KR19980015776U - 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치 - Google Patents
반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR19980015776U KR19980015776U KR2019960029045U KR19960029045U KR19980015776U KR 19980015776 U KR19980015776 U KR 19980015776U KR 2019960029045 U KR2019960029045 U KR 2019960029045U KR 19960029045 U KR19960029045 U KR 19960029045U KR 19980015776 U KR19980015776 U KR 19980015776U
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chemical liquid
- thinner
- semiconductor device
- line
- tank
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 67
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 50
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
본 고안은 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너를 저장탱크로 공급하기 위한 이송과정에서 신너에 혼입된 기포가 자동적으로 제거되도록 하므로써 트랙 시스템에서 웨이퍼 상면에 기포가 형성되지 않도록 하여 기포에 의한 패턴 형성 불량을 방지할 수 있도록 한 것이다.
이를 위해, 본 고안은 포토공정이 이루어지는 트랙 시스템(1)으로 신너를 공급하는 약액 공급 시스템의 탱크 저장용 약액라인(2) 상에 설치된 약액 이송용 펌프(3)와 필터(4) 사이의 라인상에 약액 내의 기포를 제거하기 위한 기포제거수단을 설치하여서 된 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치이다.
Description
본 고안은 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너(thinner)를 약액 저장용 탱크로 공급시 신너 내에 혼입된 기포를 제거할 수 있도록 한 것이다.
종래의 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치는 도 1에 나타낸 바와 같이, 대차에 실린 상태로 수납부(도시는 생략함)에 수납된 신너 드럼(11)내의 약액을 각 저장탱크로 보내는 탱크 저장용 약액라인(2)과, 트랙공정 공급용 약액라인(14), 질소가스 공급라인(15a)(15b), 저장탱크A/B(12a)(12b)내의 질소가스를 배출시키도록 각각 연결되는 질소가스 배기라인(16), 약액 이송용 펌프(3), 이물 제거용 필터(4) 및 상기 탱크 저장용 약액라인(2) 및 트랙공정 공급용 약액라인(14) 상에 설치되는 복수개의 자동 및 수동밸브로 구성된다.
이와 같이 구성된 종래에는 신너 드럼(11) 내에 들어있는 약액이 펌핑방식에 의해 저장탱크로 이송되며, 저장탱크에서 포토 공정이 진행되는 트랙 시스템(1)으로는 약액이 질소가스 가압방식에 의해 이송되는데, 이 과정을 예를 들어 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 저장탱크A/B(12a)(12b) 중 하나의 저장탱크A를 이용하여 트랙 시스템으로 신너 공급을 완료한 후에는, 탱크 내부의 질소가스를 퍼지(Purge)시키기 위해 저장탱크A(12a)에 연결된 제8자동밸브(17)를 열어 탱크 내의 공기를 배기시키므로서 탱크내의 압력을 낮춘다.
이는 저장탱크A(12a) 내부의 압력을 낮추어 약액이 저장탱크 내로 유입될 수 있도록 하기 위함이다.
이때, 상기 저장탱크A/B(12a)(12b)에 연결된 트랙공정 공급용 약액라인(14)의 제3 자동밸브(18) 및 질소가스 공급라인(15a)의 제6자동밸브(19)는 닫힌 상태이다.
그 후, 저장탱크A(12a) 내부의 압력이 대기압 상태로 낮아진 후에는 에어로 구동되는 약액 이송용 펌프(3)를 작동시켜 신너 드럼(11)의 약액을 저장탱크A(12a)로 보낸다.
이때, 저장탱크A(12a)로 이송되는 약액의 양에 비례하여 신너 드럼(11) 내의 압력은 저하되므로 이를 방지하기 위해 탱크 저장용 약액라인(2)의 제1수동밸브(20)를 열어 질소가스를 신너 드럼(11) 내로 주입하게 되며, 탱크 저장용 약액라인(2) 상에 설치된 제2·제3수동밸브(21)(22)와 제1·제2자동밸브(23)(24)가 개방되어 신너 드럼(11) 내의 약액이 탱크 저장용 약액라인(2)을 따라 저장탱크A(12a)로 이송된다.
한편, 약액이 공급됨에 따라 저장탱크A(12a) 내의 위치가 점점 높아져 저장탱크 A의 고수위 레벨에 도달하면 액위 검출 센서(25)가 이를 검출하여 이송용 펌프(3)를 오프시키므로써 약액의 저장탱크A(12a)로의 이송이 중단되는 반면, 제6자동밸브(19)가 열려 저장탱크A(12a) 내의 압력이 설정된 압력이 될 때까지 질소가스가 저장탱크A 내부로 공급된다.
또한, 질소가스의 공급에 의해 저장탱크A(12a) 내부의 압력이 설정값이 되면 약액의 트랙 시스템(1)으로 공급하기 위한 준비가 완료된다.
그리고, 포토 공정이 진행되는 트랙 시스템(1) 으로 약액이 공급될 때에는, 트랙공정 공급용 약액라인(12)에 설치된 제3자동밸브(18)가 열리면서 고압측인 저장탱크A에 들어 있는 약액이 트랙공정 공급용 약액라인(12)을 따라 이송되어 저압측인 트랙 시스템(1)으로 공급된다.
한편, 저장탱크A 내의 수위가 저수위로 떨어지면 제3자동밸브(18)가 닫혀 저장탱크A(12a)에 들어있는 약액의 트랙 시스템(1)으로의 공급이 중단되는 대신, 저장탱크B(12b)에 연결된 트랙공정 공급용 약액라인(12) 상의 제5자동밸브(26)가 열려 저장탱크B(12b)의 약액이 트랙 시스템(1)으로 공급된다.
그러나, 이와 같은 종래의 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치는 약액 내에 존재하는 기포가 제거되지 않은 상태로 저장탱크A/B(2a)(2b) 내로 유입된 후, 트랙 시스템(1)으로 공급시 분사노즐(도시는 생략함)을 통하여 웨이퍼 상면에 분사되므로써 미세한 기포를 웨이퍼 상면에 형성하게 된다.
이로 인해, 노광시 기포가 형성된 웨이퍼 상면에는 패턴이 형성되지 못하므로 인해 불량칩을 발생시켜 반도체소자의 수율을 저하시키게 되는 등 많은 문제점이 있었다.
본 고안은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 공급시 약액내에 혼입된 기포를 탱크 저장용 약액라인 상에서 제거하여 트랙 시스템으로의 공급시, 웨이퍼 상면에 기포가 형성되지 않도록 하므로써 기포에 기인한 반도체소자의 불량을 미연에 방지할 수 있도록 한 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 고안은 포토공정이 이루어지는 트랙 시스템으로 신너를 공급하는 약액 공급 시스템의 탱크 저장용 약액라인 상에 설치된 약액 이송용 펌프와 필터 사이의 라인상에 약액 내의 기포를 제거하기 위한 기포제거수단을 설치하여서 된 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치이다.
도 1 은 종래의 포토 공정용 신너 자동 공급장치를 나타낸 구성도
도 2 는 본 고안에 따른 포토 공정용 자동 공급장치를 나타낸 구성도
도 3 은 도 2의 기포 유입차단판을 나타낸 사시도
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 : 트랙 시스템2 : 탱크 저장용 약액라인
3 : 약액 이송용 펌프4 : 필터
5 : 배기관6 : 아웃 튜브
7 : 인너 튜브8 : 자동제어밸브
9 : 레벨 센서10 : 기포 유입차단판
이하, 본 고안의 일 실시예를 첨부도면 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2 는 본 고안에 따른 포토 공정용 신너 자동 공급장치를 나타낸 구성도이고, 도 3 은 도 2의 기포 유입차단판을 나타낸 사시도로서, 본 고안은 포토공정이 이루어지는 트랙 시스템(1)으로 신너를 공급하는 약액 공급 시스템의 탱크 저장용 약액라인(2)상에 설치된 약액 이송용 펌프(3)와 필터(4) 사이의 라인상에 약액 내의 기포를 제거하기 위한 기포제거수단이 설치되어 구성된다.
이때, 상기 기포제거수단은 탱크 저장용 약액라인(2)을 따라 유입된 약액이 일정액면으로 채워지며 상단 일측에 배기관(5)이 형성되는 아웃 튜브(6)와, 상기 아웃 튜브(6)를 관통하도록 설치되어 탱크 저장용 약액라인(2)에 연결되는 인너 튜브(7)와, 상기 아웃 튜브(6) 상단의 배기관(5)을 개폐하도록 설치되는 자동제어밸브(8)와, 상기 아웃 튜브(6)의 유입구와 배기관(5) 사이에 설치되는 레벨 센서(9)와, 상기 인너 튜브(7) 하단부 가장자리의 아웃 튜브(6) 내주면 상에 고정되어 기포가 인너 튜브(7)로 유입되는 현상을 방지하는 기포 유입차단판(10)으로 구성된다.
이와 같이 구성된 본 고안에 따른 포토 공정용 약액 공급 장치의 저장탱크로의 약액 저장 과정 및 트랙 시스템(1)으로의 약액 공급 과정은 전술한 바와 동일하므로 생략하고 약액 내의 혼입된 기포 제거작용을 주로 하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 약액 이송용 펌프(3)를 자동시켜 약액을 신너 드럼(11)에서 저장탱크A(12a) 또는 저장탱크B(12b)로 이송시킬 경우, 탱크 저장용 약액라인(2)을 통해 기포 제거수단을 구성하는 유입구(13)을 통해 아웃 튜브(6) 내로 약액이 유입되어 아웃 튜브(6)내부를 채우게 된다.
이때, 아웃 튜브(6)의 유입구(13)를 통해 들어온 약액 내의 기포는 아웃 튜브(6)의 액면 상부의 공간으로 모이게 된다.
한편, 아웃 튜브(6)의 액면 상부 공간에 모여 있던 기포는 약액 펌핑시 일정 수위에서 자동제어밸브(8)가 개방됨에 따라 배기관(5)을 통해 대기압 상태인 외부로 빠져나가게 된다.
이때, 기포제거수단의 아웃 튜브(6)에는 레벨 센서(9)가 설치되어 있으므로 기포가 아웃 튜브(6)내의 배기관(5)을 빠져나감에 따라 상승하는 약액의 수위가 레벨 센서(9)의 검출수위에 도달할 경우, 이를 감지하여 배기관(5)을 닫아 약액이 배기관(5)으로 누출되는 현상을 방지하게 된다.
따라서, 본 고안은 약액내의 기포를 완전하게 제거하여 약액 저장탱크로 보내므로써 트랙 시스템(1)으로의 약액 공급시 웨이퍼 상면에 형성된 기포로 인한 웨이퍼 노광불량을 미연에 방지하여 반도체소자의 수율을 향상시킬 수 있게 된다.
본 고안은 반도체소자 제조를 위한 포토 공정에 공급되는 신너 내에 혼입된 기포를 저장탱크로 이송하는 과정에서 완전히 제거할 수 있게 된다.
이에 따라, 트랙 시스템(1)에서의 포토 공정 진행시 웨이퍼 상면에 기포가 형성되지 않도록 하므로써 기포로 인한 반도체소자 불량 발생을 방지하여 반도체소자 제조용 포토 공정의 공정 수율을 향상시킬 수 있게 된다.
Claims (2)
- 포토공정이 이루어지는 트랙 시스템으로 신너를 공급하는 약액 공급 시스템의 탱크 저장용 약액라인 상에 설치된 약액 이송용 펌프와 필터 사이의 라인상에 약액 내의 기포를 제거하기 위한 기포제거수단을 설치하여서 된 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 기포제거수단은 탱크 저장용 약액라인을 따라 유입된 약액이 일정액면으로 채워지며 상단 일측에 배기관이 형성되는 아웃 튜브와,상기 아웃 튜브를 관통하도록 설치되어 탱크 저장용 약액라인에 연결되는 인너 튜브와,상기 아웃 튜브 상단의 배기관을 개폐하도록 설치되는 자동제어밸브와,상기 아웃 튜브의 유입구와 배기관 사이에 설치되는 레벨 센서와,상기 인너 튜브 하단부 가장자리의 아웃 튜브 내주면 상에 고정되어 기포가 인너 튜브 유입을 차단하는 기포 유입차단판으로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019960029045U KR19980015776U (ko) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019960029045U KR19980015776U (ko) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980015776U true KR19980015776U (ko) | 1998-06-25 |
Family
ID=53975824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019960029045U KR19980015776U (ko) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR19980015776U (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990001552A (ko) * | 1997-06-16 | 1999-01-15 | 윤종용 | 반도체장치 제조용 스피너의 배관구조 |
| KR100780936B1 (ko) * | 2001-09-07 | 2007-12-03 | 삼성전자주식회사 | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 |
-
1996
- 1996-09-12 KR KR2019960029045U patent/KR19980015776U/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990001552A (ko) * | 1997-06-16 | 1999-01-15 | 윤종용 | 반도체장치 제조용 스피너의 배관구조 |
| KR100780936B1 (ko) * | 2001-09-07 | 2007-12-03 | 삼성전자주식회사 | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7685963B2 (en) | Method of and apparatus for dispensing photoresist in manufacturing semiconductor devices or the like | |
| KR100577563B1 (ko) | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치 | |
| KR100610023B1 (ko) | 포토스피너설비의 분사불량 제어장치 | |
| KR19980015776U (ko) | 반도체소자 제조를 위한 포토 공정용 신너 자동 공급장치 | |
| KR100280011B1 (ko) | 반도체장치 제조용 기포분리기와 이를 적용한 액체공급장치 및 그 구동방법 | |
| KR100780936B1 (ko) | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 | |
| KR100934364B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
| JPH0770507B2 (ja) | 半導体ウエハ用洗浄装置 | |
| KR20070107226A (ko) | 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급장치 및 그에 따른공급방법 | |
| JPH11121422A (ja) | 薬液供給装置 | |
| KR100904462B1 (ko) | 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법 | |
| KR100598914B1 (ko) | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 | |
| JP2968948B2 (ja) | 半導体フォトリソグラフィ工程の現像液供給システム | |
| JP3283190B2 (ja) | レジスト処理装置及びレジスト処理方法 | |
| KR20040062279A (ko) | 스핀 코팅 장치의 포토레지스트 공급 시스템 및 공급 방법 | |
| JP3206745B2 (ja) | 液供給装置 | |
| KR20050013687A (ko) | 포토레지스트 공급시스템 | |
| KR200269976Y1 (ko) | 반도체 제조 공정에서의 포토레지스트 공급장치 | |
| KR200153640Y1 (ko) | 포토레지스트 공급 장치 | |
| KR20020074835A (ko) | 반도체소자 제조용 포토레지스트 공급장치 | |
| KR0121510Y1 (ko) | 버블 제거수단이 장착된 감광액 제거장치 | |
| KR200268292Y1 (ko) | 백린스플로우에러 제거용 반도체 웨이퍼코터 | |
| KR20070007450A (ko) | 케미컬 필터상태 검출장치 | |
| KR20050108483A (ko) | 포토레지스트 도포 장치 | |
| JP3120782B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |