JP2010074168A - 硬化フォトレジストを半導体基板から除去する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】硬化したフォトレジストを、低誘電率材料を含む基板から除去し、低誘電率材料の特性を保存する方法を提供する。a)硬化したフォトレジストおよび少なくとも部分的に露出した低誘電率材料を含む基板を用意する。b)硬化したフォトレジストを、真空または不活性雰囲気で200nm〜300nmの波長を有するUV放射で露光することによって、硬化したフォトレジスト中にC=C二重結合を形成する。c)硬化したフォトレジストを、オゾン(O3)またはオゾン(O3)と酸素(O2)の混合物と反応させることによって、b)で形成されたC=C二重結合を破壊し、これにより硬化フォトレジストを断片化する。d)クリーニング化学薬品を用いた湿式処理によって、c)で得られた断片化したフォトレジストを除去する。
【選択図】図1
Description
a)硬化したフォトレジストおよび少なくとも部分的に露出した低誘電率(low-κ)材料を含む基板を用意するステップ。
b)硬化したフォトレジストを、真空または不活性雰囲気で(約)200nm〜(約)300nmの波長を有するUV放射で露光することによって、硬化したフォトレジスト中にC=C二重結合を形成するステップ。
c)硬化したフォトレジストを、オゾン(O3)またはオゾン(O3)と酸素(O2)の混合物と反応させることによって、ステップb)で形成されたC=C二重結合を破壊し、これにより硬化したフォトレジストを断片化するステップ。
d)クリーニング化学薬品(chemistries)を用いた湿式処理によって、ステップc)で得られた断片化したフォトレジストを除去するステップ。
・硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率(low-κ)材料を含む基板を用意するステップ。
・硬化したフォトレジストを、真空または不活性雰囲気で(約)200nm〜(約)300nmの波長を有するUV放射で前処理(または露光)するステップ。
・オゾンを含むクリーニング化学薬品中の湿式処理によって、前処理した硬化フォトレジストを除去するステップ。
・硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率(low-κ)材料を含む基板を用意するステップ。
・硬化したフォトレジストを、O2、オゾン(O3)またはO3とO2の混合物の存在下で(約)260nm〜(約)300nmの波長を有するUV放射で前処理するステップ。
・クリーニング化学薬品中の湿式処理によって、前処理した硬化フォトレジストを除去するステップ。
a)硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率(low-κ)材料を含む基板を用意するステップ。
b)硬化したフォトレジストを、真空または不活性雰囲気で(約)200nm〜(約)300nmの波長を有するUV放射で露光することによって、硬化したフォトレジスト中にC=C二重結合を形成するステップ。
c)硬化したフォトレジストを、オゾン(O3)またはオゾン(O3)と酸素(O2)の混合物と反応させることによって、ステップb)で形成されたC=C二重結合を破壊し、これにより硬化したフォトレジストを断片化するステップ。
d)クリーニング化学薬品を用いた湿式処理によって、ステップc)で得られた断片化したフォトレジストを除去するステップ。
・硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率(low-κ)材料を含む基板を用意するステップ。
・硬化したフォトレジスト層を、真空または不活性雰囲気で200nm〜300nmの波長を有するUV放射で前処理するステップ。
・オゾンを含むクリーニング化学薬品中の湿式処理によって、前処理し硬化したフォトレジストを除去するステップ。
・硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率(low-κ)材料を含む基板を用意するステップ。
・硬化したフォトレジストを、O2、またはO3あるいはO2とO3の混合物の存在下で(約)260nm〜(約)300nmの波長を有するUV放射で前処理するステップ。
・クリーニング化学薬品中の湿式処理によって、前処理し硬化したフォトレジストを除去するステップ。
Claims (15)
- 硬化したフォトレジストを、低誘電率材料を含む基板から除去し、低誘電率材料の特性を保存する方法であって、
a)硬化したフォトレジストおよび少なくとも部分的に露出した低誘電率材料を含む基板を用意するステップと、
b)硬化したフォトレジストを、真空または不活性雰囲気で、200nm〜300nmの波長を有するUV放射で露光することによって、硬化したフォトレジスト中にC=C二重結合を形成するステップと、
c)硬化したフォトレジストを、オゾン(O3)またはオゾン(O3)と酸素(O2)の混合物と反応させることによって、ステップb)で形成されたC=C二重結合を破壊して、硬化したフォトレジストを断片化するステップと、
d)クリーニング化学薬品を用いた湿式処理によって、ステップc)で得られた断片化したフォトレジストを除去するステップと、を含む方法。 - 形成されたC=C二重結合を破壊するステップ、および断片化したフォトレジストを除去するステップは、オゾンを含むクリーニング化学薬品での湿式処理によって実質的に同時に行われる請求項1記載の方法。
- UV放射は、260nmより高い波長を有する請求項1または2記載の方法。
- 硬化したフォトレジスト中にC=C二重結合を形成するステップ、および形成されたC=C二重結合を破壊するステップは、酸素(O2)、オゾン(O3)またはO3とO2の混合物を供給するとともに、硬化したフォトレジストをUV放射に露出することによって、実質的に同時に行われる請求項3記載の方法。
- 不活性雰囲気は、N2、希ガス、またはこれらの混合を含む請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 硬化したフォトレジスト層を、低誘電率材料を含む基板から除去し、低誘電率材料の特性を保存する方法であって、
・硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率材料を含む基板を用意するステップと、
・硬化したフォトレジストを、真空または不活性雰囲気で、200nm〜300nmの波長を有するUV放射で前処理するステップと、
・オゾンを含むクリーニング化学薬品中の湿式処理によって、前処理した硬化フォトレジストを除去するステップと、含む方法。 - 硬化したフォトレジスト層を、低誘電率材料を含む基板から除去し、低誘電率材料の特性を保存する方法であって、
・硬化したフォトレジスト層および少なくとも部分的に露出した低誘電率材料を含む基板を用意するステップと、
・硬化したフォトレジストを、O2、オゾン(O3)またはO3とO2の混合物の存在下で、260nm〜300nmの波長を有するUV放射で前処理するステップと、
・クリーニング化学薬品中の湿式処理によって、前処理した硬化フォトレジストを除去するステップと、を含む方法。 - クリーニング化学薬品は、水溶液からなる請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 水溶液は、脱イオン(DI)水からなる請求項8記載の方法。
- クリーニング化学薬品は、有機溶媒またはこれらの混合物からなる請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 有機溶媒は、ハロゲン化溶媒、プロピレンカーボネート(PC)およびこれらの混合物からなるグループから選択される請求項10記載の方法。
- クリーニング化学薬品は、例えば、界面活性剤、腐食防止剤またはキレート剤などの化学添加剤をさらに含む請求項1〜11のいずれかに記載の方法。
- 断片化したフォトレジストを除去した後、脱イオン(DI)水または有機溶媒を用いた追加のリンス処理を行うことを含む請求項1〜12のいずれかに記載の方法。
- 電子デバイスの製造のための請求項1〜13のいずれかに記載の方法の使用。
- 硬化したフォトレジスト層は、複数層の積層を備え、前記複数層は、反射防止コーティング層(ARC)、好ましくは、上部反射防止コーティング層(TARC)または下部反射防止コーティング層(BARC)、より好ましくは、下部反射防止コーティング層を含む請求項1〜14のいずれかに記載の方法。
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