JP2005538902A - 超高純度液体中の粒子の生成を最小限にするための装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
多くの業界で、超高純度液体中の粒子の数および粒度を制御して、純度を確保する必要がある。特に、超高純度液体は超小型電子製品製造プロセスの多くの態様で使用されているため、半導体メーカーは、プロセス薬品および化学処理機器に関する厳密な粒子濃度仕様を確立した。これらの仕様は、製造プロセスの改善と共により厳密になり続けている。こうした仕様は必要であり、つまり、製造プロセスで使用される流体が高レベルの粒子を含む場合、これらの粒子は固体表面上に蒸着するからである。その結果、製品が不完全になるか、またはさらに意図した目的に使用できなくなる可能性がある。
本発明は、液体中に生成される粒子の量を最小限にするように、容器に超高純度液体を充填するシステムおよび方法に関する。容器中における空気−液体界面の存在は、液体中に観察される粒子濃度を増加させることが分かった。本発明は、液体を充填、搬送および容器から分配する時の空気−液体界面を最小限にするシステムおよび方法に関する。
図1は、容器に超高純度液体を充填するための標準上部充填装置の図である。図1には、容器1と、液体2と、スピゴット3と、充填ライン4と、バルブ5と、超高純度液体源6とが示されている。バルブ5は、充填ライン4上の超高純度液体源6とスピゴット3との間に位置する。バルブ5が開くと、超高純度液体2はスピゴット3において容器1に入る。スピゴットは、容器1の上部にある開口部上に位置する。
図2は、液体2中の粒子濃度を低下させる図1の充填システムの変形を示す。図2には、充填ライン4に接続されたスピゴット3と、バルブ5と、超高純度液体源6とを備え、図1に類似する容器7が示されている。しかし、図1のシステムと違って、図2の充填システムは、スピゴット3に接続された充填管8をさらに備える。充填管8は水没先端9で終端し、容器7の内部容積内に下方に延在し水没先端9は容器7の底部付近に位置する。
図3は、超高純度液体のパッケージに使用される別のタイプの容器を示す。図3の容器10は、剛性外側容器12と、圧潰可能なライナ14と、中間領域16と、浸漬管18と、付属部品20とを備える。容器10に充填する標準的な方法は、ライナ14を剛性の外側容器12内に挿入することである。次に、ライナ14が外側容器12を圧迫するまで、ライナ14を膨張させる。ライナ14が膨張したら、容器10に液体を従来の方法で充填する。
図8Aおよび8Bは、ノズル170を使用して超高純度液体を分配する2つの方法を比較する図である。図8Aには、液体を容器172内に排出するノズル170が示されている。ノズル170は充填ライン174に接続され、充填ライン174は超高純度液体源176に接続され、バルブ178により調整される。排出ノズル170は容器172上に位置するため、液体がノズル170から排出される時、液体は容器172内の開放槽上に噴霧される。その結果、空気が混入して、容器172に液体を充填する時に空気−液体界面領域が増加する。
本発明のもう1つの態様は、堰から溢出領域へ溢出した液体中における粒子の生成を最小限にすることに関する。これは、堰と溢出領域における水位との間の距離を最小限にすることにより達成される。図10Aおよび10Bは、堰の溢出距離の減少という概念を示す。図10Aには、堰212を有し、液体が堰の上から溢出トラフまたは水溜め214内に溢出する再循環槽210が示されている。溢出トラフ214は、液体を槽システム内で再循環させるための再循環ポンプ218に接続する。再循環ポンプ218は、液体をフィルタ220から逆に再循環槽210内に楊送する。
図14は、サイフォンの一般的な方法の図である。図14には、充填管272を備えるタンク270が示されている。充填管272には、超高純度水源276からタンク内に入る流れを調節して、水を水源276から水再利用領域278に迂回させる3方バルブ274が接続される。タンク270には、サイフォン管280および粒子サンプル管282も接続される。最後に、容量センサ284をタンク270上に配置する。
部分的に充填された容器を揺動すると、液体中に高い粒子濃度が生じる。この同じ現象は、容器を搬送する時に見られることが多い。何種類かの液体をパッケージする場合、容器内の液体が膨張することができるように、容器内にある量のヘッドスペースを残すことが必要であるか、または望ましい。このヘッドスペースを設けるため、容器には細大容量まで充填するのではなく、ある量の空気が液体の上部と容器の上部との間に存在するレベルまで充填する。容器を搬送する時、容器内の液体は、このヘッドスペースにより容器内で飛散して揺動する。粒子の生成を減少させるもう1つの方法は、充填後にヘッドスペースの空気を容器から除去し、容器内の空気−液体界面を減少させるか、または排除し、その結果として、容器の搬送またはその他の移動時における粒子の生成を最小限にすることである。
同一ロットの酸化物スラリOS−70KL材料(コネチカット州、ダンベリー(Danbury,CT)のATMIマテリアルズライフサイクルソリューションズ(ATMI Materials Lifecycle Solutions))から、OS−70KL材料を含む数種類のサンプルガラス瓶を構成し、本明細書および同時係属米国特許出願[ATMI代理人名簿番号522CIP]および[ATMI代理人名簿番号565]に一般に図示および説明されているタイプのドラム容器内の袋中における液体の挙動をシミュレートした。これらの特許出願は、ライナの内部容積におけるヘッドスペースを変更して、引用することにより本明細書に全体を援用する。
Claims (45)
- 超高純度液体の処理時における粒子の生成を最小限にする方法であって、
液体を容器内に導入する工程と、
前記液体中で生成される粒子の量を最小限にするように、空気-液体界面を制御する工程と、を含む方法。 - 前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、前記空気−液体界面を制御して、約0.2μmの粒度を有する粒子の場合、1mL当たり約2粒子未満の粒子濃度を達成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、
ライナを剛性容器内部に設ける工程と、
前記ライナ中のいかなる空気をも除去するように、前記ライナを圧潰する工程と、
前記圧潰ライナに、前記超高純度液体を充填する工程と、
を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記ライナを圧潰する工程は、
前記ライナを圧潰するように、前記ライナと前記剛性容器との間の中間領域を加圧する工程と、
前記ライナが圧潰する時に、前記ライナ内部の空気が出て行くことを可能にするように前記ライナを排気する工程と、
を含む、請求項3に記載の方法。 - 前記ライナを圧潰した後、前記ライナを封止する工程をさらに含む、請求項4に記載の方法。
- 前記圧潰ライナに充填する工程は、
前記ライナに液体を供給する工程と、
前記ライナに液体が充填される時に、前記中間領域を排気する工程と、
を含む、請求項4に記載の方法。 - 前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、
ライナを剛性容器内部に設ける工程と、
残留ヘッドスペースが前記ライナ内に存在するように、最大容量未満まで前記ライナに液体を充填する工程と、
前記ライナと前記剛性容器との間の領域を加圧して、前記ヘッドスペースの空気を排出して、前記ヘッドスペースを減らす工程と、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、
残留ヘッドスペースが前記ライナ内に存在するように、最大容量未満まで前記ライナに液体を充填する工程と、
不活性空気袋を前記ヘッドスペース内に挿入して、前記ヘッドスペースを減少させる工程と、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記液体を前記容器内に導入する工程は、前記液体を堰から水溜めに溢出させる工程を含み、前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、前記堰と前記水溜め内の水位との間の溢出距離を減少させる工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、
前記液体を前記容器内に導入するように、浸漬管を使用するする工程と、
前記液体を前記容器内に導入する時に、前記浸漬管の先端を前記液体中に水没させる工程と、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、
液体を前記容器内に導入するように、ノズルを使用する工程と、
前記液体を前記容器内に導入する時に、前記ノズルを前記液体中に水没させる工程と、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記容器は第1容器であり、液体を前記容器内に導入する工程は、前記液体を第2容器から前記第1容器内にサイフォンで移す工程を含み、前記液体中に生成される粒子の数を最小限にするように、空気−液体界面を制御する工程は、サイフォン作用が中断しないように前記サイフォンを制御する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記超高純度液体は、酸、塩基、有機溶剤、フォトリソグラフィー薬品、CMPスラリおよびLCD市販化学薬品からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 超高純度液体の処理時に、前記液体中の粒子の生成を最小限にする方法であって、
初期粒子濃度を有する液体を第1の位置から第2の位置に搬送する工程と、
前記液体が前記第2位置にある時の前記液体の最終粒子濃度が、前記初期粒子濃度を実質的に超えないように、搬送時の空気−液体界面を制御する工程と、
を含む方法。 - 前記液体を第1位置から第2位置に搬送する工程は、浸漬管を使用して液体源から容器に充填する工程を含む、請求項14に記載の方法。
- 前記容器の充填時に前記空気−液体界面を制御する工程は、前記浸漬管の先端を前記容器内の液体中に水没させる工程を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記液体を第1位置から第2位置に搬送する工程は、ノズルを介して液体を容器内に導入する工程を含む、請求項14に記載の方法。
- 前記空気−液体界面を制御する工程は、前記容器内の液体に前記ノズルを水没させる工程を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記液体を第1位置から第2位置に搬送する工程は、液体が堰から溢出して槽から水溜め内に入ることを可能にする工程を含む、請求項14に記載の方法。
- 搬送時の前記空気−液体界面を制御する工程は、前記堰と、前記水溜め内に位置する液体の表面との間の溢出距離を最小限にする工程を含む、請求項19に記載の方法。
- 前記液体を第1位置から第2位置に搬送する工程は、液体を第1位置から第2位置にサイフォンで移す工程を含む、請求項14に記載の方法。
- 搬送時の前記空気−液体界面を制御する工程は、サイフォン作用が中断しないように前記サイフォンを制御する工程を含む、請求項21に記載の方法。
- 前記サイフォンを制御する工程は、前記サイフォンがサイフォン作用を中断しないように、前記第1容器内の液体の水位を制御する工程を含む、請求項22に記載の方法。
- 前記液体を第1位置から第2位置に搬送する工程は、第1容器を液体源から充填する工程を含み、前記第1容器は、剛性容器内に配置されたライナを含む、請求項14に記載の方法。
- 液体を充填した後の前記第1容器内の液体は、粒度が0.2μmの粒子の場合、1mL当たり約2粒子未満の粒子濃度を有する、請求項24に記載の方法。
- 前記空気−液体界面を制御する工程は、
前記ライナ内の空気を除去するように、前記ライナを圧潰する工程と、
前記ライナに前記液体源から液体を供給することによって、前記圧潰ライナに液体を充填し、前記ライナに液体が充填される時に、前記ライナと前記剛性容器との間に位置する中間領域を排気する工程と、
を含む、請求項25に記載の方法。 - 前記液体を前記ライナから分配するように、前記中間領域を加圧して、前記第1容器から前記液体を分配する工程をさらに含む、請求項26に記載の方法。
- 前記液体を前記第1容器から分配する工程は、前記液体を前記第1容器から第2容器に搬送する工程を含み、前記第2容器は、剛性容器内に配置されたライナを含む、請求項27に記載の方法。
- 前記第1容器のライナを前記第2容器のライナに接続する工程と、
前記ライナ内の空気を除去するように、前記第2容器内のライナを圧潰する工程と、
前記液体を前記第1容器のライナから前記第2容器のライナに移動させるように、前記第1容器の中間領域を加圧する工程と、
前記第2容器のライナに前記第1容器のライナから液体が充填される時に、前記第2容器内の前記ライナと前記剛性容器との間に位置する中間領域を排気する工程と、
をさらに含む、請求項28に記載の方法。 - 前記空気−液体界面を制御する工程は、
残留ヘッドスペースが前記ライナ内に存在するように、最大容量未満まで前記ライナに液体を充填する工程と、
前記ヘッドスペースの空気を排出するように、前記ライナと前記剛性容器との間の領域を加圧して、前記ヘッドスペースを減らす工程と、
を含む、請求項24に記載の方法。 - 前記空気−液体界面を制御する工程は、
残留ヘッドスペースが前記容器内に存在するように、最大容量未満まで前記容器に液体を充填する工程と、
不活性空気袋を前記ヘッドスペース内に挿入することにより、前記ヘッドスペースを減少させる工程と、
を含む、請求項14に記載の方法。 - 超高純度液体中における粒子の生成を減少させる、超高純度液体を処理するためのシステムであって、
初期粒子濃度を有する液体を第1位置から第2位置に搬送するための手段と、
前記液体の最終粒子濃度が前記初期粒子濃度を実質的に超えないように、前記液体の搬送時の空気−液体界面を制御する手段と、
を含むシステム。 - 前記空気−液体界面を制御する手段は、水没先端を有する浸漬管を備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記空気−液体界面を制御する手段は、水没ノズルを備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記液体を搬送する手段は、堰によって水溜めから分離される再循環槽を備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記空気−液体界面を制御する手段は、前記堰と、前記水溜め内の液体の水位との間の距離を減少させる手段を備える、請求項35に記載のシステム。
- 前記空気−液体界面を制御する手段は、混入空気によりサイフォン作用を中断しないように前記サイフォンを制御するスマートサイフォンシステムを備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記最終粒子濃度は、粒度が0.2μmの粒子の場合、1mL当たり約2粒子未満である、請求項31に記載のシステム。
- 前記空気−液体界面を制御する手段は、
剛性外側容器および圧潰可能ライナを有する容器と、
前記ライナ内のいかなる空気をも除去するように、前記ライナを圧潰する手段と、
前記圧潰ライナを充填するために前記ライナに接続された液体源と、
前記ライナに液体が充填される時に、前記ライナと前記剛性外側容器との間に位置する中間領域を排気するための手段と、を備える、請求項38に記載のシステム。 - 前記ライナを圧潰する手段は、
前記中間領域を加圧するために前記容器に接続された空気源と、
前記ライナが圧潰される時に、前記ライナ内の空気が出て行くことを可能にする、前記ライナを排気する排気口と、を備える、請求項39に記載のシステム。 - 前記ライナと前記剛性外側容器との間の前記中間領域を加圧することにより、前記液体を前記容器から分配する手段を、さらに備える、請求項39に記載のシステム。
- 前記空気−液体界面を制御する手段は、前記容器に液体が充填された後に、前記容器内のヘッドスペースを減少させる手段を備える、請求項31に記載のシステム。
- ヘッドスペースを減少させる前記手段は、不活性空気袋を備える、請求項42に記載のシステム。
- 前記不活性空気袋は、前記ヘッドスペース内に位置する、請求項43に記載の方法。
- 前記不活性空気袋は、前記ライナと前記剛性容器との間に位置する、請求項43に記載の方法。
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