JP2010147493A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. ａ）表面を有する支持体を受け入れるための処理室；
   ｂ）硫酸及び/又はその脱水種及び前駆体を含む液状硫酸組成物の供給源；
   ｃ）該液状硫酸供給源に流動的に結合し且つ液状硫酸組成物を支持体表面に投与するように位置した、液状硫酸組成物投与用オリフィス；
   ｄ）該液状硫酸組成物を、その温度が水蒸気に暴露する前の液状硫酸組成物の温度より高くなるのに有効な量の水蒸気に暴露するため該処理室中に水蒸気を投与するように位置した水蒸気投与装置；該水蒸気投与装置は、水蒸気への暴露時における液状硫酸組成物の水/硫酸モル比が５：１未満であるように、該液状硫酸組成物に水蒸気を供給する、
   を含む、支持体から物質を除去するための装置。
2. 水蒸気投与装置が、処理室中に熱水を導入するためのシステムを含む、請求項１に記載の装置。
3. 水蒸気投与装置が、処理室の外に位置した水蒸気発生装置を含む、請求項１に記載の装置。
4. 液状硫酸組成物投与用オリフィスが、液状硫酸組成物を連続流で投与する、請求項１に記載の装置。
5. 液状硫酸組成物投与用オリフィスが、液状硫酸組成物を複数回の不連続パルスで投与する、請求項１に記載の装置。
6. その上に支持体を位置させるための回転中心を有する回転台を含み、液状硫酸組成物は、該回転台の回転中心から垂直でない角度で硫酸組成物をスプレーするように方向付けられたスプレー用支柱からスプレーされる、請求項１に記載の装置。
7. その上に支持体を位置させるための回転中心を有する回転台を含み、液状硫酸組成物は、スイーピングにより回転台との関係において角度を変えて硫酸組成物をスプレーするように位置付けられた可動スプレー支柱からスプレーされる、請求項１に記載の装置。
8. 液状硫酸組成物投与用オリフィスが、霧化スプレーとして液状硫酸組成物を投与するように構成されている、請求項１に記載の装置。
9. 次の工程を含む、３つのオリフィスノズルからの液体のスプレーの方向を変えるための方法：
   ａ）ｉ）十分な圧力下で液体源から液体を供給され、そこから液体の流れを噴出する第１オリフィス；
   ii）ガス源からガスを供給される第１ガスオリフィスであって、該ガスは制御された圧力で供給されて該第１ガスオリフィスからガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第１ガスオリフィス；
   iii ）第２ガス源から第２ガスを供給される第２ガスオリフィスであって、該ガスは制御された圧力で供給されて該第２ガスオリフィスからガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第２ガスオリフィス、
   を有するノズルを装備し；そして
   ｂ）該中央オリフィスからの液体の流れに方向を付与するように第１ガスオリフィス及び第２ガスオリフィスの少なくとも１つのガス流の流れを修正することにより、該ノズルからの液体のスプレー方向を調節する。
10. 該ノズルからの液体のスプレー方向が、第１ガスオリフィス及び第２ガスオリフィスからのガスの流れを調節することにより処理プロセスの間に変えられる、請求項９に記載の方法。