JP2011167405A - アイソレータおよび細胞自動培養装置、ならびにアイソレータの滅菌処理方法 - Google Patents

アイソレータおよび細胞自動培養装置、ならびにアイソレータの滅菌処理方法 Download PDF

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Abstract

【課題】滅菌ガスが取り扱われるアイソレータにおいて、周囲環境に対する安全性をさらに向上させる。
【解決手段】アイソレータの作業空間内のガスを第1の循環流路を用いて、循環用フィルタを介して循環させながら、作業空間内に滅菌ガスを供給して、作業空間の滅菌処理を行い、所定時間経過後、滅菌ガスの供給を停止するとともに、第1の循環流路を第2の循環流路に切り替えて、第2の循環流路に配置された無害化装置にガスを通過させることで、循環されるガス中に含まれる滅菌ガスを無害化し、アイソレータの作業空間を高いレベルにて無菌環境とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、その内部に無菌環境とされた作業空間が形成されるアイソレータに関し、特に、作業空間内を滅菌処理により無菌環境とされた無菌環境空間として、無菌環境空間内にて細胞自動培養を行う細胞自動培養装置に関する。
アイソレータの内部に形成される作業空間では、例えば細胞培養などの作業を行うため、無菌環境であることが求められる。作業空間内の無菌環境を確保するために、アイソレータでは、HEPAフィルタなどのパーティクル除去用フィルタを介して、作業空間内に清浄空気を供給するとともに、作業空間内の空気を、HEPAフィルタを介して排気するような構成が採用されている。また、作業空間内における細胞培養操作などの作業を開始する前、あるいは作業を完了した後には、過酸化水素ガスなどの滅菌ガスを作業空間に供給することで、滅菌処理が行われている。このような滅菌処理が行われた後、作業空間内に残存する滅菌ガスを含む空気は、HEPAフィルタを通じて供給される外部空気と置換されることにより、作業空間内に無菌環境が形成される(例えば、特許文献1参照)。
特開2009−226048号公報
特許文献1では、所定の滅菌処理が行われた後、作業空間内に残存する滅菌ガスを含む空気を、HEPAフィルタを通じて供給される外部空気と置換させる置換処理を行っている。作業空間内の空気は、滅菌物質除去フィルタ36を通過することで滅菌物質の除去が行われて、作業空間外へ排出(放出)される。そのため、滅菌物質除去フィルタ36を通過した後の空気中に含まれる滅菌物質の濃度が、所定の基準値未満(例えば、1ppm未満)となるように、滅菌物質除去フィルタ36における空気の流速を設定する必要がある。このように作業空間外部へ排出される空気の流量に制限があるため、置換工程に要する時間を大幅に短縮させることができないという課題がある。
このような滅菌物質などを取り扱う各種装置では、その周囲環境などに対する安全性に関する各種規準を遵守する仕様が採用されているが、近年、このような安全性をさらに向上させることが求められている。
従って、本発明の一の目的は、上記課題を解決することにあって、アイソレータの内部に形成される作業空間において、滅菌処理後の作業空間の無害化に要する時間を短縮することができるアイソレータの滅菌処理方法およびアイソレータ、ならびに細胞自動培養装置を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、滅菌ガスが取り扱われるアイソレータにおいて、周囲環境に対する安全性をさらに向上させることができるアイソレータの滅菌処理方法およびアイソレータ、ならびに細胞自動培養装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
本発明の第1態様によれば、作業空間と、作業空間へガスを給気する給気部および作業空間よりガスを排気する排気部と連通され、作業空間内のガスを循環させる循環流路と、循環流路の途中に配置された循環用フィルタおよび循環用送風機と、作業空間に滅菌ガスを供給する滅菌ガス供給装置とを備え、前記循環流路は、作業空間の滅菌処理を実施する際に、ガスの循環用に使用される第1の循環流路と、滅菌処理の実施後の滅菌ガスの無害化処理を実施する際に、ガスの循環用に使用される第2の循環流路と、第1の循環流路と第2の循環流路とを切り替える流路切替部とを備え、第2の循環流路に配置され、循環されるガス中に含まれる滅菌ガスを無害化する無害化装置をさらに備える、アイソレータを提供する。
本発明の第2態様によれば、作業空間を作業空間の外部と連通する外部連通流路と、外部連通流路の途中に配置されたフィルタとをさらに備える、第1態様に記載のアイソレータを提供する。
本発明の第3態様によれば、外部連通流路の途中に配置され、外部連通流路を通じて作業空間内のガスを外部に排気する排気用送風機と、作業空間内の圧力を検出する圧力検出手段と、滅菌処理を実施する際に、圧力検出手段の検出結果に基づいて、作業空間内の圧力の上昇を抑制するように、排気用送風機によるガスの排気流量を調節する排気用流量調節手段とを備える、第2態様に記載のアイソレータを提供する。
本発明の第4態様によれば、外部連通流路の途中に配置され、排気されるガス中に含まれる滅菌ガスを分解する分解装置をさらに備える、第3態様に記載のアイソレータを提供する。
本発明の第5態様によれば、滅菌ガスは過酸化水素を含むガスであり、無害化装置は過酸化水素を水および酸素に分解する触媒を含み、作業空間内または循環流路に配置され、循環するガスを冷却して凝縮させる冷却装置をさらに備える、第1態様から第3態様のいずれか1つに記載のアイソレータを提供する。
本発明の第6態様によれば、第1態様から第5態様のいずれか1つに記載のアイソレータにおける作業空間を、滅菌処理により滅菌された無菌環境空間とし、無菌環境空間内に配置され、無菌環境空間内にて細胞培養操作を行うロボットをさらに備える、細胞自動培養装置を提供する。
本発明の第7態様によれば、無菌環境空間内に無菌化されたガスを供給する無菌化ガス供給手段と、細胞培養を実施する際に、無菌環境空間内の圧力を正圧に保つように、無菌化ガス供給手段による無菌化ガスの供給流量を調節する細胞培養処理用の供給用流量調節手段とをさらに備える、第6態様に記載の細胞自動培養装置を提供する。
本発明の第8態様によれば、アイソレータの作業空間内のガスを第1の循環流路を用いて、循環用フィルタを介して循環させながら、作業空間内に滅菌ガスを供給して、作業空間の滅菌処理を行い、所定時間経過後、滅菌ガスの供給を停止するとともに、第1の循環流路を第2の循環流路に切り替えて、第2の循環流路に配置された無害化装置にガスを通過させることで、循環されるガス中に含まれる滅菌ガスを無害化する、アイソレータの滅菌処理方法を提供する。
本発明によれば、次のような効果を得ることができる。
まず、作業空間内への滅菌ガスの供給工程では、作業空間内に滅菌ガスを供給しながら滅菌ガスを第1の循環経路にて循環させているため、循環系全体の滅菌に必要な量の滅菌ガスを均一に行き渡らせることができる。
さらに、滅菌処理終了後、作業空間内に残存する滅菌ガスの無害化工程では、循環経路を第1の循環経路から第2の循環経路へと切り替えて、第2の循環流路に設けられている滅菌ガスの無害化装置を用いて、内部循環される滅菌ガスを含むガスの無害化処理を行うことができる。その際、特に、無害化装置は循環系内に配置されているため、その下流経路にて残留するガス濃度の制限がなく、可能な限り循環流速を速めることができる。よって、作業空間および循環経路内に残存する滅菌ガスの無害化処理に要する時間を、大幅に短縮することができる。
また、このような無害化処理は、作業空間および循環流路が作業空間外部に対して実質的に密閉された系(すなわち、クローズドのシステム)にて行われるため、アイソレータ周囲環境に対する安全性をさらに向上させることができる。
本発明の第1実施形態にかかるアイソレータの模式図 第1実施形態のアイソレータにおける滅菌処理および無害化処理の手順のフローチャート 第1実施形態のアイソレータにて滅菌処理が行われている状態の模式説明図 第1実施形態のアイソレータにて無害化処理が行われている状態の模式説明図 本発明の第2実施形態にかかるアイソレータの模式図 第2実施形態の変形例にかかるアイソレータの模式図 本発明の第3実施形態にかかる細胞自動培養装置の模式図
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態にかかるアイソレータ10の主要な構成を図1の模式図に示す。なお、図1では、本第1実施形態のアイソレータ10における滅菌処理および滅菌処理後の滅菌ガスの無害化処理に関する主要な構成を示すものであり、アイソレータ10の内部の作業空間に配置される作業装置などの構成については図示していない。
図1に示すように、アイソレータ10は、実質的に密閉された作業空間11と、作業空間11の天井面に設けられた給気部12と、床面に設けられた排気部13とに連通され、作業空間11内の雰囲気ガス(以降、単に「ガス」とする。)を循環させる循環流路14と、循環流路14の途中に配置され、循環流路14を通じて作業空間11内のガスを循環させる循環ファン(循環用送風機)15と、循環流路14における給気部12に設けられたHEPAフィルタ(循環用フィルタ)16とを備えている。
作業空間11は、例えば、耐食性に優れかつクリーン仕様のステンレスパネルを用いて形成され、作業空間11内の密閉性を確保するためにシール部材などを用いて繋ぎ部分が封止されている。また、循環流路14は、作業空間11の天井パネル、側壁パネル、床パネルの一部を利用したエアダクト構造として形成されている。給気部12は、作業空間11の天井部分において、HEPAフィルタ16のサイズに合わせて形成されている。排気部13は、例えば、作業空間11の床上に配置されたパンチングメタルにより形成されている。循環ファン15は、例えば、作業空間11の天井部分における循環流路14内に配置されている。
このようにアイソレータ10が構成されていることにより、排気部13より排気された作業空間11内のガスを、循環流路14を通して給気部12へ送り、給気部12にてHEPAフィルタ16を通過させることで、ガス中に含まれる微細な塵埃や細菌などのパーティクルを除去し、クリーンなガスを作業空間11内に給気するように、作業空間11内のガスを循環させることができる。作業空間11の容積に対して、例えば、300回/時間のガスの循環を行うことで、クラス100レベルのクリーン度を得ることができる。なお、作業空間11内全体のガスの循環を効率的に行うために、給気部12と排気部13とは、その天井面および床面において、広範囲かつ均等に配置されることが望ましい。
本第1実施形態のアイソレータ10の作業空間11は、無菌環境とすることが求められる。ここで無菌環境とは、作業空間にて行われる作業に必要な物質が限りなく取り除かれた状態を言い、ガス中のパーティクルの量が所定量以下に保たれたクリーン環境に加えて、ウィルスや細菌などが限りなく存在しない環境のことを言う。このような無菌環境を実現するために、作業空間11の滅菌処理が行われる。ここで、滅菌とは、微生物はもちろん、ウィルスや細菌を、タンパク質レベルまで完全に死滅させることを言う。
このような滅菌処理を行うために、作業空間11内には、滅菌ガスを供給する滅菌ガス供給装置が配置されている。具体的には、滅菌ガスとしては、例えば、過酸化水素ガスが用いられ、収容されている過酸化水素水に対して超音波振動を付与することで、微細化された過酸化水素水ミストを作業空間11内に噴霧する超音波ミスト発生器17が、滅菌ガス供給装置として採用されている。なお、超音波ミスト発生器17に収容される過酸化水素水は、その取り扱い性を考慮して、例えば、35wt%程度の濃度の水溶液が用いられる。また、超音波ミスト発生器17より供給されたミストは、その大きさが微細であるため、僅かな時間で過酸化水素ガスとして気化させることができるとともに、ガスに対して大幅な温度上昇が伴うような熱を与えることもない。
図1に示すように、アイソレータ10において、循環流路14は、その途中において、2つの流路に分岐され、分岐された流路が再び統合されるような構成を有している。具体的には、循環流路14は、作業空間11の滅菌処理(詳細については後述する。)を行う際、あるいは、作業空間11において、細胞培養などの作業処理を行う際における作業空間11内のガスの循環用として使用される第1の循環流路14Aと、作業空間11の滅菌処理を行った後、作業空間11内のガスに含まれる滅菌ガス成分を無害化する無害化処理(詳細については後述する。)を行う際における作業空間11内のガスの循環用として使用される第2の循環流路14Bとの2つの流路に分岐されている。
第1の循環流路14Aの途中には、通過するガスに対して処理を行うような装置類は配置されていないのに対して、第2の循環流路14Bの途中には、通過するガス中に含まれる滅菌ガスを無害化する無害化装置18が配置されている。本第1実施形態では、滅菌ガスとして過酸化水素ガスが用いられるため、過酸化水素ガスを無害化するための触媒として、二酸化マンガンを用いた無害化装置18が用いられる。すなわち、無害化装置18では、過酸化水素ガスを含むガスを、触媒である二酸化マンガンに接触させることで、過酸化水素ガス(H)を水(HO)と酸素(O)とに分解することで、滅菌ガスの無害化を行う。このように、滅菌ガスの無害化とは、滅菌ガスに対して化学的な処理を行うことにより、ウィルスや細菌をタンパク質レベルまで完全に死滅させる滅菌ガスに対して、ウィルスや細菌、および人体に対して、実質的な影響を与えない程度にすることを言う。
さらに、図1に示すように、循環流路14における第1の循環流路14Aと第2の循環流路14Bとの分岐箇所には、循環されるガスが流れる流路の切り替えを行う流路切替弁(流路切替部)19が設けられている。この流路切替弁19は、図3Aに示す第1の循環流路選択位置(100%開放位置)と、図3Bに示す第2の循環流路選択位置(0%開放位置)との間で自動操作により動作させることができる。
また、循環流路14における流路の分岐部分の上流側の壁面には、冷却装置20が配置されている。この冷却装置20は、無害化処理を実施した際に、通過するガスと接触することで、ガスを冷却して水分を凝縮することで、ガスの除湿を行う機能を有している。また、このような除湿機能と合わせて、作業空間11内のガスの温度を下げるために冷却を行う場合にも使用される。本第1実施形態では、このような冷却装置20として、例えば、ペルチェ冷却装置が採用されている。冷却装置としては、ガスと接触してガス中に含まれる水分を凝縮させる機能があるものであれば良く、その他、熱交換器やヒートポンプ式の装置を採用しても良い。ただし、装置スペースなどの観点からは、ペルチェ式を採用することが望ましい。なお、冷却装置20により凝縮された水が、作業空間11の下部における循環流路14内に設けられたドレン弁31より作業空間11の外部に排水される。
また、図1に示すように、循環流路14には、作業空間11の外部に連通された排気流路(外部連通流路)21が接続されている。この排気流路21は、滅菌処理の実施中において、作業空間11内の圧力が上昇しないように作業空間11内のガスの一部を外部へ逃すことをその主目的として設けられている。
排気流路21における循環流路14との接続部分には、HEPAフィルタ22(フィルタ)が設けられており、さらに排気流路21には排気ファン23(排気用送風機)と、排気流路21を通過するガス中に含まれる滅菌ガス成分を分解する分解装置24とが設けられている。この分解装置24は、無害化装置18と実質的に同じ構成を有している。また、分解装置24とHEPAフィルタ22との間における排気流路21には、排気流路21を通過して流れる排気ガスの流量を調節することで、作業空間11内の圧力を調節する圧力調節用弁25と、この圧力調節弁25の前後における排気流路21の微小圧力差を調節する微小圧力調節用弁26とが設けられている。
図1に示すように、作業空間11には、圧力を検出する圧力計27(圧力検出手段)が設置されており、例えば、滅菌処理の実施中において、圧力計27にて検出された圧力が正圧とならないように、すなわち作業空間11の外部の圧力以下の圧力に保たれるように、圧力調節用弁25および微小圧力調節用弁26の開度が制御されて、圧力を調節することが可能となっている。また、圧力計27にて検出された圧力に基づいて、排気ファン21の運転/停止の制御および排気ファン21の回転数の制御(インバータ制御)も併せて行われる。なお、本第1実施形態では、圧力調節用弁25、微小圧力調節用弁26、および排気ファン21が、排気流量の流量調節手段の一例となっている。
さらに、図1に示すように、作業空間11には、温湿度計28および過酸化水素濃度計29が設置されている。例えば、温湿度計28にて検出された作業空間11の温度・湿度が予め設定された条件を満たすように、冷却装置20が制御される。また、過酸化水素濃度計29にて検出された作業空間11内の過酸化水素濃度が予め設定された濃度条件を満たすように、滅菌処理においては、超音波ミスト発生器17によるミスト発生量が制御され、無害化処理においては、無害化装置18による無害化処理の終了の可否が判断される。
アイソレータ10には、それぞれの構成部の動作を互いに関連付けながら統括的に制御する制御装置30が備えられている。制御装置30は、例えば、滅菌処理における作業空間11内の過酸化水素ガス濃度の制御、無害化処理における無害処理の終了の可否の判断、および滅菌処理における作業空間11内の圧力の制御などを行うことができる。
次に、このような構成のアイソレータ10において、滅菌処理およびその後の滅菌ガスの無害化処理を行う手順について説明する。この説明にあたって、滅菌処理および無害化処理の手順を図2のフローチャートに示し、その際におけるアイソレータ10の各構成部の動作を図3A(滅菌処理)および図3B(無害化処理)の模式説明図に示す。なお、以降において説明するそれぞれの処理は、制御装置30により各構成部の動作が制御されることにより行われる。
まず、図2のフローチャートのステップS1において、作業空間11内部の滅菌処理を開始するために循環流路14において、流路切替弁19が動作されて第1の循環流路選択位置(100%開放位置)に位置され、第1の循環流路14Aにガスが通過可能な状態とされる。その後、循環ファン15が運転されて(ステップS2)、作業空間11内のガスが、循環流路14における第1の循環流路14Aを通過した後、HEPAフィルタ16を通して作業空間11内に戻されるように、ガスの循環が行われる。
作業空間11内のガスの循環が確認されると、図3Aに示すように、超音波ミスト発生器17の運転が開示され、作業空間11内に滅菌ガス(過酸化水素ガス)が供給される(ステップS3)。過酸化水素濃度計29にて作業空間11内の濃度が常時検出され、濃度が予め設定された濃度範囲に保たれるように、超音波ミスト発生器17による滅菌ガスの供給量あるいはその運転・停止が制御される。過酸化水素濃度が予め設定された濃度範囲に保持されると、循環流路14を含めた作業空間11内の滅菌処理が開始され(ステップS4)、滅菌設定時間が経過するまで、この状態が保たれる(ステップS5)。この滅菌処理により、作業空間11内に配置されている作業装置など、作業空間11内のあらゆる部材の滅菌処理が行われる。
この滅菌処理が実施されている間、作業空間11内の圧力が圧力計28により常時検出され、圧力を予め設定された圧力範囲に保つように、排気ファン23の運転および回転数の制御、圧力調節用弁25および微小圧力調節用弁26の制御が行われる。超音波ミスト発生器17による発生された微細なミストは、圧力が負圧に保たれている程気化しやすい傾向にある。そのため、滅菌処理を実施している間は、圧力が予め設定された負圧範囲に保たれるように制御されることが好ましい。なお、負圧に保たれないような場合であっても良いが、少なくとも圧力が正圧とならないように制御されることが望ましい。なお、排気ファン23の運転により排気流路21を通して外部に排出されるガス中に含まれる滅菌ガス成分は、分解装置24を通過することにより、水と酸素に分解された状態にて外部に排出される。
その後、ステップS5にて、滅菌設定時間が経過したと判断されると、超音波ミスト発生器17の運転が停止され、作業空間11内への滅菌ガスの供給が停止される(ステップS6)。これにより、滅菌処理が完了する。
滅菌処理が完了した後、作業空間11内および循環流路14内に残存する滅菌ガスを無害化するための無害化処理が開示される。具体的には、図3Bに示すように、循環流路14において、流路切替弁19が動作されて第2の循環流路選択位置(0%開放位置)に位置され、第2の循環流路14Bにガスが通過可能な状態とされる(ステップS7)。この動作により、循環流路14に流れるガスが、第2の循環流路14Bを通過することになり、無害化装置18を通過するガス中に含まれる滅菌ガス成分が水と酸素に分解されて無害化される(ステップS8)。
この無害化処理は、過酸化水素濃度計29により検出される作業空間11内の濃度が、予め設定された無害基準値を下回るまで実施される(ステップS9)。また、無害化処理の実施中において、作業空間11内の湿度が上昇するため、循環されるガスが、冷却装置20により冷却されて、含有されている水分が凝縮、すなわち除湿が行われる。なお、凝縮された水は、ドレン弁31を通じて作業空間11の外部に排出される。また、この無害化処理の実施中においても、作業空間11内の圧力が予め設定された圧力範囲に保たれるように、圧力制御が行われる。
その後、作業空間11内の滅菌ガスの濃度が予め設定された基準値に達したことが確認されると、無害化処理が完了する。
アイソレータ10において排気流路21が設けられていることにより、滅菌処理に際に、排気流路21を通じて作業空間11内の圧力を逃す(所定の範囲に保つ)ことで、超音波ミスト発生器17より発生されるミストが蒸発することに伴う圧力の上昇を抑制することができる。さらに、無害化処理の際に、酸素が発生することに伴う圧力の上昇を抑制することができる。そのため、排気流路21を圧力逃し用の流路として機能させることができるが、圧力を積極的かつ確実に制御するためには、排気流路21に排気ファン23が設けられていることが好ましい。
また、上述の説明では、循環流路14に設けられた流路切替弁19が、100%開放位置と0%開放位置とを選択的に切替動作する場合について説明したが、この切替位置としてその中間の位置が選択されるようにしても良い。例えば、一部のガスを第1の循環流路14Aを通過させ、残りの一部のガスを第2の循環流路14Bを通過させるようにしても良い。例えば、作業空間11内の部材に滅菌ガスが吸収され、無害化処理の完了後に過酸化水素濃度が上昇する場合も考えられるため、一部ガスを無害化装置18に通過させることで、このような事後的な濃度上昇にも対応することができる。
本第1実施形態のアイソレータ10によれば、滅菌処理およびその後の無害化処理を行う際に、外部空気導入による滅菌ガスの置換を行うことなく、実質的にクローズドのシステムにて実施することができるため、高い無菌環境を形成することができるとともに、アイソレータ10の周囲環境に対する安全性をさらに向上させることができる。
また、無害化装置18は循環系内に配置されているため、その下流経路にて残留するガス濃度の制限がなく、可能な限り循環流速を速めることができる。よって、作業空間11および循環経路内に残存する滅菌ガスの無害化処理に要する時間を、大幅に短縮することができる。
(第2実施形態)
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、本発明の第2実施形態にかかるアイソレータ110の主要な構成を示す模式図を図4に示す。なお、図4の本第2実施形態のアイソレータ110において、上記第1実施形態のアイソレータ10と同じ構成部材には、同じ参照番号を付してその説明を省略する。以下、上記第1実施形態と相違する箇所についてのみ説明する。
図4に示すように、アイソレータ110には、作業空間11の圧力を正圧に保つための無菌化ガス供給手段が設けられている点において、上記第1実施形態の構成とは異なる構成を有している。
具体的には、アイソレータ110において、循環流路14には無菌ガスの給気流路141が接続されている。給気流路141は、無菌ガスボンベ142に接続されおり、無菌ガスボンベ142の手動弁143を開放することにより、無菌ガスが給気流路141を通じて循環流路14を介して作業空間11内に供給される。
さらに、給気流路141の途中には、圧力調節用弁144および微小圧力調節用弁145が設けられており、例えば、圧力計27により検出された圧力が、予め設定された正圧の範囲に保持されるように、無菌ガスの給気量が調節される。本第2実施形態では、圧力調節用弁144および微小圧力調節用弁145が無菌化ガス流量調節手段の一例となっている。なお、このように正圧保持が行われている間は、排気流路21の圧力調節用弁25は閉止されることが望ましい。
このように無菌ガスボンベ142より供給される無菌ガスとしては、空気、窒素、二酸化炭素など自然界に存在し、かつ、作業空間11内にて培養される細胞などに実質的に無害なガスが使用される。また、このような無菌ガスの生成方法としては、化学反応によって直接生成する場合、オゾン、紫外線殺菌、あるいは加圧過熱殺菌などの手段を用いて、汚染ガスを無菌化したガスをボンベ142内に充填しても良い。
このような無菌ガスを用いた作業空間11内の正圧保持は、例えば、作業空間11内にて細胞培養などを行う場合に実施される。このように正圧保持が行われることで、細胞培養に影響する細菌等の作業空間11外からの侵入を抑制することができる。
なお、アイソレータ110において、作業空間11の圧力を正圧に保つためのガス給気手段は、図4に示す構成のみに限られるものではない。このような場合に代えて、図5に示すアイソレータ210のように、外部空気を滅菌処理したガスを作業空間11内に供給するような構成を採用することもできる。
図5に示すように、本第2実施形態の変形例にかかるアイソレータ210は、循環流路14に接続された給気流路251と、給気流路251を通じて取り入れた外部空気に対して滅菌処理を行う空気滅菌装置252と、給気ファン253と、圧力調節用弁254および微小圧力調節用弁255とを備えている。また、循環流路14への給気流路251の接続部分にはHEPAフィルタ256が設置されている。
このような空気滅菌装置252としては、オゾン、紫外線殺菌、加圧過熱殺菌、プラズマ除菌などの手段を採用することができる。
なお、本第2実施形態のアイソレータ110、210において、滅菌処理および無害化処理を行う構成およびその手順は、上記第1実施形態と同様である。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態にかかる細胞自動培養装置310(以降、「細胞自動培養装置310」とする。)について、その主要な構成を示す側面模式図を図6に示す。なお、図6では、装置構成の理解を容易にするために、装置の内部構造を模式的に図示している。また、本第3実施形態の細胞自動培養装置310は、上記第2実施形態のアイソレータ210の構成を実質的に含んだ装置構成が採用されているため、共通する構成部材には同じ参照番号を付してその説明を省略する場合がある。
図6に示すように、細胞自動培養装置310は、ステンレスパネルにより構成された作業空間11と、作業空間11の内部に配置された細胞自動培養操作のための各種装置と、作業空間11内の環境を無菌環境に保つための空気調和設備とを備えている。
作業空間11の内部には、細胞培養のための各種操作が行われる作業テーブル361と、作業テーブル361およびその近傍に配置され、細胞培養のための各種操作を自動化して行う2台のロボットアーム362、363とが備えられている。また、特に図示しないが、作業空間11の内部には、インキュベータ(恒温庫)、パスボックス、グローブボックスが備えられている。ロボットアーム362、363(ロボット)は、例えば、パスボックスを通じて作業空間11内に持ち込まれた容器(シャーレー等)に所定の細胞を植え付ける作業、細胞が植え付けられた容器をインキュベータ内に収容させる作業、インキュベータ内にて細胞培養が行われた容器を取り出して作業テーブル361上にて培養された細胞を検査するなどの所定の作業を行う。
また、図6に示すように、循環流路14は、作業空間11の天井および床の一部とダクトにより構成されており、天井部分に位置される給気部12には、HEPAフィルタ16と循環ファン15とが一体化された2台のHEPAフィルタファンユニットが配置されている。また、床部分に位置される排気部13にはパンチングメタルが配置されており、天井面から吹き出されたガスが、床面より排気されて、循環流路14を通じて、作業空間11内のガスが循環される。
循環流路14において、ダクトで構成された部分には、第1の循環流路14Aと第2の循環流路14Bとが形成されており、第2の循環流路14Bには無害化装置18が設置されている。なお、流路の切替部分には、流路切替弁19が設置されている。また、循環流路14には、排気流路21と給気流路251とがそれぞれ接続されている。なお、図6では、給気流路251の詳細についてはその図示を省略しているが、実質的に図5に示す給気流路251と同様な構成が採用されている。
さらに、作業空間11の壁面には、超音波ミスト発生器17が設置されており、超音波ミスト発生器17は、作業空間11内より取り入れられたガスに対して、ミストを供給して、滅菌ガスとして作業空間11内に供給する。
このように、本発明における滅菌処理および無害化処理を行う装置構成を、細胞自動培養装置310に具体的に適用することができる。細胞自動培養装置310においては、その作業空間11内の空間に対して、確実な滅菌処理を行うことができるとともに、滅菌処理を行った後、外部空気を取り入れて滅菌ガスを置換するのではなく、実質的にクローズドされた空間において滅菌ガスを無害化することができる。したがって、細胞自動培養装置310に求められる無菌環境をより高いレベルで実現することができる。
なお、上述の実施形態の説明では、滅菌ガス供給装置として超音波ミスト発生器が採用される場合を例として説明したが、滅菌ガス供給装置としては、その他、過酸化水素水を加熱して蒸発させる加熱蒸発式などの装置を採用しても良い。
また、過酸化水素ガスを無害化する無害化装置としては、二酸化マンガンを触媒として用いる他に、酵素の一種であるカタラーゼを使用する場合、あるいはプラチナを微粒子化した触媒を用いる場合であっても良い。
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
10 アイソレータ
11 作業空間
12 給気部
13 排気部
14 循環流路
14A 第1の循環流路
14B 第2の循環流路
15 循環ファン
16 HEPAフィルタ
17 超音波ミスト発生器
18 無害化装置
19 流路切替弁
20 冷却装置
21 排気流路
22 HEPAフィルタ
23 排気ファン
24 排気用無害化装置
25 圧力調節用弁
26 微小圧力調節用弁

Claims (8)

  1. 作業空間と、
    作業空間へガスを給気する給気部および作業空間よりガスを排気する排気部と連通され、作業空間内のガスを循環させる循環流路と、
    循環流路の途中に配置された循環用フィルタおよび循環用送風機と、
    作業空間に滅菌ガスを供給する滅菌ガス供給装置とを備え、
    前記循環流路は、
    作業空間の滅菌処理を実施する際に、ガスの循環用に使用される第1の循環流路と、
    滅菌処理の実施後の滅菌ガスの無害化処理を実施する際に、ガスの循環用に使用される第2の循環流路と、
    第1の循環流路と第2の循環流路とを切り替える流路切替部とを備え、
    第2の循環流路に配置され、循環されるガス中に含まれる滅菌ガスを無害化する無害化装置をさらに備える、アイソレータ。
  2. 作業空間を作業空間の外部と連通する外部連通流路と、
    外部連通流路の途中に配置されたフィルタとをさらに備える、請求項1に記載のアイソレータ。
  3. 外部連通流路の途中に配置され、外部連通流路を通じて作業空間内のガスを外部に排気する排気用送風機と、
    作業空間の圧力を検出する圧力検出手段と、
    滅菌処理を実施する際に、圧力検出手段の検出結果に基づいて、作業空間の圧力の上昇を抑制するように、排気用送風機によるガスの排気流量を調節する排気用流量調節手段とを備える、請求項2に記載のアイソレータ。
  4. 外部連通流路の途中に配置され、排気されるガス中に含まれる滅菌ガスを分解する分解装置をさらに備える、請求項3に記載のアイソレータ。
  5. 滅菌ガスは過酸化水素を含むガスであり、無害化装置は過酸化水素を水および酸素に分解する触媒を含み、
    作業空間内または循環流路に配置され、循環するガスを冷却して凝縮させる冷却装置をさらに備える、請求項1から3のいずれか1つに記載のアイソレータ。
  6. 請求項1から5のいずれか1つに記載のアイソレータにおける作業空間を、滅菌処理により滅菌された無菌環境空間とし、
    無菌環境空間内に配置され、無菌環境空間内にて細胞培養操作を行うロボットをさらに備える、細胞自動培養装置。
  7. 無菌環境空間内に無菌化されたガスを供給する無菌化ガス供給手段と、
    細胞培養を実施する際に、無菌環境空間の圧力を正圧に保つように、無菌化ガス供給手段による無菌化ガスの供給流量を調節する細胞培養処理用の供給用流量調節手段とをさらに備える、請求項6に記載の細胞自動培養装置。
  8. アイソレータの作業空間内のガスを第1の循環流路を用いて、循環用フィルタを介して循環させながら、作業空間内に滅菌ガスを供給して、作業空間の滅菌処理を行い、
    所定時間経過後、滅菌ガスの供給を停止するとともに、第1の循環流路を第2の循環流路に切り替えて、第2の循環流路に配置された無害化装置にガスを通過させることで、循環されるガス中に含まれる滅菌ガスを無害化する、アイソレータの滅菌処理方法。
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