜の間隙で積み重ねて構成され
る。
【0036】(b)は脱気作用の説明であって、薬液中
に混入した気泡14は、当該薬液の流動15で板体26
a,26b,26cの下面または上面(図では下面での
作用のみ示す)に付着する。板体は傾斜して設置されて
いるため、付着した気泡14’は当該板体26a,26
b,26cの下面に沿って徐々に上昇しながら成長して
行き、その端部から抜け出す。これにより、混入してい
た大部分の気泡は除去される。
【0037】図3は本発明の実施例における第1の中継
タンクと第2の中継タンクの間に設置する脱気フィルタ
の構成例の説明図である。
【0038】この種の脱気フィルタは液体が通過する際
に含有する気体成分を吸着する、例えば金属箔等のフィ
ルタ材を収納するフィルタ部23aと、このフィルタ部
23aと開口23cで連通した気体貯留部23bとから
構成され、気体貯留部23bの下方に液面センサ23d
を備えている。気体貯留部23bには脱気バルブ25が
連通している。
【0039】通常、脱気バルブ25は閉じており、脱気
フィルタ23を薬液が通過している時には脱気フィルタ
23の気体貯留部23bにまで薬液が満たされている。
【0040】時間と共に、薬液からガスが分離されて開
口23cを通して気体貯留部23bに溜まる。気体貯留
部23bのガスの量が増加して液面を押し下げ、液面セ
ンサ23dが液面を検知したとき、センサ出力で脱気バ
ルブ25を開き、気体貯留部23bに貯留されていたガ
スを放出する。これにより、気体貯留部23bは再び薬
液で満たされる。
【0041】なお、脱気バルブ25に液体の到来で閉じ
る機能を与えておけばよいが、気体貯留部23bの上方
にさらに液面センサを設置し、その液面検知信号で脱気
バルブ25を閉じるようにしてもよい。
【0042】この脱気バルブの設置により、薬液中に残
留していたガスを効果的に除去して第2の中継タンク4
にガス成分が入り込むのを防止できる。
【0043】この実施例により、気泡の混入のない薬液
をユースポイントに供給することができる。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
中継タンクを2段階とし、脱気遮蔽板と脱気フィルタと
を組み合わせることでユースポイントに供給する薬液中
のガス成分を除去でき、薬液中にガス成分が混入するこ
とが原因で生じる流量計等の誤動作や、薬液を適用して
処理される製品の不良を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による薬液供給装置の1実施例の構成を
説明する模式図である。
【図2】本発明の実施例における第1の中継タンクに設
置する第1の脱気遮蔽板の構成例とその作用の説明図で
ある。
【図3】本発明の実施例における第1の中継タンクと第
2の中継タンクの間に設置する脱気フィルタの構成例の
説明図である。
【図4】従来の薬液供給装置の概略を説明する模式図で
ある。
【符号の説明】
1 通い容器 2 薬液 3 1次供給管 4 中継タンク 5 ドレイン管 6 オートバルブ 7 送液ポンプ 8 流量計 9 2次供給管 10 セーフテイハイレベル液面センサ 11 ハイレベル液面センサ 12 ローレベル液面センサ 13 セーフテイローレベル液面センサ 14 気泡 21 第1の中継タンク 21a 第1の中継タンクの蓋 21b 第1の中継タンクの排気口 22 第1ドレイン管 23 脱気フィルタ 24 第1のオートバルブ 25 脱気バルブ 26 第1の脱気遮蔽板 27 ハイレベル液面センサ 28 ミドルレベル液面センサ 29 ローレベル液面センサ 30 第2の脱気遮蔽板。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】通い容器からの薬液を一旦中継タンクに貯
    留し、前記通い容器にガスを圧入することで当該薬液を
    中継タンクに圧送し、前記中継タンクから送液ポンプを
    用いてユースポイントへ前記薬液を供給する薬液供給装
    置において、 前記中継タンクは、前記通い容器に一次供給管を介して
    接続されてタンク上方から薬液が供給されるごとく構成
    した第1の中継タンクと、第1の中継タンクの後段に接
    続して前記第1の中継タンクの液面下側から液面の下方
    に薬液が注入されるごとく構成した第2の中継タンクと
    からなり、 前記第2の中継タンクに貯留した薬液を当該第2の中継
    タンクの下側から送液ポンプによりユースポイントへ送
    液することを特徴とする薬液供給装置。
  2. 【請求項2】前記第1の中継タンクの内部に薬液中に混
    入した気泡を除去するための脱気遮蔽板を設置し、前記
    第1の中継タンクと第2の中継タンクの間に薬液中に混
    入した気泡を除去するための脱気フィルタを設置したこ
    とを特徴とする請求項1に記載の薬液供給装置。
  3. 【請求項3】前記第2の中継タンクはハイレベル液面セ
    ンサとローレベル液面センサを有し、前記ローレベル液
    面センサの下方に前記薬液の流入口を位置させたことを
    特徴とする請求項1に記載の薬液供給装置。
JP27732197A 1997-10-09 1997-10-09 薬液供給装置 Pending JPH11121422A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27732197A JPH11121422A (ja) 1997-10-09 1997-10-09 薬液供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27732197A JPH11121422A (ja) 1997-10-09 1997-10-09 薬液供給装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11121422A true JPH11121422A (ja) 1999-04-30

Family

ID=17581913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27732197A Pending JPH11121422A (ja) 1997-10-09 1997-10-09 薬液供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11121422A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100706793B1 (ko) * 2005-08-03 2007-04-12 삼성전자주식회사 케미컬 공급 장치 및 케미컬 공급 방법
JP2013079821A (ja) * 2011-09-30 2013-05-02 Mitsubishi Heavy Industries Mechatronics Systems Ltd クエンチタンク及び液体金属ループ
KR101677382B1 (ko) * 2015-07-27 2016-11-17 주식회사 포스코 부취가스 제거장치
US9702018B2 (en) 2013-02-27 2017-07-11 Mitsubishi Heavy Industries Mechatronics Systems, Ltd. Quench tank and liquid metal loop
CN112174082A (zh) * 2019-07-04 2021-01-05 上海新微技术研发中心有限公司 易挥发液态化学品供应系统及供应方法
CN114849598A (zh) * 2022-06-06 2022-08-05 宿州汉泰化工有限公司 五氯化磷生产反应器

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100706793B1 (ko) * 2005-08-03 2007-04-12 삼성전자주식회사 케미컬 공급 장치 및 케미컬 공급 방법
JP2013079821A (ja) * 2011-09-30 2013-05-02 Mitsubishi Heavy Industries Mechatronics Systems Ltd クエンチタンク及び液体金属ループ
US9702018B2 (en) 2013-02-27 2017-07-11 Mitsubishi Heavy Industries Mechatronics Systems, Ltd. Quench tank and liquid metal loop
KR101677382B1 (ko) * 2015-07-27 2016-11-17 주식회사 포스코 부취가스 제거장치
CN112174082A (zh) * 2019-07-04 2021-01-05 上海新微技术研发中心有限公司 易挥发液态化学品供应系统及供应方法
CN114849598A (zh) * 2022-06-06 2022-08-05 宿州汉泰化工有限公司 五氯化磷生产反应器
CN114849598B (zh) * 2022-06-06 2023-06-02 宿州汉泰化工有限公司 五氯化磷生产反应器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7685963B2 (en) Method of and apparatus for dispensing photoresist in manufacturing semiconductor devices or the like
US6312597B1 (en) Apparatus for delivering ultra-low particle counts in semiconductor manufacturing
KR100819095B1 (ko) 포토스피너설비의 분사제어장치
US20080169230A1 (en) Pumping and Dispensing System for Coating Semiconductor Wafers
JP2005538902A (ja) 超高純度液体中の粒子の生成を最小限にするための装置および方法
US5900045A (en) Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line
US20060207777A1 (en) System and method for supplying functional water
KR100610023B1 (ko) 포토스피너설비의 분사불량 제어장치
JPH11121422A (ja) 薬液供給装置
KR100780936B1 (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
CN114695181A (zh) 基板处理方法和基板处理装置
KR100934364B1 (ko) 약액 공급 장치
KR100904462B1 (ko) 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법
KR20070007450A (ko) 케미컬 필터상태 검출장치
JP2007125545A (ja) 排水処理装置
JP3283190B2 (ja) レジスト処理装置及びレジスト処理方法
KR102689988B1 (ko) 처리액 탱크 및 이를 포함하는 기판 처리장치
JP2555971B2 (ja) 薬液供給装置およびその制御方法
JP3442263B2 (ja) 液供給機構、液処理装置および液処理方法
KR200269976Y1 (ko) 반도체 제조 공정에서의 포토레지스트 공급장치
KR20050106663A (ko) 반도체 제조공정의 액상 화학물질 공급 시스템
KR20060065188A (ko) 반도체 코팅설비의 포토레지스트 분사장치
KR19980015776U (ko) 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치
JPH0857205A (ja) 脱気装置
KR200268292Y1 (ko) 백린스플로우에러 제거용 반도체 웨이퍼코터