JP2010081168A - 撮像素子およびその制御方法並びにカメラ - Google Patents

撮像素子およびその制御方法並びにカメラ Download PDF

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Abstract

【課題】シェーディング等のノイズを低減させるだけではなく、画素の高速な読み出しを実行することができる撮像素子およびその制御方法並びにカメラを提供する。
【解決手段】3トランジスタ駆動型の画素回路11において、リセットトランジスタ113のドレインが駆動信号線DRNL(n)に接続され、増幅トランジスタ114のドレインが電源電圧VDDに接続されている。行駆動回路12aは、駆動信号線DRNL(n)に印加する電圧レベルを、高レベル電圧VHから最低レベル電圧VLLに急速に切り替え、最低レベル電圧VLLから低レベル電圧VLを経て、元の高レベル電圧VHへゆっくりと復帰させる。
【選択図】図2

Description

本発明は、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の撮像素子およびその制御方法並びにカメラに関するものである。
CMOSイメージセンサでは、リセット(電子シャッタともいう)が実行され、光電変換素子が蓄積した電荷は電圧信号として垂直信号線に出力される。以下、一般的なCMOSイメージセンサの主要部およびその動作の概要を図13および図14に関連付けて説明する。
図13は、一般的なCMOSイメージセンサの構成例を示す主要部の等価回路図である。
図14は、図13に図示するCMOSイメージセンサのタイミングチャートである。図14(A)は駆動信号SDRNを示し、図14(B)はリセット信号SRSTを示し、図14(C)は転送信号STRNを示している。
図13に図示するCMOSイメージセンサ3の画素回路30は、画素部311に配列されている。画素回路30は、転送トランジスタ32、リセットトランジスタ33、および増幅トランジスタ34を有し、行駆動回路37によって駆動される。図13のように構成された画素回路30は、「3トランジスタ駆動型の画素回路」、「3トランジスタ駆動型のCMOSイメージセンサ」等と称される。
行駆動回路37は、低レベル電圧VLの駆動信号SDRNを駆動信号線310に印加するためのトランジスタ39と、高レベル電圧VHの駆動信号SDRNを駆動信号線310に印加するためのトランジスタ38とを有する。なお、高レベル電圧VHは、たとえば電源電圧VDDであり、低レベル電圧VLは、増幅トランジスタ34をオフの状態に保持する電圧である。
画素回路30が3トランジスタ駆動型の場合、行駆動回路37は、低レベル電圧VLと高レベル電圧VHとの2値の電圧を駆動信号線310に印加し、画素回路30を駆動する。
行駆動回路37は、時刻t1から時刻t4の期間、トランジスタ38のゲートにゲート電圧VLを印加してトランジスタ38のみをオンの状態に保持し、高レベル電圧VHの駆動信号SDRNを駆動信号線310に印加する(図14(A)参照)。
光電変換素子31が電荷の読み出しを開始する前に(時刻t2)、行駆動回路37は、リセットトランジスタ33のゲート接続されたリセット信号線RSTLにパルス状のリセット信号SRSTを印加する(図14(B)参照)。これにより、フローティングディフュージョンFDの電位は、高レベル電圧VHにリセットされる。
時刻t3において、行駆動回路37は、転送トランジスタ32のゲートに接続された転送信号線TRNLにパルス状の転送信号STRNを印加する(図14(C)参照)。これにより、光電変換素子31が蓄積した電荷は、フローティングディフュージョンFDに転送される。
このとき、増幅トランジスタ34は、ゲートにフローティングディフュージョンFDの電位が印加され、ドレインに高レベル電圧VHが印加されている。そのため、増幅トランジスタ34は、フローティングディフュージョンFDの電位をソース−ゲート間電圧に応じて増幅し、増幅した電位を電圧信号として垂直信号線35に出力する。増幅トランジスタ34による電圧信号の出力は、「電荷の読み出し」、「画素の読み出し」等と称され、時刻t4まで継続される。
電荷の読み出し後、行駆動回路37は、時刻t4から時刻t5の期間、トランジスタ39のみをオンの状態に保持し、低レベル電圧VLの駆動信号SDRNを駆動信号線310に印加すると共に(図14(A)参照)、リセット信号線RSTLにパルス状のリセット信号SRSTを印加する(図14(B)参照)。
低レベル電圧VLが増幅トランジスタ34のゲート(フローティングディフュージョンFD)に印加された後、リセット信号SRSTが低レベル電圧VLに戻る。
これにより、増幅トランジスタ34は、オフ状態に保持され、画素回路30は電圧信号の出力が停止された非選択状態となり、CMOSイメージセンサ3の1水平期間Hの動作が終了する。
上述したように、電荷の読み出しが実行されると、垂直信号線35に画素回路30からの電圧信号が印加され、垂直信号線35の電位が変化する。
このとき、非選択状態の画素回路30が僅かであったとしても、電圧を垂直信号線35に出力した場合、この電圧信号と読み出し行の画素回路30が出力した電圧信号とが重畳される。その結果、各画素回路の出力電圧が画素領域全体に亘って影響を与え、シェーディングを初めとする種々のノイズが引き起こされる。
これらの現象と時刻t4における駆動信号SDRNの立ち下がり方との間には、密接な関係がある。駆動信号SDRNの立ち下がりが急峻である程(図14参照)、画素回路30を構成するトランジスタのp型ウェルの電位が激しく揺れ、シェーディング等の現象が引き起こされる。
そこで、駆動信号SDRNを複数の電圧レベルで多値化し、この立ち下がりを緩やかにすることで、シェーディング等の現象を低減させる方法が開示されている(特許文献1,2参照)。
特開2005−217704号公報 特開2005−311932号公報
例示した引用文献1,2において、3トランジスタ駆動型における画素回路は、図13に図示するように、リセットトランジスタ33のドレインと、増幅トランジスタ34のドレインとが駆動信号線310に共通に接続されている。
このため、駆動信号線310の配線負荷抵抗が大きくなり、駆動信号SDRNの減衰や遅延が発生し、画素回路30を高速駆動させることが困難となる。引用文献1,2は、駆動信号線310に印加する駆動信号SDRNを多値化しているが、これはパルスの立ち下がりを遅くするためであって、画素の高速な読み出しには不向きである。
本発明は、シェーディング等のノイズを低減させるだけではなく、画素の高速な読み出しを実行することができる撮像素子およびその制御方法並びにカメラを提供することにある。
本発明の第1の観点の撮像素子は、マトリクス状に配列された複数の画素回路と、同一方向に配列された上記複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線と、複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を上記選択駆動線に選択的に印加し、上記画素回路の選択および駆動を行う選択駆動回路とを有し、上記各々の画素回路は、光電変換によって入射光を電荷に変換する光電変換部と、上記光電変換部の電荷が転送されるノードと、制御端子が上記ノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が出力信号線に接続され、上記ノードの電位を増幅し、当該増幅した電圧を出力信号として当該出力信号線に出力する出力トランジスタと、第3の接続端子が上記ノードに接続され、第4の接続端子が上記選択駆動信号が印加される上記選択駆動線に接続され、上記出力トランジスタの上記制御端子が接続された上記ノードの電位を上記電圧レベルに応じた電位に設定し、当該ノードの電位のリセットおよび上記出力トランジスタの出力を制御する制御トランジスタとを有し、上記選択駆動回路は、上記出力トランジスタの出力停止期間には、上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記出力トランジスタをオンの状態に保持する第1の電圧レベルから上記出力トランジスタをオフの状態に保持する基準の電圧レベルを超過した第2の電圧レベルに移行させ、当該第2の電圧レベルから当該第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる。
好適には、上記複数の電圧レベルは、上記第1の電圧レベルと、上記第2の電圧レベルと、上記出力トランジスタをオフの状態に保持する基準の電圧レベルとなる第3の電圧レベルとを含み、上記選択駆動回路は、上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記第1の電圧レベルから上記第2の電圧レベルに移行させ、上記第3の電圧レベルを経て上記第1の電圧レベルに復帰させる。
好適には、上記選択駆動回路は、上記第2の電圧レベルの選択駆動信号を他の電圧レベルの選択駆動信号よりも短い期間、上記選択駆動線に印加する。
好適には、上記選択駆動回路は、第5の接続端子に上記第2または第3の電圧レベルのうち、いずれかの電圧レベルの電圧が印加され、当該第5の接続端子に印加された電圧レベルの電圧を上記選択駆動線に出力するトランジスタと、上記トランジスタと同極性であり、当該選択駆動回路内の短絡を防止する短絡防止トランジスタとを有し、上記短絡防止トランジスタは、第7の接続端子が上記トランジスタの第6の接続端子に接続され、第8の接続端子が上記選択駆動線に接続されている。
好適には、上記選択駆動回路は、上記選択駆動線の両端に上記選択駆動信号を印加する。
本発明の第2の観点の撮像素子の制御方法は、複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を、同一方向に配列された複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線に選択的に印加し、当該複数の画素回路の選択および駆動を行い、当該選択した複数の画素回路が、光電変換によって入射光を電荷に変換し、当該電荷量に応じた電圧を出力信号として出力信号線に出力する第1のステップと、上記複数の画素回路の上記出力信号を上記複数の画素回路の電荷読みだし後に所定期間停止する第2のステップとを有し、上記第1のステップにおいては、光電変換部で光電変換された電荷をノードに転送し、第3の接続端子が上記ノードに接続され、第4の接続端子が上記選択駆動信号が印加される上記選択駆動線に接続された制御トランジスタが、出力トランジスタの制御端子が接続された上記ノードの電位を上記電圧レベルに応じた電位に設定し、当該ノードの電位をリセットし、上記制御端子が上記ノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が上記出力信号線に接続された上記出力トランジスタが、上記制御トランジスタの制御によって、上記ノードの電位を増幅し、当該増幅した電圧を上記出力信号として上記出力信号線に出力し、上記第2のステップにおいては、上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記出力トランジスタをオンの状態に保持する第1の電圧レベルから上記出力トランジスタをオフの状態に保持する電圧レベルを超過した第2の電圧レベルに移行させ、当該第2の電圧レベルから当該第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる。
本発明の第3の観点のカメラは、撮像素子と、上記撮像素子の画素領域に入射光を導く光学系と、上記撮像素子が出力した出力信号を処理する信号処理部とを有し、上記撮像素子は、マトリクス状に配列された複数の画素回路と、同一方向に配列された上記複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線と、複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を上記選択駆動線に選択的に印加し、上記画素回路の選択および駆動を行う選択駆動回路とを有し、上記各々の画素回路は、光電変換によって入射光を電荷に変換する光電変換部と、上記光電変換部の電荷が転送されるノードと、制御端子が上記ノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が出力信号線に接続され、上記ノードの電位を増幅し、当該増幅した電圧を出力信号として当該出力信号線に出力する出力トランジスタと、第3の接続端子が上記ノードに接続され、第4の接続端子が上記選択駆動信号が印加される上記選択駆動線に接続され、上記出力トランジスタの上記制御端子が接続された上記ノードの電位を上記電圧レベルに応じた電位に設定し、当該ノードの電位のリセットおよび上記出力トランジスタの出力を制御する制御トランジスタとを有し、上記選択駆動回路は、上記出力トランジスタの出力停止期間には、上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記出力トランジスタをオンの状態に保持する第1の電圧レベルから上記出力トランジスタをオフの状態に保持する基準の電圧レベルを超過した第2の電圧レベルに移行させ、当該第2の電圧レベルから当該第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる。
本発明によれば、制御端子がノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が出力信号線に接続された出力トランジスタは、ノードの電位を増幅し、増幅した電圧を出力信号として出力信号線に出力する。
第3の接続端子がノードに接続され、第4の接続端子が選択駆動信号が印加される選択駆動線に接続された制御トランジスタは、ノードの電位を電圧レベルに応じた電位に設定し、ノードの電位のリセットおよび出力トランジスタの出力を制御する。
選択駆動回路は、複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を、同一方向に配列された複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線に選択的に印加し、出力トランジスタの出力停止期間には、選択駆動線に印加する電圧レベルを、第1の電圧レベルから第2の電圧レベルに移行させ、第2の電圧レベルから第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる。
本発明によれば、シェーディング等のノイズを低減させるだけではなく、画素の高速な読み出しを実行することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に関連付けて説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係るCMOSイメージセンサの構成例を示す概略構成図である。図1には、CMOSイメージセンサ1の主要部のみが図示されている。
図1に図示するように、CMOSイメージセンサ(CMOS)1は、複数の画素部10、画素回路11、行駆動回路(DRV)12、水平転送回路13、およびタイミングジェネレータ14を有する。
なお、本発明の撮像素子はCMOSイメージセンサ1に対応し、本発明の画素領域は画素部10に対応し、本発明の選択駆動回路は行駆動回路12に対応する。
画素部10は、入射光を受光する画素領域であって、n(行方向)×m(列方向)個の画素回路11がマトリクス状に配列されている。nおよびmは、正の整数であって、nおよびmの最大値は、たとえば2048である。
各画素回路11は、3トランジスタ駆動型の画素回路である。各画素回路11は、R(赤),G(緑),B(青)に対応したカラーフィルタが被され、たとえばベイヤ型の配列形態をもって配列されている。同一行の画素回路11には、駆動信号線DRNL(n)、リセット信号線RSTL(n)、および転送信号線TRNL(n)が共通に接続されている。
各画素回路11は、入射光を光電変換によって電荷(電子)に変換し、その電荷量に応じた電圧信号を垂直信号線VSL(m)に出力する。
なお、本発明の選択駆動線は、駆動信号線DRNL(n)に対応し、本発明の出力信号線は、垂直信号線VSL(m)に対応し、本発明の出力信号は、デジタル信号に対応している。
行駆動回路12は、走査する行を選択し、同一行の画素回路11を駆動する。具体的には、行駆動回路12は、駆動信号SDRNを駆動信号線DRNL(n)に印加し、リセット信号SRSTをリセット信号線RSTL(n)に印加し、転送信号STRNを転送信号線TRNL(n)に印加する。
水平転送回路13は、たとえば、列毎に設けられたカラム回路131、列毎の垂直信号線VSL(m)を選択するためのスイッチ132,水平転送信号線HSCNLで構成されている。
水平転送回路13は、列ごとのスイッチ132を開閉して垂直信号線VSL(m)を順次選択し、選択した列の画素回路11から電荷(電圧信号)を読み出す。このとき、カラム回路131は、垂直信号線(m)に印加されたアナログの電圧信号をデジタル信号化し、リセットレベルと信号レベルでのCDS(Correlated Double Sampling;相関二重サンプリング)処理を行った後、このデジタル信号を水平転送信号線HSCNLに出力する。その後、水平転送回路13は、CDS処理されたデジタル信号を出力信号SIGとしてCMOSイメージセンサ1外部の信号処理装置に出力する。
タイミングジェネレータ14は、行駆動回路12や水平転送回路13、CMOSイメージセンサ1を構成する回路等にクロックを供給する。
次に、画素回路11および行駆動回路12を図2に関連付けて説明する。
図2は、第1実施形態に係る画素回路および行駆動回路の構成例を示す等価回路図である。図2には、画素部10の第n行、第m列目に配列された画素回路11が図示され、行駆動回路12の主要部のみが図示されている。
初めに、画素回路11の回路構成例について説明する。
図2に図示するように、画素部10の画素回路11は、光電変換素子111、転送トランジスタ112、リセットトランジスタ113、増幅トランジスタ114、およびフローティングディフュージョンFDを有する。この画素回路11は、3トランジスタ駆動型の画素回路である。
なお、本発明の出力トランジスタは増幅トランジスタ114に対応し、本発明の制御トランジスタはリセットトランジスタ113に対応し、本発明のノードはフローティングディフュージョンFDに対応している。本発明の所定の電圧源は増幅トランジスタ114のドレインに接続された電源電圧VDDが対応する。
光電変換素子111は、たとえばフォトダイオードである。光電変換素子111は、アノード側が接地(GND)され、カソード側が転送トランジスタ112のソースに接続されている。光電変換素子111は、入射光をその光量に応じて電荷(本実施形態においては電子)に光電変換し、その電荷を蓄積する。光電変換素子111が電荷を蓄積することを「画素回路が電荷を蓄積する」と称され、光電変換素子111が電荷を蓄積する期間を電荷蓄積期間という。
画素回路11の各トランジスタには、nチャネルのMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)が一例として採用され、各トランジスタは、次のような接続形態を取っている。
転送トランジスタ112は、ソースが光電変換素子111のカソード側に接続され、ドレインがフローティングディフュージョンFDに接続され、ゲートが転送信号線TRNL(n)に接続されている。
フローティングディフュージョンFDには、転送トランジスタ112のドレイン、リセットトランジスタ113のソース、および増幅トランジスタ114のゲートが接続されている。
リセットトランジスタ113は、ソース(第3の接続端子)がフローティングディフュージョンFDに接続され、ドレイン(第4の接続端子)が駆動信号線DRNL(n)に接続され、ゲートがリセット信号線RSTL(n)に接続されている。
増幅トランジスタ114は、ソース(第2の接続端子)が垂直信号線VSL(m)に接続され、ドレイン(第1の接続端子)が電源電圧VDDに接続され、ゲートがフローティングディフュージョンFDに接続されている。この増幅トランジスタ114と定電流源回路15とによって、ソースフォロワ回路が構成されている。
上述したように、第1実施形態の特徴として、リセットトランジスタ113のドレインと、増幅トランジスタ114のドレインとには、異なる電圧供給源から電圧が印加される。
各画素回路11は、フローティングディフュージョンFDの電位を駆動信号線DRNL(n)の電位(高電圧レベルVH)に設定するための「リセット」を行う。
その後、光電変換素子111が蓄積した電荷はフローティングディフュージョンFDに転送され、この電荷の読み出しが行われる。
次に、行駆動回路12の主要部の回路構成例について説明する。
行駆動回路12は、レベルトランジスタ121〜123を行毎に有する。図2には、レベルトランジスタ121~123で構成される第n行目の回路部分のみが図示されている。
レベルトランジスタ121および122には、nチャネルのMOSFETが一例として採用され、レベルトランジスタ123には、pチャネルのMOSFETが一例として採用されている。
レベルトランジスタ121は、ソースが最低レベル電圧VLLの電圧源に接続され、ドレインがノードND1に接続されている。
レベルトランジスタ122および123は、互いのドレインがノードND2にて共通に接続されている。レベルトランジスタ122のソースは、低レベル電圧VLの電圧源に接続され、レベルトランジスタ123のソースは、高レベル電圧VHの電圧源に接続されている。
ノードND1およびノードND2は、駆動信号線DRNL(n)に共通に接続されている。
高レベル電圧VHは、たとえば電源電圧VDDである。最低レベル電圧VLLは、低レベル電圧VLよりも低い電圧であって(VL>VLL)、たとえば接地電位GNDである。
低レベル電圧VLは、高レベル電圧VHよりも低く、最低レベル電圧VLLよりも高い電圧である(VH>VL>VLL)。具体的には、低レベル電圧VLは、その電圧が増幅トランジスタ114のゲートに印加されたときに、増幅トランジスタ114をオフの状態に保持可能な基準となる電圧(たとえば0.6V)である。
なお、本発明の第1の電圧レベルは高レベル電圧VHに対応し、本発明の第2の電圧レベルは最低レベル電圧VLLに対応し、本発明の第3の電圧レベルは低レベル電圧VLに対応する。
上述した構成の行駆動回路12は、高レベル電圧VH、低レベル電圧VL、および最低レベル電圧VLLという、3値の電圧レベルの駆動信号SDRNを駆動信号線DRNL(n)に選択的に印加する。この行駆動回路12の動作を図3に関連づけて説明する。
図3は、第1実施形態に係る行駆動回路の動作例を示すタイミングチャートである。
図3(A)は駆動信号SDRNを示す。図3(B)はレベルトランジスタ121のゲートに印加されるゲート電圧VGN1を示し、図3(C)はレベルトランジスタ122のゲートに印加されるゲート電圧VGN2を示し、図3(D)はレベルトランジスタ123のゲートに印加されるゲート電圧VGPを示している。
行駆動回路12は、図3(A)に示す駆動信号SDRNを駆動信号線DRNL(n)に印加するため、以下の動作を行う。
第n行目の画素回路11の選択期間TSにおいては、リセットトランジスタ113を作動させ、増幅トランジスタ114の出力を制御するため、行駆動回路12は、駆動信号線DRNL(n)に高レベル電圧VHの駆動信号SDRNを印加する。
なお、選択期間TSは、画素回路11が電荷の読み出しを完了するまでの期間である。
このとき、行駆動回路12は、レベルトランジスタ123のゲートのみに低レベル電圧VLを印加する(図3(D)参照)。ゲート電圧VGPが低レベル電圧VLであるため、レベルトランジスタ123は、選択期間TSにおいてオンの状態に保持され、駆動信号線DRNL(n)には、高レベル電圧VHの駆動信号SDRNが印加される。
一方、画素回路11の非選択設定期間TNにおいては、行駆動回路12は、増幅トランジスタ114の出力を停止させるため、駆動信号線DRNL(n)に低レベル電圧VLの駆動信号SDRNを印加する。
ただし、非選択設定期間TNの開始時に、行駆動回路12は、駆動信号SDRNの電圧レベルを高レベル電圧VHから最低レベル電圧VLLに急速に下げる。
なお、非選択設定期間TNは、増幅トランジスタ114が電圧信号の垂直信号線VSL(m)への出力を停止するために、行駆動回路12が低レベル電圧VLを駆動信号線DRNL(n)に印加するための期間である。
詳細には、このとき、行駆動回路12は、レベルトランジスタ123のゲートに高レベル電圧VHを印加する(図3(D)参照)。ゲート電圧VGPが高レベル電圧VHであるため、レベルトランジスタ123は、非選択設定期間TNにおいてオフの状態に保持される。
非選択設定期間TNの開始時に、行駆動回路12は、レベルトランジスタ121のゲートに短パルス状(パルス幅T1)の高レベル電圧VHを印加する(図3(B)参照)。なお、この間、レベルトランジスタ122はオフの状態に保持されている。
ゲート電圧VGN1が高レベル電圧VHであるため、レベルトランジスタ121のみが、オンの状態に保持され、駆動信号線DRNL(n)には、最低レベル電圧VLLの駆動信号SDRNが印加される。
その結果、図3(A)に図示するように、駆動信号SDRNは、高レベル電圧VHから最低レベル電圧VLLに急速に立ち下がる。
次の選択期間TSの開始時は、駆動信号SDRNを最低レベル電圧VLLから高レベル電圧VHに立ち上げる必要がある。このとき、行駆動回路12は、最低レベル電圧VLLの駆動信号SDRNから高レベル電圧VHの駆動信号SDRNまで段階的に復帰させる。
具体的には、行駆動回路12は、レベルトランジスタ121のゲートに短パルス状の高レベル電圧VHを印加した後、レベルトランジスタ122のゲートに高レベル電圧VHを非選択設定期間TNの終了時まで期間T2、印加する(図3(C)参照)。無論、パルス幅T1は、期間T2よりも極めて短い(T2>>T1)。
ゲート電圧VGN2が高レベル電圧VHであるため、レベルトランジスタ122のみが、オンの状態に保持され、駆動信号線DRNL(n)には、低レベル電圧VLの駆動信号SDRNが印加される。
その結果、図3(A)に図示するように、駆動信号SDRNは、最低レベル電圧VLLから増幅トランジスタ114をオフ状態にするための低レベル電圧VLを経て高レベル電圧VHまでゆっくりと復帰している。非選択設定期間TNの開始時おける駆動信号SDRNの急速な立ち下がり時の電圧(最低レベル電圧VLL)は、低レベル電圧VLを超過したアンダーシュートであるものと捉えることができる。
上述したように、非選択設定期間TNにおいて、行駆動回路12が、駆動信号SDRNを高レベル電圧VHから急速に最低レベル電圧VLLに立ち下げ、最低レベル電圧VLLから低レベル電圧VLを経てゆっくりと元の高レベル電圧VHに復帰させることで、非選択設定期間TNが短縮され、画素回路11の高速駆動化を図ることができる。
(行駆動回路12の変形例)
行駆動回路12では、駆動信号SDRNの立ち下がり時に、レベルトランジスタ121がオンの状態に、レベルトランジスタ122がオフの状態に保持されている(図3の期間T1)。
このとき、低レベル電圧VLは、最低レベル電圧VLLよりも高い(VL>VLL)ため、これらの2つの電位差によっては、レベルトランジスタ122の寄生ダイオードによって、行駆動回路12内で短絡が発生する場合がある。
上述のような短絡を防止するため、本変形例の行駆動回路12aは、図4に図示する構成を採っている。
図4は、第1実施形態に係る駆動回路の変形例を示す等価回路図である。図4には、第n行目の回路部分のみが図示されている。
図4に図示するように、行駆動回路12aは、レベルトランジスタ121〜123に加え、レベルトランジスタ124を有する。このレベルトランジスタ124には、nチャネルのMOSFETが一例として採用されている。
レベルトランジスタ124は、ノードND2とレベルトランジスタ122との間に配置されている。詳細には、レベルトランジスタ124は、ソースがレベルトランジスタ122のドレインに接続され、ドレインがノードND2に接続されている。
なお、本発明の第1のトランジスタは、レベルトランジスタ122に対応し、本発明の第2のトランジスタは、レベルトランジスタ124に対応している。
図5は、図4の各レベルトランジスタの断面模式図である。ただし、図5には、レベルトランジスタ123の図示が省略されている。
図5において、S121,S122,およびS124は、各レベルトランジスタ121,122,および124のソース電極を示す符号である。D121,D122,およびD124は、各レベルトランジスタ121,122,および124のドレイン電極を示す符号である。G121,G122,およびG124は、各レベルトランジスタ121,122,および124のゲート配線を示す符号である。
図5に図示するように、レベルトランジスタ121のサブストレートSB121には、最低レベル電圧VLLの電圧源が接続されている。レベルトランジスタ122のサブストレートSB122には、低レベル電圧VLの電圧源が接続されている。レベルトランジスタ124のサブストレートSB124には、最低レベル電圧VLOWの電圧源が接続されている。
この最低レベル電圧VLOWは、最低レベル電圧VLLと同一電圧、もしくは最低レベル電圧VLLよりも低い電圧である(VLL≧VLOW)。VLOWは、負の電圧(たとえば−1V)であってもよく、本変形例においては、最低レベル電圧VLLと同一の接地電位GNDであるものとする。
レベルトランジスタ124を図5に図示するように配置しない場合、駆動信号SDRNの立ち下がり時に、寄生ダイオードによる電流(レベルトランジスタ122のp型ウェル層とドレイン層との間に流れる電流)が発生し、回路内部で短絡が発生する場合がある。
しかし、レベルトランジスタ124をノードND2とレベルトランジスタ122との間に配置することによって、寄生ダイオードによる電流の発生を抑制し、回路内短絡を防止することができる。
次に、図4に図示する行駆動回路12aの動作について説明する。
図6は、図4に示す行駆動回路の動作例を示すタイミングチャートである。
なお、図6(D)はレベルトランジスタ124のゲートに印加されるゲート電圧VGN3を示し、図6(E)はレベルトランジスタ123のゲートに印加されるゲート電圧VGPを示している。
図6(A)〜(C)に図示する、駆動信号SDRN、レベルトランジスタ121のゲートに印加されるゲート電圧VGN1、およびレベルトランジスタ122のゲートに印加されるゲート電圧VGN2は、図3(A)〜(C)に図示する行駆動回路12のものと同一である。
図6(C),(D)に図示するように、行駆動回路12aは、ゲート電圧VGN3をゲート電圧VGN2に連動させて、レベルトランジスタ124のゲートに印加する。すなわち、ゲート電圧VGN2が高レベル電圧VHのとき、ゲート電圧VGN3も高レベル電圧VHである。ゲート電圧VGN2が低レベル電圧VLのとき、ゲート電圧VGN3は低レベル電圧VLOW(低レベル電圧VLでもよい)である。
以後の実施形態では、図4に図示する回路構成の行駆動回路12aを採用したCMOSイメージセンサ1について説明する。
図7を参照しながら、第n行、第m列目の画素回路11の動作を中心とした、CMOSイメージセンサの動作について説明する。
図7は、第1実施形態に係るCMOSイメージセンサの動作例を示すタイミングチャートである。図7(A)は駆動信号SDRNを示し、図7(B)はリセット信号SRSTを示し、図7(C)は転送信号STRNを示している。
選択期間TS(時刻t1〜t4)において、行駆動回路12aは、高レベル電圧VHの駆動信号SDRNを駆動信号線DRNL(n)に印加する(図7(A)参照)。
時刻t2において、行駆動回路12aは、リセットトランジスタ113のリセット信号線RSTLにパルス状(高レベル電圧VH)のリセット信号SRSTを印加する(図7(B)参照)。
このパルス幅の期間、リセットトランジスタ113は、オンの状態に保持される。これにより、フローティングディフュージョンFDの電位は、高レベル電圧VHにリセットされる。
時刻t3において、行駆動回路12aは、転送トランジスタ112の転送信号線TRNL(n)にパルス状(高レベル電圧VH)の転送信号STRNを印加する(図7(C)参照)。
このパルス幅の期間、転送トランジスタ112は、オンの状態に保持される。これにより、光電変換素子111が電荷蓄積期間に蓄積した電荷は、フローティングディフュージョンFDに転送される。
光電変換素子111からフローティングディフュージョンFDに電荷が転送されたことにより、フローティングディフュージョンFDの電位は電荷量に応じて変動し、この電位は増幅トランジスタ114のゲートに印加される。そして、増幅トランジスタ114のドレインに電源電圧VDDが印加されていることから、転送トランジスタ112は、フローティングディフュージョンFDの電位をゲート−ソース間電圧に応じて増幅し、増幅した電位を垂直信号線VSL(m)に出力する。
水平転送回路13は、第m列目のスイッチ132を開閉して垂直信号線VSL(m)を選択し、選択した列の画素回路11から信号を読み出す。このとき、カラム回路131は、垂直信号線(m)に印加されたアナログの電圧信号をディジタル化し、このデジタル信号を水平転送信号線HSCNLに出力する。
その後、水平転送回路13は、CDS処理されたデジタル信号を出力信号SIGとしてCMOSイメージセンサ1外部の信号処理装置に出力する。
電荷の読み出しの終了後、画素回路11を非選択状態にするため、行駆動回路12aは、増幅トランジスタ34の出力を停止させる。
詳細には、非選択設定期間TN(時刻t4〜t6)において、行駆動回路12aは、リセットトランジスタ113のリセット信号線RSTLにパルス状(高レベル電圧VH)のリセット信号SRSTを印加する(図7(B)参照)。
非選択設定期間TNの開始時に、行駆動回路12aは、駆動信号線DRNL(n)に短パルス状(図3のパルス幅T1)の最低レベル電圧VLLの駆動信号SDRNを時刻t4から時刻t5まで印加する。これにより、駆動信号SDRNの電圧レベルは、高レベル電圧VHから最低レベル電圧VLLに急速に下がる。
次に、行駆動回路12aは、駆動信号線DRNL(n)に低レベル電圧VLの駆動信号SDRNを時刻t5から時刻t6まで印加する。
その結果、フローティングディフュージョンFDの電位は、低レベル電圧VLに設定される。
これにより、増幅トランジスタ114のゲートには、低レベル電圧VLが印加される。次の行の選択期間TSが開始すると、増幅トランジスタ114のドレインには電源電圧VDDが印加され、垂直信号線VSL(m)には、他の行の画素回路11からの電荷の読み出しによって、電圧信号(この電圧信号は、低レベル電圧VLより高い)が印加されている。したがって、他の行が選択されている期間、増幅トランジスタ114はオフの状態に保持される。
上述したように、リセットトランジスタ113は、フローティングディフュージョンFDの電位を高レベル電圧VH、低レベル電圧VL、あるいは最低レベル電圧VLLに設定し、増幅トランジスタ114の出力を制御する。
増幅トランジスタ114は、フローティングディフュージョンFDの電位を増幅し、増幅した電位を電圧信号として垂直信号線VSL(m)に出力する。
以上で、1水平期間HのCMOSイメージセンサ1の動作が完了する。
第1実施形態によれば、3トランジスタ駆動型の画素回路11において、リセットトランジスタ113のドレインが駆動信号線DRNL(n)に接続され、増幅トランジスタ114のドレインが電源電圧VDDに接続されている。
行駆動回路12aは、画素回路11の非選択設定期間TNにおいて、駆動信号線DRNL(n)に印加する電圧レベルを、高レベル電圧VHから最低レベル電圧VLLに急速に切り替え、最低レベル電圧VLLから低レベル電圧VLを経て、元の高レベル電圧VHへ段階的に復帰させる。
このことから、3トランジスタ駆動型の画素回路を高速駆動させ、高フレームレートで画素の読み出しを行うことができる。この点について、図8〜図10を参照しながら説明する。
図8は、第1実施形態に係る画素部および行駆動回路の詳細例を示す等価回路図である。ただし、図8には、第n行目の画素回路11が図示され、リセット信号線RSTL等が適宜省略されて図示されている。図8に示す符号12(n)aは、行駆動回路12aの第n行目の回路部分を示す(図4参照)。
第n行において、行駆動回路12a(n)から最も離れた第1列目の画素回路11(L)と、行駆動回路12a(n)から最も近い最終列目の画素回路11(R)とが共通に接続された駆動信号線DRNL(n)には、配線抵抗Rおよび寄生容量Cが存在する。
したがって、駆動信号SDRNは、画素回路11(R)から画素回路11(L)に到達するまでに、配線抵抗Rによって減衰し、寄生容量Cによって遅延する。コンピュータシミュレーションによる駆動信号SDRNの伝搬の様子を図9に関連付けて説明する。
図9は、第1実施形態に係るCMOSイメージセンサのシミュレーション結果を示す図である。
図9(A)は、駆動信号SDRN(図7(A)参照)が画素回路11(L)に(図8参照)伝搬されたときの駆動信号SDRN(L)の波形である。図9(B)は、駆動信号SDRNが画素回路11(R)に(図8参照)伝搬したときの駆動信号SDRN(R)の波形である。
図9(C)は、ゲート電圧VGN1を示し(図6(B)参照)、図9(D)は、ゲート電圧VGN2を示し(図6(C)参照)、図9(E)は、ゲート電圧VGN3(図6(D)参照)を示し、図9(F)は、ゲート電圧VGPを示す(図6(E)参照)。
なお、図9の横軸は時間(s)を示し、縦軸は駆動信号SDRNの電圧(V)を示す。ゲート電圧VGN2は、時刻t5よりも若干早く、低レベル電圧LLから高レベル電圧VHに立ち上がっている。ゲート電圧VGN3についても同様である。
行駆動回路12aに最も近い画素回路11(R)では、リセットトランジスタ113のドレインに図9(B)には、図示するような波形の駆動信号SDRN(R)が印加される。この駆動信号SDRN(R)は、時刻t4において、高レベル電圧VHから最低レベル電圧VLLに急速に立ち下がっている。
パルス幅T1のゲート電圧VGN1がレベルトランジスタ121のゲートに印加される期間では(図9(C)参照)、駆動信号SDRN(R)は、最低レベル電圧VLLに略一定に保持されている(図9(B)参照)。すなわち、駆動信号SDRN(R)は、低レベル電圧VLよりも低い最低レベル電圧VLLにアンダーシュート(超過)している。
駆動信号SDRNが、行駆動回路12aから最も遠い位置の画素回路11(L)に伝搬された時、リセットトランジスタ113のドレインには、図9(A)に図示するような波形の駆動信号SDRN(L)が印加される。
駆動信号SDRNは、配線抵抗Rによって減衰しているため、最低レベル電圧VLLにアンダーシュートしておらず、駆動信号SDRN(L)の立ち下がりは、駆動信号SDRN(R)のものと比較して非常に滑らかである。寄生容量Cによる遅延により、駆動信号SDRN(L)は、時刻t5において高レベル電圧VHから低レベル電圧VLに達する。
よって、非選択設定期間TN中に、n行目の画素回路11の増幅トランジスタ114のゲートに低レベル電圧VLを印加することで、非選択行にすることができる。
このように、駆動信号線DRNL(n)の配線抵抗Rおよび寄生容量Cを考慮し、行駆動回路12aは、アンダーシュートした駆動信号SDRNを駆動信号線DRNL(n)に印加し、駆動信号SDRNの立ち下がり時間を高速化する。
図13に図示する一般的なCMOSイメージセンサ3の場合、駆動信号SDRNは図10に図示するように伝搬される。
図10は、一般的なCMOSイメージセンサのシミュレーション結果を示す図である。
図10(A)は、駆動信号SDRN(図14(A)参照)が画素回路30(L)に(図13参照)伝搬されたときの駆動信号SDRN(L)の波形である。図10(B)は、駆動信号SDRNが画素回路30(R)に伝搬したときの駆動信号SDRN(R)の波形である。
図10(C)は、トランジスタ38のゲートに印加されるゲート電圧VGNを示し、図10(D)は、トランジスタ39のゲートにゲート電圧VGPを示す。
行駆動回路37から最も離れた第1列目の画素回路30(L)と、行駆動回路37から最も近い最終列目の画素回路30(R)とが共通に接続された駆動信号線310には、配線抵抗Rおよび寄生容量Cが存在するものとする。
一般的なCMOSイメージセンサ3の場合、非選択設定期間TNにおいて、駆動信号SDRN(L)、(R)が共に低レベル電圧VLに集束するためには(図10(A)、(B)参照)、図9に図示する駆動信号SDRN(L)、(R)よりも0.1μs程度の余分な時間が必要となる。
非選択設定期間TNを短縮することは、3トランジスタ駆動型の画素回路における高速駆動化には必須である。上述したように、第1実施形態に係るCMOSイメージセンサによれば、非選択設定期間TNを従来のものよりも大幅に短縮し、画素回路を高速に駆動することができるだけでなく、高フレームレートで画素の読み出しを行うことができる。
上述したように、駆動信号SDRNの立ち下がりが急峻であるにも拘わらず、画素回路11を構成するトランジスタのp型ウェルの電位の揺れを低減させ、シェーディングを抑えることができる。この点について、再び図13を参照しながら説明する。
一般的な3トランジスタ駆動型のCMOSイメージセンサ3において、画素回路30から垂直信号線35に流れる電流経路には、次のような2つの経路が存在する。
第1の電流経路I1は、駆動信号線310からリセットトランジスタ33を介し、フローティングディフュージョンFDを経由した垂直信号線35までの経路である(図13の破線矢印参照)
第2の電流経路I2は、駆動信号線310から増幅トランジスタ34を介した垂直信号線35までの経路である(図13の破線矢印参照)
2つの電流経路は、リセットトランジスタ33のドレインと、増幅トランジスタ34のドレインとが駆動信号線310に共通に接続されているため発生する。その上、第2の電流経路I2のインピーダンスは、第1の電流経路I1のものよりも低いため、駆動信号SDRNの能力として大きなバッファが必要となる。これにより、画素回路30を構成するトランジスタのp型ウェルの電位が激しく揺れる。
しかし、第1実施形態によれば、リセットトランジスタ113のドレインが、駆動信号線DRNL(n)に接続され、増幅トランジスタ114のドレインが、電源電圧VDDに接続されているため、第2の電流経路I2は存在せず、上述したp型ウェルの電位の揺れを低減することができる。
したがって、駆動信号SDRNの立ち下がりが急峻であっても、シェーディングを低減させることができる。
なお、駆動信号線DRNL(n)に印加する高レベル電圧VHは、増幅トランジスタ114のドレインに接続された電源電圧VDDと同じである必要はない。低消費電力化のために、高レベル電圧VHを電源電圧VDDよりも低い電圧に設定することもできる(VDD>VH>VL)。逆に、電源電圧VDDを高レベル電圧VHよりも低い電圧に設定することもできる(VH>VDD>VL)。
高レベル電圧VHを高電圧に設定することで、飽和信号量を増やすためにフローティングディフュージョンFDを高電圧でリセットすることができる。4値以上の電圧レベルを設け、非選択設定期間TNにおいて、駆動信号SDRNを最低レベル電圧VLLから高レベル電圧VHに段階的に復帰させることもできる。
たとえば、4値の電圧レベルを設ける場合、低レベル電圧VLより高く、高レベル電圧VHよりも低い第4の電圧レベルを設け、駆動信号SDRNが最低レベル電圧VLLから高レベル電圧VHに復帰する際に、低レベル電圧VL、第4の電圧レベルを経て高レベル電圧VHに復帰することもできる。
(第2実施形態)
第1実施形態では、駆動信号SDRNが、駆動信号線DRNL(n)の一端に印加される(図8参照)のに対し、第2実施形態では、駆動信号SDRNが、駆動信号線DRNL(n)の両端に印加される。
図11は、第2実施形態に係る画素部および行駆動回路の詳細例を示す等価回路図である。ただし、図11には、第n行目の画素回路11が図示され、リセット信号線RSTL等が適宜省略されて図示されている。図11示す符号12a−1(n)、12a−2(n)は、行駆動回路12a−1、12a−2の第n行目の回路部分を示す。
図11に図示するように、図4と同様の回路構成の行駆動回路12a−1、12a−2が画素部10の両側に配置されている。駆動信号線DRNL(n)の一端には、行駆動回路12a−1(n)が接続され、駆動信号線DRNL(n)の他端には、行駆動回路12a−2(n)が接続されている。
行駆動回路12a−1、12a−2は、図6(A)に図示するタイミングで、駆動信号SDRNを駆動信号線DRNL(n)に同時に印加する。
駆動信号線DRNL(n)に接続された画素回路11のうち、中央に配置された画素回路11では、駆動信号線DRNL(n)の両端から駆動信号SDRNが伝達される。このため、第2実施形態に係るCMOSイメージセンサは、第1実施形態のものよりもより高速に画素回路11を駆動することができる。
このような効果を有するCMOSイメージセンサ1は、デジタルカメラやビデオカメラ等の撮像デバイスとして適用することができる。
図12は、本発明の実施形態に係るCMOSイメージセンサが適用されるカメラの構成例を示す図である。
カメラ2は、図12に示すように、撮像素子としてのCMOSイメージセンサ1、このCMOSイメージセンサ1の画素領域(画素部10)に入射光を導く(被写体像を結像する)光学系、およびCMOSイメージセンサ1の出力信号SIGを処理する信号処理回路(DSP)22を有する。光学系は、たとえば入射光(像光)を撮像面上に結像させるレンズ21で構成されている。
信号処理回路22は、CMOSイメージセンサ1の出力信号SIGに対して画像処理を施す。信号処理回路22で処理された画像信号は、たとえばメモリなどの記録媒体に記録される。記録媒体に記録された画像情報は、プリンタなどによってハードコピーされる。信号処理回路22で処理された画像信号を液晶ディスプレイ等からなるモニタに動画として映し出される。
上述したように、カメラ等にCMOSイメージセンサを搭載することで、シェーディング等のノイズを低減させるだけではなく、画素の高速な読み出しを実行することができるカメラを実現することができる。
第1実施形態に係るCMOSイメージセンサの構成例を示す概略構成図である。 第1実施形態に係る画素回路および行駆動回路の構成例を示す等価回路図である。 第1実施形態に係る行駆動回路の動作例を示すタイミングチャートである。 第1実施形態に係る駆動回路の変形例を示す等価回路図である。 図4の各レベルトランジスタの断面模式図である。 図4に示す行駆動回路の動作例を示すタイミングチャートである。 第1実施形態に係るCMOSイメージセンサの動作例を示すタイミングチャートである。 第1実施形態に係る画素部および行駆動回路の詳細例を示す等価回路図である。 第1実施形態に係るCMOSイメージセンサのシミュレーション結果を示す図である。 一般的なCMOSイメージセンサのシミュレーション結果を示す図である。 第2実施形態に係る画素部および行駆動回路の詳細例を示す等価回路図である。 本発明の実施形態に係るCMOSイメージセンサが適用されるカメラの構成例を示す図である。 一般的なCMOSイメージセンサの構成例を示す主要部の等価回路図である。 図13に図示するCMOSイメージセンサのタイミングチャートである。
符号の説明
1…CMOSイメージセンサ、2…カメラ、3…CMOSイメージセンサ、10…画素部、11…画素回路、12…行駆動回路、13…水平転送回路、14…タイミングジェネレータ、15…定電流源回路、21…レンズ、22…信号処理回路、111…光電変換素子、112…転送トランジスタ、113…リセットトランジスタ、114…増幅トランジスタ、121〜124…レベルトランジスタ、131…カラム回路、132…スイッチ、DRNL…駆動信号線、FD…フローティングディフュージョン、RSTL…リセット信号線、TRNL…転送信号線

Claims (7)

  1. マトリクス状に配列された複数の画素回路と、
    同一方向に配列された上記複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線と、
    複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を上記選択駆動線に選択的に印加し、上記画素回路の選択および駆動を行う選択駆動回路と
    を有し、
    上記各々の画素回路は、
    光電変換によって入射光を電荷に変換する光電変換部と、
    上記光電変換部の電荷が転送されるノードと、
    制御端子が上記ノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が出力信号線に接続され、上記ノードの電位を増幅し、当該増幅した電圧を出力信号として当該出力信号線に出力する出力トランジスタと、
    第3の接続端子が上記ノードに接続され、第4の接続端子が上記選択駆動信号が印加される上記選択駆動線に接続され、上記出力トランジスタの上記制御端子が接続された上記ノードの電位を上記電圧レベルに応じた電位に設定し、当該ノードの電位のリセットおよび上記出力トランジスタの出力を制御する制御トランジスタとを有し、
    上記選択駆動回路は、
    上記出力トランジスタの出力停止期間には、上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記出力トランジスタをオンの状態に保持する第1の電圧レベルから上記出力トランジスタをオフの状態に保持する基準の電圧レベルを超過した第2の電圧レベルに移行させ、当該第2の電圧レベルから当該第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる
    撮像素子。
  2. 上記複数の電圧レベルは、
    上記第1の電圧レベルと、
    上記第2の電圧レベルと、
    上記出力トランジスタをオフの状態に保持する基準の電圧レベルとなる第3の電圧レベルとを含み、
    上記選択駆動回路は、
    上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記第1の電圧レベルから上記第2の電圧レベルに移行させ、上記第3の電圧レベルを経て上記第1の電圧レベルに復帰させる
    請求項1記載の撮像素子。
  3. 上記選択駆動回路は、
    上記第2の電圧レベルの選択駆動信号を他の電圧レベルの選択駆動信号よりも短い期間、上記選択駆動線に印加する
    請求項2記載の撮像素子。
  4. 上記選択駆動回路は、
    第5の接続端子に上記第2または第3の電圧レベルのうち、いずれかの電圧レベルの電圧が印加され、当該第5の接続端子に印加された電圧レベルの電圧を上記選択駆動線に出力する第1のトランジスタと、
    上記トランジスタと同極性の第2のトランジスタとを有し、
    上記第2のトランジスタは、
    第7の接続端子が上記トランジスタの第6の接続端子に接続され、第8の接続端子が上記選択駆動線に接続されている
    請求項1から3のいずれか一に記載の撮像素子。
  5. 上記選択駆動回路は、
    上記選択駆動線の両端に上記選択駆動信号を印加する
    請求項1から4のいずれか一に記載の撮像素子。
  6. 複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を、同一方向に配列された複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線に選択的に印加し、当該複数の画素回路の選択および駆動を行い、当該選択した複数の画素回路が、光電変換によって入射光を電荷に変換し、当該電荷量に応じた電圧を出力信号として出力信号線に出力する第1のステップと、
    上記複数の画素回路の上記出力信号を上記複数の画素回路の電荷読みだし後に所定期間停止する第2のステップと
    を有し、
    上記第1のステップにおいては、
    光電変換部で光電変換された電荷をノードに転送し、
    第3の接続端子が上記ノードに接続され、第4の接続端子が上記選択駆動信号が印加される上記選択駆動線に接続された制御トランジスタが、出力トランジスタの制御端子が接続された上記ノードの電位を上記電圧レベルに応じた電位に設定し、当該ノードの電位をリセットし、
    上記制御端子が上記ノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が上記出力信号線に接続された上記出力トランジスタが、上記制御トランジスタの制御によって、上記ノードの電位を増幅し、当該増幅した電圧を上記出力信号として上記出力信号線に出力し、
    上記第2のステップにおいては、
    上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記出力トランジスタをオンの状態に保持する第1の電圧レベルから上記出力トランジスタをオフの状態に保持する電圧レベルを超過した第2の電圧レベルに移行させ、当該第2の電圧レベルから当該第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる
    撮像素子の制御方法。
  7. 撮像素子と、
    上記撮像素子の画素領域に入射光を導く光学系と、
    上記撮像素子が出力した出力信号を処理する信号処理部とを有し、
    上記撮像素子は、
    マトリクス状に配列された複数の画素回路と、
    同一方向に配列された上記複数の画素回路に共通に接続された選択駆動線と、
    複数の異なる電圧レベルの選択駆動信号を上記選択駆動線に選択的に印加し、上記画素回路の選択および駆動を行う選択駆動回路と
    を有し、
    上記各々の画素回路は、
    光電変換によって入射光を電荷に変換する光電変換部と、
    上記光電変換部の電荷が転送されるノードと、
    制御端子が上記ノードに接続され、第1の接続端子が所定の電圧源に接続され、第2の接続端子が出力信号線に接続され、上記ノードの電位を増幅し、当該増幅した電圧を出力信号として当該出力信号線に出力する出力トランジスタと、
    第3の接続端子が上記ノードに接続され、第4の接続端子が上記選択駆動信号が印加される上記選択駆動線に接続され、上記出力トランジスタの上記制御端子が接続された上記ノードの電位を上記電圧レベルに応じた電位に設定し、当該ノードの電位のリセットおよび上記出力トランジスタの出力を制御する制御トランジスタとを有し、
    上記選択駆動回路は、
    上記出力トランジスタの出力停止期間には、上記選択駆動線に印加する上記選択駆動信号の電圧レベルを、上記出力トランジスタをオンの状態に保持する第1の電圧レベルから上記出力トランジスタをオフの状態に保持する基準の電圧レベルを超過した第2の電圧レベルに移行させ、当該第2の電圧レベルから当該第1の電圧レベルまで段階的に復帰させる
    カメラ。
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