JP2011076072A5 - - Google Patents

Description

上述の課題を解決するために、第１の発明は、
表面を有する基体と、
基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体と
を備え、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比が、０．６以上１．５以下である、反射防止機能を有する光学素子である。

第２の発明は、
可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部からなる複数の構造体を備え、
隣り合う構造体の下部同士が接合されており、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比が、０．２以上１．５以下である、反射防止機能を有する光学素子である。

第３の発明は、
表面を有する基体と、
基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体と
を備え、
構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下であり、
構造体のアスペクト比が、０．２以上５以下である、反射防止機能を有する光学素子である。

Claims (21)

1. 表面を有する基体と、
   上記基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体と
   を備え、
   上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下であり、
   上記構造体のアスペクト比が、０．６以上１．５以下である、反射防止機能を有する光学素子。
2. 上記構造体上に形成された表面処理層をさらに備え、
   上記表面処理層は、フッ素、およびケイ素のうちの少なくとも一種を含む化合物を含有する請求項１記載の光学素子。
3. 上記表面処理層が形成された上記基体の表面におけるオレイン酸の接触角が、３０度以上である請求項２記載の光学素子。
4. 上記表面処理層が形成された上記基体の表面におけるオレイン酸の接触角が、５０度以上である請求項３記載の光学素子。
5. 上記構造体は、上記基体の表面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、六方格子パターン、準六方格子パターン、四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成し、
   上記構造体は、上記トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円錐または楕円錐台形状である請求項１記載の光学素子。
6. 上記トラックが、直線状、または円弧状を有する請求項５記載の光学素子。
7. 上記トラックが、蛇行している請求項５記載の光学素子。
8. 上記構造体は、上記基体の表面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、準六方格子パターンを形成し、
   上記トラックの延在方向における上記構造体の高さまたは深さは、上記トラックの列方向における上記構造体の高さまたは深さよりも小さい請求項１記載の光学素子。
9. 上記構造体は、上記基体の表面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成し、
   上記トラックの延在方向に対して斜めとなる配列方向における上記構造体の高さまたは深さは、上記トラックの延在方向における上記構造体の高さまたは深さよりも小さい請求項１記載の光学素子。
10. 同一トラック内における上記構造体の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における上記構造体の配置ピッチＰ２よりも長い請求項１記載の光学素子。
11. 可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部からなる複数の構造体を備え、
    隣り合う上記構造体の下部同士が接合されており、
    上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下であり、
    上記構造体のアスペクト比が、０．２以上１．５以下である、反射防止機能を有する光学素子。
12. 表面を有する基体と、
    上記基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体と
    を備え、
    上記構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下であり、
    上記構造体のアスペクト比が、０．２以上５以下である、反射防止機能を有する光学素子。
13. 上記基体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下である請求項１２記載の光学素子。
14. 上記基体の厚さが、６０μｍ以上である請求項１３記載の光学素子。
15. 上記基体が、２層以上の層構造を有し、
    上記２層以上の層構造のうち、上記構造体と隣接して形成された基底層の弾性率が、１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下である請求項１２記載の光学素子。
16. 上記基底層の厚さが、６０μｍ以上である請求項１５記載の光学素子。
17. 上記基体が、上記構造体と隣接して形成された基底層と、該基底層と隣接して形成された基材とを備え、
    上記基底層および上記基材の弾性率が、１ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下である請求項１２記載の光学素子。
18. 上記基底層と上記基材との総厚が、６０μｍ以上である請求項１７記載の光学素子。
19. 上記構造体を形成する材料の伸び率が５０％以上である請求項１２記載の光学素子。
20. 上記基体を形成する材料の伸び率が２０％以上である請求項１２記載の光学素子。
21. 請求項１〜２０のいずれか１項に記載された光学素子を備える表示装置。