JP2010116546A - ゴム組成物及びタイヤ - Google Patents
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Abstract
Description
で表される窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを5重量%以上含み、
該ゴム成分100重量部に対して、シリカを10〜150重量部含むゴム組成物に関する。
(シリカ(1)の平均一次粒子径)/(シリカ(2)の平均一次粒子径)≧1.4
を満たし、
ゴム成分100重量部に対して、上記シリカ(1)を10重量部以上、上記シリカ(2)を5重量部以上含有することが好ましい。
で表される窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを5重量%以上含み、該ゴム成分100重量部に対して、シリカを10〜150重量部含む。
また、R0及びR8〜R14は、水素又は炭素数1〜2の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
また、R4〜R7は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基又は複素環基であることが好ましく、脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
シラン、二酸化炭素、ビス(トリエトキシシリルプロピル)アミン、ビス(トリメトキシシリルプロピル)アミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]エチレンジアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]ウレア、ビス[(トリメトキシシリル)プロピル]ウレア、ビス(2−ヒドロキシメチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビス(2−ヒドロキシメチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(2−エチルヘキサノエート)スズ、ビス(2−メチルブトキシ)メチルクロロシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビス(メチルジエトキシシリルプロピル)アミン、ビス(メチルジメトキシシリルプロピル)−N−メチルアミン、ヒドロキシメチルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−エチルヘキシルオキシ)シラン、ビニルベンジルジエチルアミン、ビニルベンジルジメチルアミン、ビニルベンジルトリブチルスズ、ビニルベンジルピペリジン、ビニルベンジルピロリジン、ピロリジン、フェニルイソシアナート、フェニルイソチオシアナート、(フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、(フェニルアミノメチル)メチルジエトキシシラン、フタル酸アミド、ヘキサメチレンジイソシアナート、ベンジリデンアニリン、ポリジフェニルメタンジイソシアネート、ポリジメチルシロキサン、メチル−4−ピリジルケトン、メチルカプロラクタム、メチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、ラウリルチオプロピオン酸メチル、四塩化ケイ素等があげられる。これらの中では、性能改善の点で、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、3−(N,N−ジエチルアミノプロピル)トリメトキシシラン、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピルトリエトキシシラン、3−(N,N−ジエチルアミノプロピル)トリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(4−ピリジルエチル)トリエトキシシラン、N−(3−トリエトキシシリルプロピル)−4,5−ジヒドロイミダゾール、四塩化ケイ素などが好ましい。
(シリカ(1)の含有量)×0.03≦(シリカ(2)の含有量)≦(シリカ(1)の含有量)×14
シリカ(2)の含有量は、シリカ(1)の含有量の0.15倍以上がより好ましく、0.25倍以上が更に好ましい。また、シリカ(2)の含有量は、シリカ(1)の含有量の7倍以下がより好ましく、4倍以下が更に好ましい。シリカ(2)の含有量がシリカ(1)の含有量の0.03倍未満では、操縦安定性が低下する傾向があり、14倍を超えると、転がり抵抗が増大する傾向がある。更に、ゴム成分100重量部に対して、シリカ(1)の含有量は10重量部以上、シリカ(2)の含有量は5重量部以上であることが好ましい。
本発明で好適に使用されるシランカップリング剤としては、従来からシリカと併用される任意のシランカップリング剤とすることができ、例えば、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(4−トリエトキシシリルブチル)テトラスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(2−トリメトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(4−トリメトキシシリルブチル)テトラスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(4−トリエトキシシリルブチル)トリスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(2−トリメトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(4−トリメトキシシリルブチル)トリスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2−トリエトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(4−トリエトキシシリルブチル)ジスルフィド、ビス(3−トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(2−トリメトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(4−トリメトキシシリルブチル)ジスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3−トリエトキシシリルプロピル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2−トリエトキシシリルエチル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、2−トリメトキシシリルエチル−N,N−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィド、3−トリエトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィド、3−トリエトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィドなどのスルフィド系、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、2−メルカプトエチルトリメトキシシラン、2−メルカプトエチルトリエトキシシランなどのメルカプト系、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどのビニル系、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ系、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランなどのグリシドキシ系、3−ニトロプロピルトリメトキシシラン、3−ニトロプロピルトリエトキシシランなどのニトロ系、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、2−クロロエチルトリメトキシシラン、2−クロロエチルトリエトキシシランなどのクロロ系などが挙げられる。商品名としてはSi69、Si75、Si363(デグッサ社製)やNXT、NXT−LV、NXT−ULV、NXT−Z(モメンティブ製)などがある。
シクロヘキサン:関東化学(株)製シクロヘキサン
ピロリジン:関東化学(株)製ピロリジン
ジビニルベンゼン:シグマアルドリッチ社製のジビニルベンゼン
1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液:関東化学(株)製の1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液
イソプロパノール:関東化学(株)製のイソプロパノール
十分に窒素置換した100ml容器に、シクロヘキサン50ml、ピロリジン4.1ml(3.6g)、ジビニルベンゼン6.5gを加え、0℃にて1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液0.7mlを加えて攪拌した。1時間後、イソプロパノールを加えて反応を停止させ、抽出・精製を行うことでモノマー(1)を得た。
シクロヘキサン:関東化学(株)製シクロヘキサン
スチレン:関東化学(株)製スチレン
ブタジエン:高千穂化学工業(株)製1,3−ブタジエン
テトラメチルエチレンジアミン:関東化学(株)製のN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン
1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液:関東化学(株)製の1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液
末端変性剤:アヅマックス社製の3−(N,N−ジメチルアミノプロピル)トリメトキシシラン
イソプロパノール:関東化学(株)製イソプロパノール
十分に窒素置換した1000ml耐圧製容器に、シクロヘキサン600ml、スチレン12.6ml(11.4g)、ブタジエン71.0ml(41.0g)、モノマー(1)0.29g、テトラメチルエチレンジアミン0.11mlを加え、40℃で1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液0.2mlを加えて撹拌した。3時間後、イソプロパノール3mlを加えて重合を停止させた。反応溶液に2,6−tert−ブチル−p−クレゾール1gを添加後、メタノールで再沈殿処理を行い、加熱乾燥させて重合体(1)を得た。
十分に窒素置換した1000ml耐圧製容器に、シクロヘキサン600ml、スチレン12.6ml(11.4g)、ブタジエン71.0ml(41.0g)、モノマー(1)0.29g、テトラメチルエチレンジアミン0.11mlを加え、40℃で1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液0.2mlを加えて撹拌した。3時間後、3−(N,N―ジメチルアミノプロピル)トリメトキシシラン(変性剤)を0.5ml(0.49g)加えて攪拌した。1時間後、イソプロパノール3mlを加えて重合を停止させた。反応溶液に2,6−tert−ブチル−p−クレゾール1gを添加後、メタノールで再沈殿処理を行い、加熱乾燥させて重合体(2)を得た。
重量平均分子量Mwは、東ソー(株)製GPC−8000シリーズの装置を用い、検知器として示差屈折計を用い、分子量は標準ポリスチレンにより校正した。
重合体中の窒素含有化合物誘導体モノマー量は、日本電子(株)製JNM−ECAシリーズの装置を用いて測定した。
以下に、実施例及び比較例で用いた各種薬品について説明する。
スチレンブタジエンゴム(SBR):旭化成ケミカルズ(株)製のE15
重合体(1):主鎖変性SBR(製造例2にて製造、Mw:3.0×105、窒素含有化合物誘導体モノマー量:1.0重量%)
重合体(2):主鎖及び末端変性SBR(製造例3にて製造、Mw:3.0×105、窒素含有化合物誘導体モノマー量:1.0重量%)
NR:RSS#3
カーボンブラック:東海カーボン(株)製のシーストNH(N2SA:74m2/g)
シリカ(1):デグッサ社製のULTRASIL360(平均一次粒子径:28nm)
シリカ(2):デグッサ社製のULTRASILVN3(平均一次粒子径:15nm)
シランカップリング剤:デグッサ社製のSi75(ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド)
酸化亜鉛:三井金属鉱業(株)製の亜鉛華1号
ステアリン酸:日油(株)製のステアリン酸「椿」
老化防止剤:住友化学(株)製のアンチゲン6C(N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン)
ワックス:大内新興化学工業(株)製のサンノックN
アロマオイル:(株)ジャパンエナジー製のプロセスX−140
硫黄:軽井沢硫黄(株)製の粉末硫黄
加硫促進剤(1):大内新興化学工業(株)製のノクセラーCZ(N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド)
加硫促進剤(2):大内新興化学工業(株)製のノクセラーD(N,N’−ジフェニルグアニジン)
転がり抵抗試験機を用い、試験タイヤを、リム(15×6JJ)、内圧(230kPa)、荷重(3.43kN)、速度(80km/h)で走行させたときの転がり抵抗を測定し、比較例1を100とした時の指数で表示した。指数は大きい方が良好である。
湿潤アスファルト路面にて初速度100km/hからの制動距離を求めた。結果は指数で表し、数字が大きいほどウェットスキッド性能(ウェットグリップ性能)が良好である。指数は次の式で求めた。
ウェットスキッド性能=(比較例1の制動距離)÷(各実施例又は各比較例の制動距離)×100
Claims (4)
- ゴム成分100重量%中に、下記一般式;
で表される窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを5重量%以上含み、
該ゴム成分100重量部に対してシリカを10〜150重量部含むゴム組成物。 - シリカが、平均一次粒子径が22nm以上のシリカ(1)及び平均一次粒子径が22nm未満のシリカ(2)からなり、かつ前記シリカ(1)及び(2)の平均一次粒子径が下記式;
(シリカ(1)の平均一次粒子径)/(シリカ(2)の平均一次粒子径)≧1.4
を満たし、
ゴム成分100重量部に対して、前記シリカ(1)を10重量部以上、前記シリカ(2)を5重量部以上含有する請求項1記載のゴム組成物。 - 変性スチレンブタジエンゴムは、更に、少なくとも一方の末端を窒素、酸素、ケイ素の中から少なくとも一つ以上の原子を含む官能基を有する変性剤で変性された重合体である請求項1又は2記載のゴム組成物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のゴム組成物を用いて作製したトレッドを有するタイヤ。
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