JP3206745B2 - 液供給装置 - Google Patents
液供給装置Info
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- JP3206745B2 JP3206745B2 JP14119099A JP14119099A JP3206745B2 JP 3206745 B2 JP3206745 B2 JP 3206745B2 JP 14119099 A JP14119099 A JP 14119099A JP 14119099 A JP14119099 A JP 14119099A JP 3206745 B2 JP3206745 B2 JP 3206745B2
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- Japan
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- processing liquid
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- container
- liquid
- processing
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液供給装置に係り、
特に半導体製造のフォトリソグラフィー工程のレジスト
塗布装置、現像処理装置に好適に用いられる液供給装置
に関わる。
特に半導体製造のフォトリソグラフィー工程のレジスト
塗布装置、現像処理装置に好適に用いられる液供給装置
に関わる。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体製造のフォトリソグラフ
ィー工程では半導体ウェハ上に積層される薄膜にパター
ンを形成するのに、薄膜上にレジストを塗布し、パター
ンに形成されたマスクを通して露光、現像後エッチング
をして薄膜にパターンを転写している。このようなパタ
ーン形成において、レジストあるいは現像液は一度気体
が混入すると、泡沫となって長時間滞在し、このような
泡沫の混入したレジストあるいは現像液を半導体ウェハ
にスピンコートしても気泡は消えずに残ってしまい、ピ
ンホール、塗布むらが生じてしまった。
ィー工程では半導体ウェハ上に積層される薄膜にパター
ンを形成するのに、薄膜上にレジストを塗布し、パター
ンに形成されたマスクを通して露光、現像後エッチング
をして薄膜にパターンを転写している。このようなパタ
ーン形成において、レジストあるいは現像液は一度気体
が混入すると、泡沫となって長時間滞在し、このような
泡沫の混入したレジストあるいは現像液を半導体ウェハ
にスピンコートしても気泡は消えずに残ってしまい、ピ
ンホール、塗布むらが生じてしまった。
【０００３】そのため、レジスト等の収納容器から送出
されるレジストを一度トラップに導入したり（特開昭５
６−１６１５３９号公報）、あるいは配管中に障害物を
配設し気泡を潰し障害物を設けた位置の配管壁に設けた
穴から脱気したり（特開昭６１−１７４７１９号公
報）、あるいはエア抜きボートを備えたフィルタを設け
たり（特開昭６３−１１０６３６号公報）、空気抜きを
設けたり（特開昭６１−１９８７２３号公報）してい
た。
されるレジストを一度トラップに導入したり（特開昭５
６−１６１５３９号公報）、あるいは配管中に障害物を
配設し気泡を潰し障害物を設けた位置の配管壁に設けた
穴から脱気したり（特開昭６１−１７４７１９号公
報）、あるいはエア抜きボートを備えたフィルタを設け
たり（特開昭６３−１１０６３６号公報）、空気抜きを
設けたり（特開昭６１−１９８７２３号公報）してい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の装置を用いても脱泡は十分に行うことができなかっ
た。そのため、半導体ウェハ上に形成されるレジスト薄
膜や現像液の薄膜が均一に一定にならず、気泡の存在す
る部分だけ現像速度が変化してしまい現像斑等の処理む
らとなってしまった。
の装置を用いても脱泡は十分に行うことができなかっ
た。そのため、半導体ウェハ上に形成されるレジスト薄
膜や現像液の薄膜が均一に一定にならず、気泡の存在す
る部分だけ現像速度が変化してしまい現像斑等の処理む
らとなってしまった。
【０００５】本発明は上記の欠点を解消するためになさ
れたものであつて、処理液の脱気を行い処理むらを防止
すると共に、効率よく処理を行う液供給装置を提供する
ことを目的とする。
れたものであつて、処理液の脱気を行い処理むらを防止
すると共に、効率よく処理を行う液供給装置を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の液供給装置は、一定量の処理液を収納する
複数の収納容器と、複数の収納容器に接続され、複数の
収納容器のうち一つの収納容器を加圧し、一つの収納容
器内に収納された処理液を所定の量だけ吐出するよう制
御する処理液加圧手段と、複数の収納容器に処理液を供
給する処理液の供給系と、複数の収納容器から被処理体
に処理液を吐出する処理液の吐出系と、処理液の供給系
と複数の収納容器との間及び複数の収納容器と処理液の
吐出系との間を接続し、処理液加圧手段が作動したとき
は処理液を流す液流路と、複数の収納容器に接続され、
処理液加圧手段による処理液の吐出が停止されている複
数の収納容器のうち一つの収納容器を負圧にして収納容
器内の処理液中に含有された気体を収納容器外へ吸引し
て除去する脱気手段とを備えたものである。
め、本発明の液供給装置は、一定量の処理液を収納する
複数の収納容器と、複数の収納容器に接続され、複数の
収納容器のうち一つの収納容器を加圧し、一つの収納容
器内に収納された処理液を所定の量だけ吐出するよう制
御する処理液加圧手段と、複数の収納容器に処理液を供
給する処理液の供給系と、複数の収納容器から被処理体
に処理液を吐出する処理液の吐出系と、処理液の供給系
と複数の収納容器との間及び複数の収納容器と処理液の
吐出系との間を接続し、処理液加圧手段が作動したとき
は処理液を流す液流路と、複数の収納容器に接続され、
処理液加圧手段による処理液の吐出が停止されている複
数の収納容器のうち一つの収納容器を負圧にして収納容
器内の処理液中に含有された気体を収納容器外へ吸引し
て除去する脱気手段とを備えたものである。
【０００７】更に、本発明の液供給装置は、複数の収納
容器のうち第１の収納容器内の処理液のみを吐出させ所
定量の処理液が消費された後複数の収納容器のうち第２
の収納容器内の処理液のみを吐出するように制御すると
共に、第２の収納容器内の処理液が所定量消費される前
に第１の収納容器へ処理液の充填を開始し、充填された
処理液の脱気を行った後、空気と非接触状態で放置する
ように制御するものであり、望ましくは、収納容器への
処理液の充填の際に、収納容器内の気体を除去しつつ行
うものであり、また、複数の収納容器にそれぞれ配管を
介して接続され、配管内の気体を吸引することで収納容
器内の処理液中に含有された気体を除去するエジェクタ
を具備したものである。
容器のうち第１の収納容器内の処理液のみを吐出させ所
定量の処理液が消費された後複数の収納容器のうち第２
の収納容器内の処理液のみを吐出するように制御すると
共に、第２の収納容器内の処理液が所定量消費される前
に第１の収納容器へ処理液の充填を開始し、充填された
処理液の脱気を行った後、空気と非接触状態で放置する
ように制御するものであり、望ましくは、収納容器への
処理液の充填の際に、収納容器内の気体を除去しつつ行
うものであり、また、複数の収納容器にそれぞれ配管を
介して接続され、配管内の気体を吸引することで収納容
器内の処理液中に含有された気体を除去するエジェクタ
を具備したものである。
【０００８】処理液供給系から供給される処理液を収納
する複数の収納容器のうち一つの収納容器中の処理液を
処理液加圧手段により吐出系へ供給し、所定量消費され
た後、他の収納容器から被処理体への処理液の吐出を開
始すると共に、所定量の処理 液が消費された収納容器へ
処理液を充填する。充填後、収納容器を負圧にして処理
液の脱気を行う脱気装置により脱気した後、放置し脱気
済の処理液を収納容器に接続された吐出系へ送出し被処
理体へ吐出する。そのため、被処理体へ吐出を連続して
行うことができ、処理むらのないフォトリソグラフィー
を効率よく行い、高品位な製品が得られる。
する複数の収納容器のうち一つの収納容器中の処理液を
処理液加圧手段により吐出系へ供給し、所定量消費され
た後、他の収納容器から被処理体への処理液の吐出を開
始すると共に、所定量の処理 液が消費された収納容器へ
処理液を充填する。充填後、収納容器を負圧にして処理
液の脱気を行う脱気装置により脱気した後、放置し脱気
済の処理液を収納容器に接続された吐出系へ送出し被処
理体へ吐出する。そのため、被処理体へ吐出を連続して
行うことができ、処理むらのないフォトリソグラフィー
を効率よく行い、高品位な製品が得られる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の液供給装置を半導体製造
の現像装置に適用した一実施例を図面を参照して説明す
る。
の現像装置に適用した一実施例を図面を参照して説明す
る。
【００１０】図１に示す現像装置１は、真空吸着等によ
って被処理体であるウェハ２を載置固定し、モータ３の
回転軸に固定される上面円板状のチャック４を備える。
チャック４の周囲にはチャック４を包囲するようにカッ
プ５が設けられ、回転するウェハ２の周縁から余剰の処
理液である現像液が周囲に飛散するのを防止している。
さらにカップ５の下方にはカップ５ではね返った現像液
が再びウェハ２上に付着するのを防止するため、カップ
５の下方に向って気体流を形成するよう図示しない排気
装置に接続される排気口等が設けられる。また、カップ
５はウェハ３をチャック４上に図示しない搬送機構によ
り搬入出する際、図の位置より下降してウェハ２の搬入
出を容易にするよう図示しない上下動機構を備える。こ
のようなチャック４を包囲するカップ５を備えたディベ
ロッパが例えば３組Ａ、Ｂ、Ｃ設けられる。そしてそれ
ぞれのチャック４上のウェハ２に現像液を吐出する吐出
ノズル６を備え、吐出ノズル６が接続される吐出系７、
図示しない工場ラインから現像液を複数の収納容器８に
供給する処理液の供給系９及び収納容器８に収納される
現像液に混入される気体を除去する脱気装置１０がそれ
ぞれ収納容器８に設けられる。
って被処理体であるウェハ２を載置固定し、モータ３の
回転軸に固定される上面円板状のチャック４を備える。
チャック４の周囲にはチャック４を包囲するようにカッ
プ５が設けられ、回転するウェハ２の周縁から余剰の処
理液である現像液が周囲に飛散するのを防止している。
さらにカップ５の下方にはカップ５ではね返った現像液
が再びウェハ２上に付着するのを防止するため、カップ
５の下方に向って気体流を形成するよう図示しない排気
装置に接続される排気口等が設けられる。また、カップ
５はウェハ３をチャック４上に図示しない搬送機構によ
り搬入出する際、図の位置より下降してウェハ２の搬入
出を容易にするよう図示しない上下動機構を備える。こ
のようなチャック４を包囲するカップ５を備えたディベ
ロッパが例えば３組Ａ、Ｂ、Ｃ設けられる。そしてそれ
ぞれのチャック４上のウェハ２に現像液を吐出する吐出
ノズル６を備え、吐出ノズル６が接続される吐出系７、
図示しない工場ラインから現像液を複数の収納容器８に
供給する処理液の供給系９及び収納容器８に収納される
現像液に混入される気体を除去する脱気装置１０がそれ
ぞれ収納容器８に設けられる。
【００１１】このような吐出系７、処理液供給系９及び
脱気装置１０を図２の構成図に示す。図示しない工場ラ
インに接続される処理液供給系９は収納容器８−１、８
−２、８−３にそれぞれ供給バルブ９１、９２及び９３
を介して液流路である配管１１により接続される。収納
容器８−１、８−２及び８−３にはそれぞれ流量検出計
８１、８２及び８３が設けられ、処理液供給系９から収
納容器に供給される現像液１２がオーバーフローした場
合を検知してオーバーフロータンク２０に排出できる機
構を備える。例えば収納容器８−１に現像液１２が過剰
に供給されると配管２２と配管１５を連結させる３方弁
１７を開き、フィルタ１８、バルブ１９を介してオーバ
ーフロータンク２０に連結させ、余剰の現像液を流出さ
せる。収納容器８−２及び８−３についても同様に配管
２１または１３を３方弁１６によりどちらかを配管１４
に接続し、それぞれオーバーフロータンク２０に接続す
るようになっている。オーバーフロータンク２０にはオ
ーバーフローセンサ２３が設けられ、バルブ２４を介し
て工場排水に接続されるようになっている。
脱気装置１０を図２の構成図に示す。図示しない工場ラ
インに接続される処理液供給系９は収納容器８−１、８
−２、８−３にそれぞれ供給バルブ９１、９２及び９３
を介して液流路である配管１１により接続される。収納
容器８−１、８−２及び８−３にはそれぞれ流量検出計
８１、８２及び８３が設けられ、処理液供給系９から収
納容器に供給される現像液１２がオーバーフローした場
合を検知してオーバーフロータンク２０に排出できる機
構を備える。例えば収納容器８−１に現像液１２が過剰
に供給されると配管２２と配管１５を連結させる３方弁
１７を開き、フィルタ１８、バルブ１９を介してオーバ
ーフロータンク２０に連結させ、余剰の現像液を流出さ
せる。収納容器８−２及び８−３についても同様に配管
２１または１３を３方弁１６によりどちらかを配管１４
に接続し、それぞれオーバーフロータンク２０に接続す
るようになっている。オーバーフロータンク２０にはオ
ーバーフローセンサ２３が設けられ、バルブ２４を介し
て工場排水に接続されるようになっている。
【００１２】また、収納容器８−１、８−２及び８−３
にはそれぞれ配管２５、２６、２７に設けられた逆止弁
２８及び液フィルタ２９を介してそれぞれパージバルブ
３０、３１及び３２、フローメータ３３を介し、レギュ
レータ３４から処理液加圧手段である窒素ガス供給系３
５が接続される。
にはそれぞれ配管２５、２６、２７に設けられた逆止弁
２８及び液フィルタ２９を介してそれぞれパージバルブ
３０、３１及び３２、フローメータ３３を介し、レギュ
レータ３４から処理液加圧手段である窒素ガス供給系３
５が接続される。
【００１３】一方、脱気装置１０は、例えば配管３６を
介してエア供給体３７に接続されるエジェクタであっ
て、配管３６には逆止弁３８、脱気ソレノイド３９、レ
ギュレータ４０等が設けられる。エジェクタ１０には配
管４７を介して脱気３方弁４１、４２、４３に接続され
た配管４４、４５、４６にそれぞれ連結される収納容器
８−１、８−２及び８−３が接続される。さらにエジェ
クタ１０には配管７１が接続され、配管３６から配管７
１に空気流が生じると、配管４７が負圧になり配管７１
に向って配管４７の気体が吸引されるようになってい
る。そのため、脱気３方弁４１、４２、４３の操作によ
り配管４７に連結される収納容器の何れかの中の気体が
吸引されるようになっている。脱気３方弁４１、４２、
４３には工場排気に接続される配管４８が接続され、収
納容器８−１、８−２、８−３がそれぞれ工場排気ある
いはエジェクタ１０に接続できるよう切換可能となって
いる。尚、後述するように、この工場排気に接続される
配管４８が接続される３方弁４１、４２、４３により、
収納容器に処理液を充填する際に収納容器内の気体の除
去を可能とし、また、この３方弁４１、４２、４３によ
り、窒素ガス供給系３５に接続された収納容器８−１、
８−２、８−３と配管４８とを接続し、収納容器内の処
理液の脱気後放置する際に処理液を空気と非接触とする
ことが可能となっている。脱気エジェクタ１０はトラッ
プタンク４９からオーバーフロータンク２０に接続され
る。
介してエア供給体３７に接続されるエジェクタであっ
て、配管３６には逆止弁３８、脱気ソレノイド３９、レ
ギュレータ４０等が設けられる。エジェクタ１０には配
管４７を介して脱気３方弁４１、４２、４３に接続され
た配管４４、４５、４６にそれぞれ連結される収納容器
８−１、８−２及び８−３が接続される。さらにエジェ
クタ１０には配管７１が接続され、配管３６から配管７
１に空気流が生じると、配管４７が負圧になり配管７１
に向って配管４７の気体が吸引されるようになってい
る。そのため、脱気３方弁４１、４２、４３の操作によ
り配管４７に連結される収納容器の何れかの中の気体が
吸引されるようになっている。脱気３方弁４１、４２、
４３には工場排気に接続される配管４８が接続され、収
納容器８−１、８−２、８−３がそれぞれ工場排気ある
いはエジェクタ１０に接続できるよう切換可能となって
いる。尚、後述するように、この工場排気に接続される
配管４８が接続される３方弁４１、４２、４３により、
収納容器に処理液を充填する際に収納容器内の気体の除
去を可能とし、また、この３方弁４１、４２、４３によ
り、窒素ガス供給系３５に接続された収納容器８−１、
８−２、８−３と配管４８とを接続し、収納容器内の処
理液の脱気後放置する際に処理液を空気と非接触とする
ことが可能となっている。脱気エジェクタ１０はトラッ
プタンク４９からオーバーフロータンク２０に接続され
る。
【００１４】また、吐出系７には、デベロッパＡ、Ｂあ
るいはＣに現像液を供給する液流路である配管５０、５
１、５２が接続され、この配管５０、５１、５２と連結
される収納容器を収納容器８−３から収納容器８−２へ
切換えるための吐出３方弁５３、５４、５５及び収納容
器８−１と切換えるための吐出３方弁５６、５７、５８
が設けられる。さらに吐出３方弁５６、５７、５８とデ
ベロッパＡ、Ｂ、Ｃ間にはそれぞれベローズポンプ５
９、６０、６１が設けられ、ベローズポンプ５９、６
０、６１を駆動させるためのエアを供給するため、ベロ
ーズポンプ５９、６０、６１のそれぞれとエア供給体３
７を接続するエア供給弁６２、６３、６４がレギュレー
タ６５を介して接続される。さらにベローズポンプ５
９、６０、６１の作動開始時に動きを滑らかにするため
の始動を行う間に現像液がデベロッパＡ、Ｂ、Ｃに吐出
されないよう循環用３方弁６６、６７、６８がそれぞれ
ベローズポンプ５９、６０、６１とデベロッパＡ、Ｂ、
Ｃ間に備えられ、循環用３方弁６６、６７、６８をそれ
ぞれ切換えることにより、ベローズポンプ５９、６０、
６１が逆止弁６９、ニードルバルブ７０を介して所望の
収納容器に接続されるよう３方弁１６、１７を切換えて
所望の収納容器に現像液を戻すようになっている。さら
に、吐出系７には吐出ノズル６からウェハ２上に現像液
滴下後に吐出ノズル６に残存する現像液の液だれを防止
するため、残存する現像液を吸引するためのサックバッ
クや配管５０、５１及び５２を適温に暖めるための温度
調整用のウォータジャケット等（図示せず）が設けられ
る。
るいはＣに現像液を供給する液流路である配管５０、５
１、５２が接続され、この配管５０、５１、５２と連結
される収納容器を収納容器８−３から収納容器８−２へ
切換えるための吐出３方弁５３、５４、５５及び収納容
器８−１と切換えるための吐出３方弁５６、５７、５８
が設けられる。さらに吐出３方弁５６、５７、５８とデ
ベロッパＡ、Ｂ、Ｃ間にはそれぞれベローズポンプ５
９、６０、６１が設けられ、ベローズポンプ５９、６
０、６１を駆動させるためのエアを供給するため、ベロ
ーズポンプ５９、６０、６１のそれぞれとエア供給体３
７を接続するエア供給弁６２、６３、６４がレギュレー
タ６５を介して接続される。さらにベローズポンプ５
９、６０、６１の作動開始時に動きを滑らかにするため
の始動を行う間に現像液がデベロッパＡ、Ｂ、Ｃに吐出
されないよう循環用３方弁６６、６７、６８がそれぞれ
ベローズポンプ５９、６０、６１とデベロッパＡ、Ｂ、
Ｃ間に備えられ、循環用３方弁６６、６７、６８をそれ
ぞれ切換えることにより、ベローズポンプ５９、６０、
６１が逆止弁６９、ニードルバルブ７０を介して所望の
収納容器に接続されるよう３方弁１６、１７を切換えて
所望の収納容器に現像液を戻すようになっている。さら
に、吐出系７には吐出ノズル６からウェハ２上に現像液
滴下後に吐出ノズル６に残存する現像液の液だれを防止
するため、残存する現像液を吸引するためのサックバッ
クや配管５０、５１及び５２を適温に暖めるための温度
調整用のウォータジャケット等（図示せず）が設けられ
る。
【００１５】このような構成の現像装置の動作を説明す
る。
る。
【００１６】まず処理液供給系９から収納容器に現像液
１２を充填する方法を説明する。例えば、収納容器８−
１に現像液１２を充填するのは供給バルブ９２及び９３
を閉成し、供給バルブ９１を開成する。そして脱気３方
弁４１を操作して工場排気に接続される配管４８と配管
４４を連結させる。これにより収納容器８−１内の気体
が工場排気へ排気され、処理液供給系９から現像液１２
が収納容器８−１内に充填される。この時、収納容器８
−１の中の液面がハイレベルとなり、現像液が過剰に供
給されたことを液量検出計８１が検知すると３方弁１７
を操作して配管２２と配管１５を連結させ、バルブ１９
を開成し、さらにパージバルブ３０を開いて窒素ガス供
給系３５から収納容器８−１に窒素ガスを圧送すること
により余剰の現像液をオーバーフロータンク２０に排出
させる。オーバーフロータンク２０の液面の高さが高く
なったことをオーバーフローセンサ２３が検出するとバ
ルブ２４を開いて排出させる。このように収納容器８−
２、８−３についても供給バルブ９２あるいは９３及び
脱気３方弁４２あるいは４３を操作して同様に現像液の
供給を行うことができる。
１２を充填する方法を説明する。例えば、収納容器８−
１に現像液１２を充填するのは供給バルブ９２及び９３
を閉成し、供給バルブ９１を開成する。そして脱気３方
弁４１を操作して工場排気に接続される配管４８と配管
４４を連結させる。これにより収納容器８−１内の気体
が工場排気へ排気され、処理液供給系９から現像液１２
が収納容器８−１内に充填される。この時、収納容器８
−１の中の液面がハイレベルとなり、現像液が過剰に供
給されたことを液量検出計８１が検知すると３方弁１７
を操作して配管２２と配管１５を連結させ、バルブ１９
を開成し、さらにパージバルブ３０を開いて窒素ガス供
給系３５から収納容器８−１に窒素ガスを圧送すること
により余剰の現像液をオーバーフロータンク２０に排出
させる。オーバーフロータンク２０の液面の高さが高く
なったことをオーバーフローセンサ２３が検出するとバ
ルブ２４を開いて排出させる。このように収納容器８−
２、８−３についても供給バルブ９２あるいは９３及び
脱気３方弁４２あるいは４３を操作して同様に現像液の
供給を行うことができる。
【００１７】次に収納容器内の現像液に混入した気体を
脱気する方法を説明する。収納容器８−１から脱気をす
るにはパージバルブ３０を閉じて窒素ガス供給系３５か
らの窒素ガス供給を停止させる。その後脱気ソレノイド
３９を開いて配管３６からエジェクタ１０にエアを送風
し配管７１に空気流を生じさせ配管４７を負圧にする。
この時脱気３方弁４１を操作して配管４４と配管４７を
接続させ、収納容器８−１から脱気を行う。収納容器８
−１から霧状となって吸引される現像液はトラップタン
ク４９に集められ、オーバーフロータンク２０に送られ
る。エジェクタ１０により積極的に脱気された現像液は
しばらく放置されてさらに脱気を行う。この時収納容器
８−１には窒素ガス供給系３５からパージバルブ３０を
開くことにより、配管４４から脱気３方弁４１を通り配
管４８に接続して工場排気系に排気するよう窒素ガスを
吹きつけ、現像液が空気に接触しないようにする。
脱気する方法を説明する。収納容器８−１から脱気をす
るにはパージバルブ３０を閉じて窒素ガス供給系３５か
らの窒素ガス供給を停止させる。その後脱気ソレノイド
３９を開いて配管３６からエジェクタ１０にエアを送風
し配管７１に空気流を生じさせ配管４７を負圧にする。
この時脱気３方弁４１を操作して配管４４と配管４７を
接続させ、収納容器８−１から脱気を行う。収納容器８
−１から霧状となって吸引される現像液はトラップタン
ク４９に集められ、オーバーフロータンク２０に送られ
る。エジェクタ１０により積極的に脱気された現像液は
しばらく放置されてさらに脱気を行う。この時収納容器
８−１には窒素ガス供給系３５からパージバルブ３０を
開くことにより、配管４４から脱気３方弁４１を通り配
管４８に接続して工場排気系に排気するよう窒素ガスを
吹きつけ、現像液が空気に接触しないようにする。
【００１８】収納容器中の脱気が終了した現像液をデベ
ロッパに吐出する第一の工程を行う。まず、収納容器８
−１、８−２、８−３のいずれかから吐出するかを選択
し、例えば収納容器８−１を選択し、吐出３方弁５６、
５７、５８を開き収納容器８−１と配管５０、５１、５
２を接続する。この時吐出３方弁５３、５４、５５は閉
成し収納容器８−２、８−３からの供給は停止させる。
そして、エア供給体３７からのエアをベローズポンプ５
９、６０、６１に供給し、ベローズポンプ５９、６０、
６１を選択的に駆動させるためエア供給弁６２、６３、
６４を開閉させる。エア供給弁６２、６３、６４を所望
のタイミングで開閉するようにすれば、配管５０、５
１、５２からデベロッパＡ、Ｂ、Ｃに所望のタイミング
で所定量の現像液が供給される。この時ベローズポンプ
５９、６０、６１の作動開始時にベローズポンプ５９、
６０、６１の動作が滑らかになるまでの約２秒間程はデ
ベロッパＡ、Ｂ、Ｃに現像液が送出されないよう循環３
方弁６６、６７、６８を切換え、３方弁１７を収納容器
８−１に接続して収納容器８−１に現像液を戻すように
する。同様に収納容器８−２についても吐出３方弁５
３、５４、５５を操作してデベロッパＡ、Ｂ、Ｃに吐出
することができ、収納容器８−２の現像液が消費される
と、収納容器８−３についても同様に行うことができ
る。収納容器８−１、収納容器８−３から現像液をデベ
ロッパＡ、Ｂ、Ｃに供給する際の各弁の開閉のタイミン
グチャートをそれぞれ図３及び図４に示す。
ロッパに吐出する第一の工程を行う。まず、収納容器８
−１、８−２、８−３のいずれかから吐出するかを選択
し、例えば収納容器８−１を選択し、吐出３方弁５６、
５７、５８を開き収納容器８−１と配管５０、５１、５
２を接続する。この時吐出３方弁５３、５４、５５は閉
成し収納容器８−２、８−３からの供給は停止させる。
そして、エア供給体３７からのエアをベローズポンプ５
９、６０、６１に供給し、ベローズポンプ５９、６０、
６１を選択的に駆動させるためエア供給弁６２、６３、
６４を開閉させる。エア供給弁６２、６３、６４を所望
のタイミングで開閉するようにすれば、配管５０、５
１、５２からデベロッパＡ、Ｂ、Ｃに所望のタイミング
で所定量の現像液が供給される。この時ベローズポンプ
５９、６０、６１の作動開始時にベローズポンプ５９、
６０、６１の動作が滑らかになるまでの約２秒間程はデ
ベロッパＡ、Ｂ、Ｃに現像液が送出されないよう循環３
方弁６６、６７、６８を切換え、３方弁１７を収納容器
８−１に接続して収納容器８−１に現像液を戻すように
する。同様に収納容器８−２についても吐出３方弁５
３、５４、５５を操作してデベロッパＡ、Ｂ、Ｃに吐出
することができ、収納容器８−２の現像液が消費される
と、収納容器８−３についても同様に行うことができ
る。収納容器８−１、収納容器８−３から現像液をデベ
ロッパＡ、Ｂ、Ｃに供給する際の各弁の開閉のタイミン
グチャートをそれぞれ図３及び図４に示す。
【００１９】このような収納容器８−１内の現像液の供
給を行う第一の工程が終了すると、図５に示すように、
収納容器８−２内の現像液の供給を行うと同時に収納容
器８−１へ現像液の充填及び脱気、脱気後放置する第二
の工程が行われ、第一の工程と、第二の工程を各収納容
器について順次行うことにより、収納容器からデベロッ
パへの現像液の吐出は中断なく行うことができる。
給を行う第一の工程が終了すると、図５に示すように、
収納容器８−２内の現像液の供給を行うと同時に収納容
器８−１へ現像液の充填及び脱気、脱気後放置する第二
の工程が行われ、第一の工程と、第二の工程を各収納容
器について順次行うことにより、収納容器からデベロッ
パへの現像液の吐出は中断なく行うことができる。
【００２０】以上の説明は現像装置に適用した実施例に
ついて述べたが、処理液の塗布であればレジスト液で
も、磁性材料でも何れの塗布に適用できる。
ついて述べたが、処理液の塗布であればレジスト液で
も、磁性材料でも何れの塗布に適用できる。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の液供給装置は、収納容器に充填された処理液に混入
された気体を除去して処理むらを防止できる。収納容器
への処理液供給と、収納容器中の処理液に混入された気
体の脱気と、吐出系への吐出が順次弁を操作することに
より休止することなく行なわれ効率のよい製造を行うこ
とができる。そのため得られる製品も低価でしかも高品
位なものとすることができる。
明の液供給装置は、収納容器に充填された処理液に混入
された気体を除去して処理むらを防止できる。収納容器
への処理液供給と、収納容器中の処理液に混入された気
体の脱気と、吐出系への吐出が順次弁を操作することに
より休止することなく行なわれ効率のよい製造を行うこ
とができる。そのため得られる製品も低価でしかも高品
位なものとすることができる。
【図１】本発明の液供給装置を適用した一実施例の構成
図。
図。
【図２】図１に示す一実施例の要部を示す図。
【図３】図１に示す一実施例の工程図。
【図４】図１に示す一実施例の工程図。
【図５】図１に示す一実施例のシーケンスを示す図。
１・・・・・・現像装置（液処理装置） ２・・・・・・ウェハ（被処理体） ７・・・・・・吐出系 ８−１、８−２、８−３・・・・・・収納容器 ９・・・・・・処理液供給系 １０・・・・・・脱気装置 １１・・・・・・配管（液流路） ５０、５１、５２・・・・・・配管（流路）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ // Ｂ０５Ｃ 11/08 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ ５６９Ｚ (56)参考文献 特開 昭63−97222（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−163460（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−37923（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 B01D 19/00 101 B05C 11/10 G03F 7/16 501 G03F 7/30 501 B05C 11/08
Claims (4)
- 【請求項１】一定量の処理液を収納する複数の収納容器
と、前記複数の収納容器に接続され、前記複数の収納容
器のうち一つの収納容器を加圧し、前記一つの収納容器
内に収納された前記処理液を所定の量だけ吐出するよう
制御する処理液加圧手段と、前記複数の収納容器に前記
処理液を供給する処理液の供給系と、前記複数の収納容
器から被処理体に前記処理液を吐出する前記処理液の吐
出系と、前記処理液の供給系と前記複数の収納容器との
間及び前記複数の収納容器と前記処理液の吐出系との間
を接続し、前記処理液加圧手段が作動したときは前記処
理液を流す液流路と、前記複数の収納容器に接続され、
前記処理液加圧手段による前記処理液の吐出が停止され
ている前記複数の収納容器のうち一つの前記収納容器を
負圧にして前記収納容器内の前記処理液中に含有された
気体を前記収納容器外へ吸引して除去する脱気手段とを
備えたことを特徴とする液供給装置。 - 【請求項２】前記複数の収納容器のうち第１の収納容器
内の前記処理液のみを吐出させ所定量の前記処理液が消
費された後前記複数の収納容器のうち第２の収納容器内
の前記処理液のみを吐出するように制御すると共に、前
記第２の収納容器内の前記処理液が所定量消費される前
に前記第１の収納容器へ前記処理液の充填を開始し、充
填された前記処理液の脱気を行った後、空気と非接触状
態で放置するように制御することを特徴とする請求項１
記載の液供給装置。 - 【請求項３】前記収納容器への前記処理液の充填の際
に、前記収納容器内の気体を除去しつつ行うことを特徴
とする請求項１記載の液供給装置。 - 【請求項４】前記脱気装置は、前記複数の収納容器にそ
れぞれ配管を介して接続され、前記配管内の気体を吸引
することで前記収納容器内の前記処理液中に含有された
気体を除去するエジェクタを具備したことを特徴とする
請求項１乃至４の何れか１項 記載の液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14119099A JP3206745B2 (ja) | 1999-05-21 | 1999-05-21 | 液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14119099A JP3206745B2 (ja) | 1999-05-21 | 1999-05-21 | 液供給装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32841290A Division JP3150690B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 薬液処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000031038A JP2000031038A (ja) | 2000-01-28 |
| JP3206745B2 true JP3206745B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=15286264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14119099A Expired - Lifetime JP3206745B2 (ja) | 1999-05-21 | 1999-05-21 | 液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3206745B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW382749B (en) * | 1996-12-24 | 2000-02-21 | Tokyo Electron Ltd | Liquid supplying device |
| JP6370567B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2018-08-08 | エイブリック株式会社 | 現像装置 |
| JP6222118B2 (ja) * | 2015-01-09 | 2017-11-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液濾過装置、薬液供給装置及び処理液濾過方法並びに記憶媒体 |
-
1999
- 1999-05-21 JP JP14119099A patent/JP3206745B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000031038A (ja) | 2000-01-28 |
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Legal Events
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