JP2010074127A - 組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 - Google Patents
組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010074127A JP2010074127A JP2009033650A JP2009033650A JP2010074127A JP 2010074127 A JP2010074127 A JP 2010074127A JP 2009033650 A JP2009033650 A JP 2009033650A JP 2009033650 A JP2009033650 A JP 2009033650A JP 2010074127 A JP2010074127 A JP 2010074127A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- composition
- repeating unit
- polymer compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 218
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 99
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 148
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 130
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims abstract description 40
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- -1 R 21 Chemical compound 0.000 claims description 114
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 53
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 46
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 44
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 36
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 34
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 32
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 125000004659 aryl alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 24
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000004982 aromatic amines Chemical group 0.000 claims description 6
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 69
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 52
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 38
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 23
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 22
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 18
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 17
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 16
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 12
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 11
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 10
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 9
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 8
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 0 Cc1c(*)c(*)c2-c3c(*)c(*)c(C)c(*)c3C(*)(*)c2c1* Chemical compound Cc1c(*)c(*)c2-c3c(*)c(*)c(C)c(*)c3C(*)(*)c2c1* 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 4
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- ORPNDFMZTDVBGA-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)phosphane Chemical compound COC1=CC=CC=C1P ORPNDFMZTDVBGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 1-bromobutane Chemical compound CCCCBr MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 1-bromohexane Chemical compound CCCCCCBr MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 1-bromopentane Chemical compound CCCCCBr YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohexane Chemical compound CCCCCCCl MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical group 0.000 description 3
- AQNQQHJNRPDOQV-UHFFFAOYSA-N bromocyclohexane Chemical compound BrC1CCCCC1 AQNQQHJNRPDOQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 3
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 3
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 3
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 3
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 3
- UNFUYWDGSFDHCW-UHFFFAOYSA-N monochlorocyclohexane Chemical compound ClC1CCCCC1 UNFUYWDGSFDHCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Chemical group 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- IIOSDXGZLBPOHD-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyphenyl)phosphane Chemical compound COC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)OC)C1=CC=CC=C1OC IIOSDXGZLBPOHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- OOYDTEGVMRPGRK-UHFFFAOYSA-N (9-octanoyl-8,10-dioxoheptadecan-9-yl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC(=O)C([NH3+])(C(=O)CCCCCCC)C(=O)CCCCCCC OOYDTEGVMRPGRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Natural products CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- UREZNYTWGJKWBI-UHFFFAOYSA-M benzethonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OCCOCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UREZNYTWGJKWBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical group C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Chemical group 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Chemical group 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005978 1-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylbut-2-enedinitrile Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C#N)=C(C#N)C1=CC=CC=C1 VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005979 2-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Chemical class 0.000 description 1
- HGCHMKRTYPRODW-UHFFFAOYSA-N CC(C)c1ccc(-c2ccc(-c3ccc(C)[s]3)c3n[s]nc23)[s]1 Chemical compound CC(C)c1ccc(-c2ccc(-c3ccc(C)[s]3)c3n[s]nc23)[s]1 HGCHMKRTYPRODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHUWXFBVERHKOJ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC1(CCCCCC)c(cc(B2OCCO2)cc2)c2-c2c1cc(BOCCO)cc2 Chemical compound CCCCCCC1(CCCCCC)c(cc(B2OCCO2)cc2)c2-c2c1cc(BOCCO)cc2 MHUWXFBVERHKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPIZDSGHVCOXOM-UHFFFAOYSA-N CCCCCCc1c(C)[s]c(-c2ccc(-c3cc(CCCCCC)c(CCc4c(C)cc(-c5ccc(-c6cc(C)c(C)[s]6)c6n[s]nc56)[s]4)[s]3)c3n[s]nc23)c1 Chemical compound CCCCCCc1c(C)[s]c(-c2ccc(-c3cc(CCCCCC)c(CCc4c(C)cc(-c5ccc(-c6cc(C)c(C)[s]6)c6n[s]nc56)[s]4)[s]3)c3n[s]nc23)c1 WPIZDSGHVCOXOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYPJNSMIAIPAFO-UHFFFAOYSA-N CCCCCCc1c(C2(C)SC(c([s]3)ccc3[BrH+])=CC2)[s]c(-c2ccc(-c([s]3)ccc3[BrH+])[s]2)c1CCCCCC Chemical compound CCCCCCc1c(C2(C)SC(c([s]3)ccc3[BrH+])=CC2)[s]c(-c2ccc(-c([s]3)ccc3[BrH+])[s]2)c1CCCCCC NYPJNSMIAIPAFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFTLOKWAGJYHHR-UHFFFAOYSA-N N-methylmorpholine N-oxide Chemical compound CN1(=O)CCOCC1 LFTLOKWAGJYHHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000292 Polyquinoline Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- IOEJYZSZYUROLN-UHFFFAOYSA-M Sodium diethyldithiocarbamate Chemical compound [Na+].CCN(CC)C([S-])=S IOEJYZSZYUROLN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Ca] Chemical compound [AlH3].[Ca] ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Chemical group 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical group [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 1
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical group BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical group ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005366 cycloalkylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N indium lithium Chemical compound [Li].[In] LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N indium silver Chemical compound [Ag].[In] YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical group IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N lithium magnesium Chemical compound [Li].[Mg] GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004718 n-hexylthio group Chemical group C(CCCCC)S* 0.000 description 1
- 125000006609 n-nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004712 n-pentylthio group Chemical group C(CCCC)S* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004706 n-propylthio group Chemical group C(CC)S* 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 238000006053 organic reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical class C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- WWGXHTXOZKVJDN-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-diethylcarbamodithioate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Na+].CCN(CC)C([S-])=S WWGXHTXOZKVJDN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/32—Polythiazoles; Polythiadiazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/127—Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/128—Intrinsically conductive polymers comprising six-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polyanilines, polyphenylenes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/151—Copolymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/31—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/314—Condensed aromatic systems, e.g. perylene, anthracene or pyrene
- C08G2261/3142—Condensed aromatic systems, e.g. perylene, anthracene or pyrene fluorene-based, e.g. fluorene, indenofluorene, or spirobifluorene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/32—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/322—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain non-condensed
- C08G2261/3223—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain non-condensed containing one or more sulfur atoms as the only heteroatom, e.g. thiophene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/32—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/324—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain condensed
- C08G2261/3246—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain condensed containing nitrogen and sulfur as heteroatoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/36—Oligomers, i.e. comprising up to 10 repeat units
- C08G2261/364—Oligomers, i.e. comprising up to 10 repeat units containing hetero atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/40—Polymerisation processes
- C08G2261/41—Organometallic coupling reactions
- C08G2261/411—Suzuki reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/90—Applications
- C08G2261/91—Photovoltaic applications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/30—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/20—Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
- H10K85/211—Fullerenes, e.g. C60
- H10K85/215—Fullerenes, e.g. C60 comprising substituents, e.g. PCBM
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
(1)
(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(2)
(式中、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。pは2〜10の整数を表す。複数個あるR3は、同一でも異なっていてもよく、複数個あるR4は同一でも異なっていてもよい。)
本発明に用いられる高分子化合物Aにおいて、式(1)中、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。
(15)
(式(15)中、gは1〜6の整数を表し、hは0〜5の整数を表す。)
(3)
(式中、R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。qは2〜7の整数を表す。複数個あるR5は、同一でも異なっていてもよく、複数個あるR6は同一でも異なっていてもよい。)
(4)
(式中、Arはアリーレン基、2価の複素環基または2価の芳香族アミン残基を表す。)
アリーレン基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセン−ジイル基、ビフェニル−ジイル基、ターフェニル−ジイル基、フルオレンジイル基、ベンゾフルオレンジイル基等があげられる。
(6)
(式中、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(7)
(式中、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23およびR24は、
それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。)
ここに複素環化合物とは、環式構造を持つ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素、ヒ素などのヘテロ原子を環内に含むものをいう。2価の複素環基の中では、芳香族複素環基が好ましい。2価の複素環基における置換基を除いた部分の炭素数は通常3〜60程度である。また、2価の複素環基の置換基を含めた全炭素数は、通常3〜100程度である。
ヘテロ原子として、窒素を含む2価の複素環基:ピリジンージイル基(下式101〜106)、ジアザフェニレン基(下式107〜110)、キノリンジイル基(下式111〜125)、キノキサリンジイル基(下式126〜130)、アクリジンジイル基(下式131〜134)、ビピリジルジイル基(下式135〜137)、フェナントロリンジイル基(下式138〜140)。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、硫黄、セレン、ホウ素、リンなどを含む5員環複素環基(下式141〜145)。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、セレンなどを含む5員環縮合複素基(下式146〜172)。
式(8)で表される基。
(式中、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31およびR32は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(5)
(式中、Ar、R5、R6およびqは前述と同じ意味を表す。2個あるArは、同一でも異なっていてもよい。)
(9)
(式中、R5、R6、R7、R8およびqは、前述と同じ意味を表す。2個あるR7は同一でも異なっていてもよく、2個あるR8は、同一でも異なっていてもよい)
(16)
(式中、R33、R34、R35およびR36は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。t1、t2は、それぞれ独立に、1または2の整数を表す。R33、R34、R35およびR36が複数個ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。R1およびR2は前述と同じ意味を表す。)
(12)
(式中、R1、R2、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R33、R34、R35およびR36は、前述と同じ意味を表す。)
(13)
(式中、R1、R2、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R33、R34、R35およびR36は前述と同じ意味を表す。)
(14)
(式中、R1、R2、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35およびR36は前述と同じ意味を表す。)
Xk−block−Ym
Xk−block−(YZ)m
(XZ)k−block−Ym
(XZ)k−block−(YZ)m
(XZ)k−block−(YZ)m−block−Zn
等があげられる。なお、連鎖配列中k、mおよびnは繰り返し単位の数を表す。また、X、Y、Zが複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。
本発明に用いられる高分子化合物Bにおいて、式(2)中、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。pは2〜10の整数を表す。複数個あるR3は、同一でも異なっていてもよく、複数個あるR4は同一でも異なっていてもよい。
次に本発明の組成物に含まれる高分子化合物の製造方法について説明する。
本発明に用いられる高分子化合物の製造方法は、具体的には、原料化合物(モノマー)となる、縮合重合に関与する置換基を2個有する化合物を、必要に応じ、有機溶媒に溶解し、例えばアルカリや適当な触媒を用い、有機溶媒の融点以上沸点以下の温度で行うことができる。例えば、“オルガニック リアクションズ(Organic Reactions)”,第14巻,270−490頁,ジョンワイリー アンド サンズ(John Wiley&Sons,Inc.),1965年、“オルガニック シンセシス(Organic Syntheses)”,コレクティブ第6巻(Collective Volume VI),407−411頁,ジョンワイリー アンド サンズ(John Wiley&Sons,Inc.),1988年、ケミカル レビュー(Chem.Rev.),第95巻,2457頁(1995年)、ジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー(J.Organomet.Chem.),第576巻,147頁(1999年)、マクロモレキュラー ケミストリー マクロモレキュラー シンポジウム(Macromol.Chem.,Macromol.Symp.),第12巻,229頁(1987年)などに記載の公知の方法を用いることができる。
−CH2S+Me2X-、 −CH2S+Ph2X-
(式中、Xはハロゲン原子を示し、Meはメチル基を示し、Phはフェニル基を示す。)
−CH2P+Ph3X-
(式中、Xはハロゲン原子を示し、Phはフェニル基を示す。)
−CH2PO(OR’)2
(式中、R’はアルキル基、アリール基、アリールアルキル基を示す。)
但し、Suzukiカップリング反応のような水との2相系での反応の場合にはその限りではない。
本発明の組成物は高分子化合物Aと高分子化合物Bとを含むが、それらの含有量は高分子化合物Aと高分子化合物Bの合計の重量を100とすると、高分子化合物Bを1〜99含むことが好ましく、10〜90含むことがより好ましい。また、高分子化合物Aを99〜1含むことが好ましく、90〜10含むことがより好ましい。
本発明の有機光電変換素子は、少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に本発明の組成物を含む層を有する。本発明の組成物は、電子受容性化合物として用いることも電子供与性化合物として用いることもできるが、電子供与性化合物として用いることが好ましい。
1.一対の電極と、該電極間に本発明の組成物を含有する第一の有機層と、該第一の有機層に隣接して設けられた電子供与性化合物を含有する第二の有機層とを有する有機光電変換素子;
2.一対の電極と、該電極間に電子受容性化合物を含有する第一の有機層と、該第一の有機層に隣接して設けられた本発明の組成物を含有する第二の有機層とを有する有機光電変換素子;
3.一対の電極と、該電極間に本発明の組成物(高分子化合物A及び高分子化合物Bに加え、電子供与性化合物を含む組成物)を含有する有機層を少なくとも一層有する有機光電変換素子;
4.一対の電極と、該電極間に本発明の組成物(高分子化合物A及び高分子化合物Bに加え、電子受容性化合物を含む組成物)を含有する有機層を有する有機光電変換素子;
5.一対の電極と、該電極間に設けられ本発明の組成物(高分子化合物A及び高分子化合物Bに加え、電子受容性化合物を含む組成物)を含有する有機層を少なくとも一層有する有機光電変換素子であって、該電子受容性化合物がフラーレン誘導体である有機光電変換素子;
前記有機薄膜の製造方法は、特に制限されず、例えば、本発明の組成物を含む溶液からの成膜による方法、真空蒸着法による方法が挙げられるが、溶液からの成膜による方法が好ましい。
有機光電変換素子は、透明又は半透明の電極から太陽光等の光を照射することにより、電極間に光起電力が発生し、有機薄膜太陽電池として動作させることができる。有機薄膜太陽電池を複数集積することにより有機薄膜太陽電池モジュールとして用いることもできる。
(高分子化合物1の合成)
200mlセパラブルフラスコにメチルトリオクチルアンモニウムクロライド(商品名:aliquat336、Aldrich製、CH3N[(CH2)7CH3]3Cl、density 0.884g/ml、25℃、trademark of Henkel Corporation)0.65g、化合物(C)1.5779g、化合物(E)1.1454gを仕込み、窒素置換した。予めアルゴンガスをバブリングして脱気したトルエン35mlを加え、撹拌溶解後、更に40分アルゴンガスをバブリングして脱気した。バス温度(オイルバスの温度)を85℃まで昇温後、酢酸パラジウム1.6mg、トリスo−メトキシフェニルフォスフィン6.7mgを加え、つづいてバス温度を105℃まで昇温しながら、17.5%炭酸ナトリウム水溶液9.5mlを6分かけて滴下した。滴下後、バス温度105℃で1.7時間攪拌し、反応溶液を室温まで冷却した。当該反応溶液中には、式(F)で表される繰り返し単位からなる重合体が含まれている。
(F)
当該重合体は、繰り返し単位として式(G)を含んでいる。
(G)
(高分子化合物2の合成)
アルゴン置換した2L四つ口フラスコに化合物(I)(7.928g、16.72mmol)、化合物(J)(13.00g、17.60mmol)、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド(商品名:aliquat336、Aldrich製、CH3N[(CH2)7CH3]3Cl、density 0.884g/ml、25℃、trademark of Henkel Corporation)(4.979g)、およびトルエン405mlを入れ、撹拌しながら系内を30分間アルゴンガスをバブリングして脱気する。ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)(0.02g)を加え、105℃に昇温、撹拌しながら2mol/Lの炭酸ナトリウム水溶液42.2mlを滴下した。滴下終了後5時間反応させ、フェニルボロン酸(2.6g)とトルエン1.8mlを加えて105℃で16時間撹拌した。トルエン700mlおよび7.5%ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム三水和物水溶液200mlを加えて85℃で3時間撹拌した。水層を除去後、60℃のイオン交換水300mlで2回、60℃の3%酢酸300mlで1回、さらに60℃のイオン交換水300mlで3回洗浄した。有機層をセライト、アルミナ、シリカを充填したカラムに通し、熱トルエン800mlでカラムを洗浄した。溶液を700mlまで濃縮した後、2Lのメタノールに注ぎ、再沈殿させた。重合体をろ過して回収し、500mlのメタノール、アセトン、メタノールで洗浄した。重合体を50℃で一晩真空乾燥することにより、下記式:
で表されるペンタチエニル−フルオレンコポリマー(以下、「高分子化合物2」という) 12.21gを得た。高分子化合物2のポリスチレン換算の数平均分子量は5.4×104、重量平均分子量は1.1×105であった。
(高分子化合物3の合成)
化合物(K) 0.529gと、化合物(L) 0.458gと、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド(商品名:aliquat336、Aldrich製、CH3N[(CH2)7CH3]3Cl、density 0.884g/ml,25℃、trademark of Henkel Corporation)0.50gと、酢酸パラジウム(II) 3.9mgと、トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン 22.5mgとを反応容器に仕込み、反応容器内をアルゴンガスで十分置換した。この反応容器に、予めアルゴンガスをバブリングして脱気したトルエン 30mlを加えた。次に、この溶液に、予めアルゴンガスでバブリングして脱気した16.7重量%炭酸ナトリウム水溶液 5mlを滴下した後、溶媒が還流する温度に昇温し、3時間還流した。なお、反応はアルゴンガス雰囲気下で行った。
予め別の容器(アルゴンガス置換)に用意しておいた下記溶液(S1)を加えた。
化合物(C) 0.535gと化合物(E) 0.293gと、酢酸パラジウム(II) 2.9mgと、トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン 13.8mgとを容器に仕込み、容器内をアルゴンガスで十分置換した。この容器に、予めアルゴンガスをバブリングして脱気したトルエン 30mlを加え、溶液(S1)を得た。
g/テトラヒドロフラン 1.0ml混合溶液を加え、1時間還流した。なお、反応は、アルゴンガス雰囲気下で行った。
反応終了後、得られた反応溶液を冷却した後、得られた反応溶液を静置し、分液したトルエン層を回収した。次いで、得られたトルエン層をメタノール中に注ぎ込み、再沈し、生成した沈殿を回収した。この沈殿を減圧乾燥した後、クロロホルムに溶解した。次に、得られたクロロホルム溶液を濾過し、不溶物を除去した後、該クロロホルム溶液を、アルミナカラムに通して精製した。次に、得られたクロロホルム溶液を減圧濃縮した後、メタノール中に注ぎ込み、再沈し、生成した沈殿を回収した。この沈殿をメタノールで洗浄した後、減圧乾燥して、高分子化合物3、0.87gを得た。高分子化合物3のポリスチレン換算の重量平均分子量は8.3×104であり、ポリスチレン換算の数平均分子量は2.4×104であった。
(高分子化合物4の合成)
化合物(K) 0.945gと 化合物(L) 0.916gと、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド(商品名:aliquat336、Aldrich製、CH3N[(CH2)7CH3]3Cl、density 0.884g/ml,25℃、trademark of Henkel Corporation)0.45gと、酢酸パラジウム(II) 4.9mgと、トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン 25.1mgとを反応容器に仕込み、反応容器内をアルゴンガスで十分置換した。この反応容器に、予めアルゴンガスをバブリングして脱気したトルエン 40mlを加えた。次に、この溶液に、予めアルゴンガスでバブリングして脱気した16.7重量%炭酸ナトリウム水溶液 10mlを滴下した後、溶媒が還流する温度まで昇温し、3.5時間還流した。なお、反応はアルゴンガス雰囲気下で行った。
で表される繰り返し単位からなる高分子化合物4、0.80gを得た。高分子化合物4のポリスチレン換算の重量平均分子量は1.9×104であり、ポリスチレン換算の数平均分子量は7.3×103であった。
(組成物1の製造)
高分子化合物1 10mgと高分子化合物2 10mgとを混合し、組成物1を製造した。組成物1に含まれる高分子化合物1と高分子化合物2の重量比は50:50であった。
(組成物2の製造)
組成物1 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物2を製造した。組成物2中、組成物1は0.5重量%含まれていた。
(組成物3の製造)
組成物2 1.5g中に、電子受容体としてC60PCBM(Phenyl C61-butyric acid methyl ester、フロンティアカーボン社製、商品名E100、ロット名 7B0217−A)22.5mgを溶解させ、組成物3を製造した。組成物3中、高分子化合物1および高分子化合物2の合計とC60PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物4の製造)
組成物2 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名07L022E)22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルターを用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物4を製造した。組成物4中、高分子化合物1および高分子化合物2の合計とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物5の製造)
高分子化合物1 15mgと高分子化合物2 5mgとを混合し、組成物5を製造した。組成物5に含まれる高分子化合物1と高分子化合物2の重量比は75:25であった。
(組成物6の製造)
組成物5 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物6を製造した。組成物6中、組成物5は0.5重量%含まれていた。
(組成物7の製造)
組成物6 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名07L022E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物7を製造した。組成物7中、高分子化合物1および高分子化合物2の合計とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物8の製造)
高分子化合物1 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物8を製造した。組成物8中、高分子化合物1は0.5重量%含まれていた。
(組成物9の製造)
組成物8 1.5g中に、電子受容体としてC60PCBM(Phenyl C61-butyric acid methyl ester、フロンティアカーボン社製、商品名E100ロット名 7B0217−A)22.5mgを溶解させ、組成物9を製造した。組成物9中、高分子化合物1とC60PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物10の製造)
組成物8 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名07L022E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物10を製造した。組成物10中、高分子化合物1とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物11の製造)
高分子化合物2 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物11を製造した。組成物11中、高分子化合物2は0.5重量%含まれていた。
(組成物12の製造)
組成物11 1.5g中に、電子受容体としてC60PCBM(Phenyl C61-butyric acid methyl ester、フロンティアカーボン社製、商品名E100ロット名 7B0217−A) 22.5mgを溶解させ、組成物12を製造した。組成物12中、高分子化合物2とC60PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物13の製造)
組成物11 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名07L022E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、1.0μmのテフロン(登録商標)フィルターを用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物13を製造した。組成物13中、高分子化合物2とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板をオゾンUV処理して表面処理を行った。次に、スピンコートにより組成物3を塗布し、有機薄膜太陽電池の活性層(膜厚約100nm)を得た。その後、真空蒸着機によりフッ化リチウムを膜厚4nmで蒸着し、次いでAlを膜厚100nm蒸着した。蒸着のときの真空度は、すべて1〜9×10-3Paであった。また、得られた有機薄膜太陽電池の形状は、2mm×2mmの正四角形であった。得られた有機薄膜太陽電池にソーラシミュレーター(分光計器製、商品名OTENTO-SUNII:AM1.5Gフィルター、放射照度100mW/cm2)を用いて一定の光を照射し、発生する電流と電圧を測定して光電変換効率を求めた。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物4を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物7を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物9を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物10を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物12を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物13を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(組成物20の製造)
高分子化合物3 10mgと高分子化合物2 10mgとを混合し、組成物20を製造した。組成物20に含まれる高分子化合物3と高分子化合物2の重量比は50:50であった。
(組成物21の製造)
組成物20 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物21を製造した。組成物21中、組成物20は0.5重量%含まれていた。
(組成物22の製造)
高分子化合物4 10mgと高分子化合物2 10mgとを混合し、組成物22を製造した。組成物22に含まれる高分子化合物4と高分子化合物2の重量比は50:50であった。
(組成物23の製造)
組成物22 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物23を製造した。組成物23中、組成物22は0.5重量%含まれていた。
(組成物24の製造)
組成物21 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名08C059E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物24を製造した。組成物24中、高分子化合物3および高分子化合物2の合計とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物25の製造)
組成物23 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名08C059E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物25を製造した。組成物25中、高分子化合物4および高分子化合物2の合計とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物24を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物25を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(組成物15の製造)
高分子化合物3 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物15を製造した。組成物15中、高分子化合物3は0.5重量%含まれていた。
(組成物16の製造)
高分子化合物4 10mgをo−ジクロロベンゼン1.99gに溶解させ、組成物16を製造した。組成物16中、高分子化合物4は0.5重量%含まれていた。
(組成物17の製造)
組成物11 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名08C059E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物17を製造した。組成物17中、高分子化合物2とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物18の製造)
組成物15 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名08C059E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物18を製造した。組成物18中、高分子化合物3とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(組成物19の製造)
組成物16 1.5g中に、電子受容体としてC70PCBM(Phenyl C71-butyric acid methyl ester、アメリカンダイソース社製、商品名ADS71BFA、ロット名08C059E) 22.5mgを溶解させた。その後、シリカゲル(Wakogel C−300(粒径45〜75μm)、和光純薬社製)15mg(溶液の重量に対して1重量%)を添加し、23℃で12時間攪拌した。攪拌終了後、孔径1.0μmのテフロン(登録商標)フィルター用いて溶液中のシリカゲルを濾過し、組成物19を製造した。組成物19中、高分子化合物4とC70PCBMの重量比は25:75であった。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物17を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物18を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
(有機薄膜太陽電池の作製、評価)
組成物3にかえて組成物19を用いた以外は実施例8と同様の方法で有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。測定結果を表1に示す。
表1から分かるように、式(1)で表される繰り返し単位を含有する高分子化合物1、高分子化合物3及び高分子化合物4からなる群から選ばれる1種類の高分子化合物と式(2)で表される繰り返し単位とを含有する高分子化合物2とを含む組成物を用いて製造した有機薄膜太陽電池(実施例8〜10、17、18)は、各々単独の高分子化合物を用いて製造した有機薄膜太陽電池(比較例7〜13)に比べて高い光電変換効率を示した。
Claims (25)
- 式(1)で表される繰り返し単位を含む高分子化合物Aと式(2)で表される繰り返し単位を含む高分子化合物Bとを含有する組成物。
(1)
(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(2)
(式中、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。pは2〜10の整数を表す。複数個あるR3は、同一でも異なっていてもよく、複数個あるR4は同一でも異なっていてもよい。) - アリーレン基が、式(6)で表される基または式(7)で表される基である請求項3または4に記載の組成物。
(6)
(式中、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(7)
(式中、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23およびR24は、
それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基またはアリールアルキルチオ基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。) - pが2〜7の整数である請求項1〜9のいずれかに記載の組成物。
- qが3〜5の整数である請求項2〜11のいずれかに記載の組成物。
- 高分子化合物Aが、式(1)で表される繰り返し単位を含むブロックを有する請求項1〜12のいずれかに記載の組成物。
- 高分子化合物Aが、式(12)で表される繰り返し単位、式(13)で表される繰り返し単位および式(14)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる1種以上の繰り返し単位を含むブロックを有する請求項13に記載の組成物。
(12)
(式中、R1、R2、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R33、R34、R35およびR36は、前述と同じ意味を表す。)
(13)
(式中、R1、R2、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R33、R34、R35およびR36は前述と同じ意味を表す。)
(14)
(式中、R1、R2、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35およびR36は前述と同じ意味を表す。) - 組成物の重量を100とした場合、高分子化合物Aの重量が1〜99である、請求項1〜14のいずれかに記載の組成物。
- 組成物の重量を100とした場合、高分子化合物Bの重量が1〜99である、請求項1〜15のいずれかに記載の組成物。
- さらに、電子受容性化合物を含む請求項1〜16のいずれかに記載の組成物。
- 電子受容性化合物が、フラーレン誘導体である請求項17に記載の組成物。
- さらに、電子供与性化合物を含む請求項1〜16のいずれかに記載の組成物。
- さらに、溶媒を含む請求項1〜19のいずれかに記載の組成物。
- 請求項1〜19のいずれかに記載の組成物を含む有機層を有する有機光電変換素子。
- 少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に請求項1〜16のいずれかに記載の組成物を含有する第一の有機層と、該第一の有機層に隣接して設けられた電子供与性化合物を含有する第二の有機層とを有する有機光電変換素子。
- 少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に電子受容性化合物を含有する第一の有機層と、該第一の有機層に隣接して設けられた請求項1〜16のいずれかに記載の組成物を含有する第二の有機層とを有する有機光電変換素子。
- 少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に請求項17または18に記載の組成物を含有する有機層を有する有機光電変換素子。
- 少なくとも一方が透明又は半透明である一対の電極と、該電極間に請求項19に記載の組成物を含有する有機層を有する有機光電変換素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009033650A JP5375161B2 (ja) | 2008-02-18 | 2009-02-17 | 組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008035579 | 2008-02-18 | ||
JP2008035579 | 2008-02-18 | ||
JP2008051810 | 2008-03-03 | ||
JP2008051810 | 2008-03-03 | ||
JP2008213692 | 2008-08-22 | ||
JP2008213692 | 2008-08-22 | ||
JP2009033650A JP5375161B2 (ja) | 2008-02-18 | 2009-02-17 | 組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010074127A true JP2010074127A (ja) | 2010-04-02 |
JP5375161B2 JP5375161B2 (ja) | 2013-12-25 |
Family
ID=40985656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009033650A Expired - Fee Related JP5375161B2 (ja) | 2008-02-18 | 2009-02-17 | 組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8298686B2 (ja) |
EP (1) | EP2246382A4 (ja) |
JP (1) | JP5375161B2 (ja) |
KR (1) | KR20100116667A (ja) |
CN (1) | CN101945922A (ja) |
WO (1) | WO2009104781A1 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012111784A1 (ja) * | 2011-02-14 | 2012-08-23 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子の製造方法 |
WO2012111782A1 (ja) * | 2011-02-14 | 2012-08-23 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子の製造方法 |
JP2012195575A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-10-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機光電変換素子材料及び有機光電変換素子の製造方法 |
JP2014051583A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Kuraray Co Ltd | 共役ブロック共重合体及びそれを用いた光電変換素子 |
US8766513B2 (en) * | 2010-09-28 | 2014-07-01 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Piezoelectric device |
JP2014519185A (ja) * | 2011-04-28 | 2014-08-07 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 新規な光活性ポリマー |
JP2016113574A (ja) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | 住友化学株式会社 | 組成物およびそれを用いた有機半導体素子 |
JP2017160449A (ja) * | 2011-03-28 | 2017-09-14 | ヒタチ ケミカル リサーチ センター インコーポレイテッド | 溶解性を向上させたネットワーク共役ポリマー |
JP2017534621A (ja) * | 2014-10-22 | 2017-11-24 | ザ・ホンコン・ユニバーシティー・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジーThe Hong Kong University of Science & Technology | 電子工学的及びフォトニック用途のためのジフルオロビチオフェン系ドナー−アクセプター型ポリマー |
JP2018039968A (ja) * | 2016-09-09 | 2018-03-15 | コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー | 新規な重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する有機光電子素子 |
WO2019082848A1 (ja) * | 2017-10-23 | 2019-05-02 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
EP3496174A1 (en) | 2014-11-13 | 2019-06-12 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Ink composition and photoelectric conversion element produced using same |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5462998B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2014-04-02 | 住友化学株式会社 | 組成物及び有機光電変換素子 |
US8723163B2 (en) * | 2008-03-12 | 2014-05-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Organic photoelectric converter |
JP2010034494A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-02-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機光電変換素子 |
WO2011007851A1 (ja) * | 2009-07-14 | 2011-01-20 | 住友化学株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子および高分子発光体組成物 |
JP5428670B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-02-26 | 東レ株式会社 | 光起電力素子用材料および光起電力素子 |
WO2011052579A1 (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子及びその製造方法 |
US20120216866A1 (en) * | 2009-10-30 | 2012-08-30 | Takehito Kato | Organic photovoltaic cell |
US8895693B2 (en) | 2010-06-25 | 2014-11-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electron-donating polymers and organic solar cells including the same |
WO2012087243A1 (en) * | 2010-12-20 | 2012-06-28 | Agency For Science, Technology And Research | New p-type low bandgap polymers and their use |
EP2706077A4 (en) * | 2011-03-11 | 2014-09-17 | Kuraray Co | PI ELECTRON CONJUGATED BLOCK COPOLYMER AND PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT |
US9018344B2 (en) | 2011-03-28 | 2015-04-28 | Hitachi Chemical Company, Ltd | Polymers for thin film coatings |
WO2012133793A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 株式会社クラレ | ブロック共重合体および光電変換素子 |
KR101853395B1 (ko) | 2011-05-23 | 2018-04-30 | 삼성전자주식회사 | 전자 공여체 고분자 및 이를 포함하는 태양 전지 |
WO2013005614A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-10 | 株式会社クラレ | 共役ブロック共重合体及びそれを用いた光電変換素子 |
WO2013018853A1 (ja) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | 株式会社クラレ | 共役ポリマー組成物及びそれを用いた光電変換素子 |
WO2013047858A1 (ja) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及び有機光電変換素子 |
KR101777326B1 (ko) | 2011-10-05 | 2017-09-12 | 삼성전자주식회사 | 전자 공여체 고분자 및 이를 포함하는 유기 태양 전지 |
KR20130090736A (ko) * | 2012-02-06 | 2013-08-14 | 주식회사 엘지화학 | 헤테로 방향족 화합물 및 이를 포함하는 유기 태양전지 |
CN104629007B (zh) * | 2013-11-13 | 2019-05-21 | 北京师范大学 | 一类基于5-氟-6-烷氧基-苯并噻二唑共聚物、制备方法及其在有机太阳电池中的应用 |
WO2015096797A1 (en) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Polymer/fullerene formations and their use in electronic/photonic devices |
JP6174803B2 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-08-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 共重合体およびこれを含む有機太陽電池 |
CN107108860B (zh) * | 2014-10-22 | 2020-05-05 | 天光材料科技股份有限公司 | 基于三联噻吩的共轭聚合物及其应用 |
ITUB20155558A1 (it) * | 2015-11-13 | 2017-05-13 | Eni Spa | Composti diarilossibenzoeterodiazolici disostituiti |
WO2017152354A1 (en) * | 2016-03-08 | 2017-09-14 | South University Of Science And Technology Of China | An electron-donating unit, a copolymer thereof and their preparation methods, as well as their uses |
WO2017223407A1 (en) * | 2016-06-24 | 2017-12-28 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Conjugated polymers containing alkyl and alkyl ester side chains |
JP7172655B2 (ja) * | 2019-01-25 | 2022-11-16 | 株式会社リコー | 光電変換素子、機器、及び電源モジュール |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002536492A (ja) * | 1999-02-04 | 2002-10-29 | ザ ダウ ケミカル カンパニー | フルオレンコポリマーおよびそれから作られる素子 |
JP2006063334A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-03-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 高分子化合物、高分子薄膜およびそれを用いた高分子薄膜素子 |
JP2006222429A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Hewlett-Packard Development Co Lp | 太陽電池用の高性能有機材料 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3367064B2 (ja) | 1995-02-01 | 2003-01-14 | 住友化学工業株式会社 | 高分子蛍光体とその製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
WO2002059121A1 (en) * | 2001-01-24 | 2002-08-01 | Cambridge Display Technology Limited | Monomer for use in preparation of a polymer to be used in optical devices |
DE60124702T2 (de) | 2001-09-04 | 2007-12-06 | Sony Deutschland Gmbh | Justierte lichtemittierende Polymermischungen, Film und Vorrichung auf Basis dieser Mischungen |
US6670213B2 (en) | 2001-10-10 | 2003-12-30 | Cambridge Display Technology Limited | Method of preparing photoresponsive devices, and devices made thereby |
US7037599B2 (en) * | 2003-02-28 | 2006-05-02 | Eastman Kodak Company | Organic light emitting diodes for production of polarized light |
US6897284B2 (en) * | 2003-03-19 | 2005-05-24 | Xerox Corporation | Polythiophenes and devices thereof |
JP4846191B2 (ja) * | 2003-06-04 | 2011-12-28 | 住友化学株式会社 | 色変換膜および発光装置 |
JP2005032793A (ja) | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機光電変換素子 |
KR101217899B1 (ko) * | 2003-11-17 | 2013-01-02 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 가교결합성 치환 플루오렌 화합물 및 그에 기초한 콘쥬게이트 올리고머 또는 중합체 |
DE112005001823T5 (de) * | 2004-07-30 | 2007-06-06 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Polymerverbindung, Polymer-Dünnfilm und Polymer-Dünnfilm-Vorrichtung unter deren Verwendung |
US20080003422A1 (en) | 2005-07-27 | 2008-01-03 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Polymer Compound, Polymer Thin Film and Polymer Thin Film Device Using the Same |
JP4909900B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2012-04-04 | 出光興産株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2009536980A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-22 | ノースウェスタン ユニバーシティ | シロールベースのポリマー、およびこのポリマーより調製される半導体材料 |
WO2008016091A1 (fr) * | 2006-07-31 | 2008-02-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composé polymère et dispositif luminescent polymère l'utilisant |
KR101361312B1 (ko) * | 2006-10-11 | 2014-02-11 | 도레이 카부시키가이샤 | 광기전력 소자용 전자 공여성 유기 재료, 광기전력 소자용 재료 및 광기전력 소자 |
JP5281801B2 (ja) | 2007-02-01 | 2013-09-04 | 住友化学株式会社 | ブロック共重合体および高分子発光素子 |
JP5281800B2 (ja) | 2007-02-01 | 2013-09-04 | 住友化学株式会社 | ブロック共重合体並びにそれを用いた組成物、液状組成物、発光性薄膜及び高分子発光素子 |
JP2008208358A (ja) | 2007-02-01 | 2008-09-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ブロック共重合体および高分子発光素子 |
JP2008266307A (ja) | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 新規ホスフィンおよびその製造方法と用途 |
JP5050625B2 (ja) | 2007-04-20 | 2012-10-17 | 住友化学株式会社 | 共重合体およびそれを用いた有機光電変換素子 |
US7910684B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-03-22 | Xerox Corporation | Diketopyrrolopyrrole-based derivatives for thin film transistors |
-
2009
- 2009-02-17 US US12/867,799 patent/US8298686B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-17 CN CN2009801053111A patent/CN101945922A/zh active Pending
- 2009-02-17 JP JP2009033650A patent/JP5375161B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-17 EP EP09713439A patent/EP2246382A4/en not_active Withdrawn
- 2009-02-17 WO PCT/JP2009/053126 patent/WO2009104781A1/ja active Application Filing
- 2009-02-17 KR KR1020107020618A patent/KR20100116667A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002536492A (ja) * | 1999-02-04 | 2002-10-29 | ザ ダウ ケミカル カンパニー | フルオレンコポリマーおよびそれから作られる素子 |
JP2006063334A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-03-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 高分子化合物、高分子薄膜およびそれを用いた高分子薄膜素子 |
JP2006222429A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Hewlett-Packard Development Co Lp | 太陽電池用の高性能有機材料 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8766513B2 (en) * | 2010-09-28 | 2014-07-01 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Piezoelectric device |
WO2012111782A1 (ja) * | 2011-02-14 | 2012-08-23 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子の製造方法 |
JP2012186462A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機光電変換素子の製造方法 |
WO2012111784A1 (ja) * | 2011-02-14 | 2012-08-23 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子の製造方法 |
JP2012195575A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-10-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機光電変換素子材料及び有機光電変換素子の製造方法 |
JP2017160449A (ja) * | 2011-03-28 | 2017-09-14 | ヒタチ ケミカル リサーチ センター インコーポレイテッド | 溶解性を向上させたネットワーク共役ポリマー |
JP2014519185A (ja) * | 2011-04-28 | 2014-08-07 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 新規な光活性ポリマー |
JP2014051583A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Kuraray Co Ltd | 共役ブロック共重合体及びそれを用いた光電変換素子 |
JP2017534621A (ja) * | 2014-10-22 | 2017-11-24 | ザ・ホンコン・ユニバーシティー・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジーThe Hong Kong University of Science & Technology | 電子工学的及びフォトニック用途のためのジフルオロビチオフェン系ドナー−アクセプター型ポリマー |
EP3496174A1 (en) | 2014-11-13 | 2019-06-12 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Ink composition and photoelectric conversion element produced using same |
JP2016113574A (ja) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | 住友化学株式会社 | 組成物およびそれを用いた有機半導体素子 |
JP2018039968A (ja) * | 2016-09-09 | 2018-03-15 | コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー | 新規な重合体及びその製造方法、並びにそれを含有する有機光電子素子 |
WO2019082848A1 (ja) * | 2017-10-23 | 2019-05-02 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
JPWO2019082848A1 (ja) * | 2017-10-23 | 2019-11-14 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
CN111247655A (zh) * | 2017-10-23 | 2020-06-05 | 住友化学株式会社 | 光电转换元件 |
CN111247655B (zh) * | 2017-10-23 | 2021-04-09 | 住友化学株式会社 | 光电转换元件 |
US10991842B2 (en) | 2017-10-23 | 2021-04-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photoelectric conversion element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8298686B2 (en) | 2012-10-30 |
JP5375161B2 (ja) | 2013-12-25 |
WO2009104781A1 (ja) | 2009-08-27 |
EP2246382A1 (en) | 2010-11-03 |
KR20100116667A (ko) | 2010-11-01 |
CN101945922A (zh) | 2011-01-12 |
US20100327271A1 (en) | 2010-12-30 |
EP2246382A4 (en) | 2012-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5375161B2 (ja) | 組成物およびそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP5303896B2 (ja) | 高分子化合物およびそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP5050625B2 (ja) | 共重合体およびそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP5375218B2 (ja) | 有機光電変換素子 | |
JP5462998B2 (ja) | 組成物及び有機光電変換素子 | |
JP5034818B2 (ja) | 有機光電変換素子 | |
JP6024785B2 (ja) | 有機光電変換素子 | |
JP5434027B2 (ja) | 有機光電変換素子 | |
JP2009215349A (ja) | 高分子化合物およびそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP2008106239A (ja) | 有機光電変換素子及びその製造に有用な重合体 | |
JP2008106240A (ja) | 有機光電変換素子及びその製造に有用な重合体 | |
JP5104074B2 (ja) | 重合体及びそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP5884423B2 (ja) | 高分子化合物及びそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP5601276B2 (ja) | 有機光電変換素子 | |
JP2008208289A (ja) | 芳香族重合体およびそれを用いた有機光電変換素子 | |
JP2011254070A (ja) | 有機光電変換素子 | |
JP2009026921A (ja) | 有機光電変換素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130712 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130827 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130909 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5375161 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |