JP2010013335A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010013335A5
JP2010013335A5 JP2008177076A JP2008177076A JP2010013335A5 JP 2010013335 A5 JP2010013335 A5 JP 2010013335A5 JP 2008177076 A JP2008177076 A JP 2008177076A JP 2008177076 A JP2008177076 A JP 2008177076A JP 2010013335 A5 JP2010013335 A5 JP 2010013335A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
titania
quartz glass
glass member
less
doped quartz
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008177076A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5202141B2 (ja
JP2010013335A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2008177076A external-priority patent/JP5202141B2/ja
Priority to JP2008177076A priority Critical patent/JP5202141B2/ja
Priority to EP20110160343 priority patent/EP2341036A1/en
Priority to EP09251646.7A priority patent/EP2145865B1/en
Priority to US12/496,688 priority patent/US8105734B2/en
Priority to TW103134408A priority patent/TWI541212B/zh
Priority to TW98122787A priority patent/TWI471281B/zh
Priority to KR1020090061106A priority patent/KR101513310B1/ko
Priority to CN201210297275.7A priority patent/CN102849929B/zh
Priority to CN2009101586137A priority patent/CN101639624B/zh
Publication of JP2010013335A publication Critical patent/JP2010013335A/ja
Publication of JP2010013335A5 publication Critical patent/JP2010013335A5/ja
Priority to US13/345,936 priority patent/US8377612B2/en
Publication of JP5202141B2 publication Critical patent/JP5202141B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2008177076A 2008-07-07 2008-07-07 チタニアドープ石英ガラス部材及びその製造方法 Active JP5202141B2 (ja)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008177076A JP5202141B2 (ja) 2008-07-07 2008-07-07 チタニアドープ石英ガラス部材及びその製造方法
EP20110160343 EP2341036A1 (en) 2008-07-07 2009-06-25 Titania-doped quartz glass member and making method
EP09251646.7A EP2145865B1 (en) 2008-07-07 2009-06-25 Titania-doped quartz glass member and making method
US12/496,688 US8105734B2 (en) 2008-07-07 2009-07-02 Titania-doped quartz glass member and making method
KR1020090061106A KR101513310B1 (ko) 2008-07-07 2009-07-06 티타니아 도핑 석영 유리 부재 및 그의 제조 방법
TW98122787A TWI471281B (zh) 2008-07-07 2009-07-06 摻雜二氧化鈦石英玻璃構件及其製造方法
TW103134408A TWI541212B (zh) 2008-07-07 2009-07-06 摻雜二氧化鈦石英玻璃構件及其製造方法
CN201210297275.7A CN102849929B (zh) 2008-07-07 2009-07-07 掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法
CN2009101586137A CN101639624B (zh) 2008-07-07 2009-07-07 掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法
US13/345,936 US8377612B2 (en) 2008-07-07 2012-01-09 Titania-doped quartz glass member and making method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008177076A JP5202141B2 (ja) 2008-07-07 2008-07-07 チタニアドープ石英ガラス部材及びその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010013335A JP2010013335A (ja) 2010-01-21
JP2010013335A5 true JP2010013335A5 (enExample) 2011-10-27
JP5202141B2 JP5202141B2 (ja) 2013-06-05

Family

ID=41061205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008177076A Active JP5202141B2 (ja) 2008-07-07 2008-07-07 チタニアドープ石英ガラス部材及びその製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US8105734B2 (enExample)
EP (2) EP2145865B1 (enExample)
JP (1) JP5202141B2 (enExample)
KR (1) KR101513310B1 (enExample)
CN (2) CN101639624B (enExample)
TW (2) TWI541212B (enExample)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9399000B2 (en) 2006-06-20 2016-07-26 Momentive Performance Materials, Inc. Fused quartz tubing for pharmaceutical packaging
EP2463250B2 (en) * 2009-05-13 2019-09-25 Asahi Glass Company, Limited Methods for producing and for heat-treating a tio2-sio2 glass body
EP2508492A4 (en) * 2009-12-04 2014-07-30 Asahi Glass Co Ltd METHOD FOR PRODUCING A SILICONE-BASED GLASS SUBSTRATE FOR A MOLDING FORM AND METHOD FOR PRODUCING THE MOLDING SHAPE
JP5476982B2 (ja) 2009-12-25 2014-04-23 信越化学工業株式会社 チタニアドープ石英ガラスの選定方法
JP5637062B2 (ja) * 2010-05-24 2014-12-10 信越化学工業株式会社 合成石英ガラス基板及びその製造方法
US8567214B2 (en) * 2010-06-28 2013-10-29 Asahi Glass Company, Limited Method for producing glass body and method for producing optical member for EUV lithography
WO2012005333A1 (ja) * 2010-07-08 2012-01-12 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２含有石英ガラス基材およびその製造方法
JP5737070B2 (ja) * 2010-09-02 2015-06-17 信越化学工業株式会社 チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法
JPWO2012105513A1 (ja) * 2011-01-31 2014-07-03 旭硝子株式会社 チタニアを含有するシリカガラス体の製造方法およびチタニアを含有するシリカガラス体
JP5768452B2 (ja) 2011-04-11 2015-08-26 信越化学工業株式会社 チアニアドープ石英ガラスの製造方法
WO2013084978A1 (ja) * 2011-12-09 2013-06-13 信越石英株式会社 チタニア－シリカガラス製ｅｕｖリソグラフィ用フォトマスク基板
JP5935765B2 (ja) * 2012-07-10 2016-06-15 信越化学工業株式会社 ナノインプリントモールド用合成石英ガラス、その製造方法、及びナノインプリント用モールド
JP6241276B2 (ja) 2013-01-22 2017-12-06 信越化学工業株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用部材の製造方法
JP6336792B2 (ja) * 2013-04-25 2018-06-06 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
DE102013219808A1 (de) 2013-09-30 2015-04-02 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung
EP2960219B1 (de) * 2014-06-27 2019-01-16 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Rohling aus Titan-dotiertem Kieselglas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie und Verfahren für seine Herstellung
US9822030B2 (en) 2015-02-13 2017-11-21 Corning Incorporated Ultralow expansion titania-silica glass
JP6819451B2 (ja) * 2017-05-08 2021-01-27 信越化学工業株式会社 大型合成石英ガラス基板並びにその評価方法及び製造方法
DE102018211234A1 (de) 2018-07-06 2020-01-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Substrat für ein reflektives optisches Element
JP7122997B2 (ja) 2019-04-05 2022-08-22 信越石英株式会社 紫外線吸収性に優れたチタン含有石英ガラス及びその製造方法
JP2025527429A (ja) * 2022-08-26 2025-08-22 コーニング インコーポレイテッド 均質なシリカ・チタニアガラス
WO2025193428A1 (en) * 2024-03-12 2025-09-18 Corning Incorporated Methods to produce titania-silica glass using a directional temperature difference

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3520541B2 (ja) * 1993-12-27 2004-04-19 株式会社ニコン 石英ガラス製バーナー、これを用いて製造される石英ガラス、石英ガラスバーナーを用いた石英ガラスの製造方法
JP3071362B2 (ja) 1994-07-15 2000-07-31 信越化学工業株式会社 ＡｒＦエキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板およびその製造方法
JPH0959034A (ja) 1995-08-22 1997-03-04 Sumitomo Metal Ind Ltd 合成石英ガラス材及びその製造方法
JP3223873B2 (ja) * 1997-12-24 2001-10-29 住友金属工業株式会社 シリコンウエーハ及びその製造方法
US6990836B2 (en) 2000-02-23 2006-01-31 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method of producing fluorine-containing synthetic quartz glass
JP3796653B2 (ja) 2000-02-23 2006-07-12 信越化学工業株式会社 フッ素含有合成石英ガラス及びその製造方法
US6610447B2 (en) * 2001-03-30 2003-08-26 Intel Corporation Extreme ultraviolet mask with improved absorber
JP3975321B2 (ja) 2001-04-20 2007-09-12 信越化学工業株式会社 フォトマスク用シリカガラス系基板及びフォトマスク用シリカガラス系基板の平坦化方法
JP4792705B2 (ja) * 2003-04-03 2011-10-12 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造法
JP4792706B2 (ja) * 2003-04-03 2011-10-12 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造方法
JP5367204B2 (ja) * 2003-04-03 2013-12-11 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびＥＵＶリソグラフィ用光学部材
WO2004092082A1 (ja) * 2003-04-11 2004-10-28 Nikon Corporation SiO2-TiO2系ガラスの製造方法、SiO2-TiO2系ガラス及び露光装置
JP4665443B2 (ja) 2004-06-22 2011-04-06 旭硝子株式会社 ガラス基板の研磨方法
JP4487783B2 (ja) * 2005-01-25 2010-06-23 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスの製造方法およびＴｉＯ２を含有するシリカガラスを用いたＥＵＶリソグラフィ用光学部材
JP4646314B2 (ja) * 2005-02-01 2011-03-09 信越石英株式会社 均質なシリカ・チタニアガラスの製造方法
JP5035516B2 (ja) * 2005-12-08 2012-09-26 信越化学工業株式会社 フォトマスク用チタニアドープ石英ガラスの製造方法
US20070263281A1 (en) * 2005-12-21 2007-11-15 Maxon John E Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010013335A5 (enExample)
KR101513310B1 (ko) 티타니아 도핑 석영 유리 부재 및 그의 제조 방법
JP5035516B2 (ja) フォトマスク用チタニアドープ石英ガラスの製造方法
JP2011132086A5 (ja) チタニアドープ石英ガラスの選定方法及びその製造方法
JP5367204B2 (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびＥＵＶリソグラフィ用光学部材
JP5737070B2 (ja) チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法
JP4487783B2 (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスの製造方法およびＴｉＯ２を含有するシリカガラスを用いたＥＵＶリソグラフィ用光学部材
CN101959820A (zh) 含TiO2的石英玻璃和使用高能量密度的EUV光刻用光学部件以及用于其制造的特别温度控制方法
KR101418602B1 (ko) 나노임프린트 몰드용 티타니아 도핑 석영 유리
JP5644058B2 (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラス
CN101959812B (zh) 含TiO2的石英玻璃和使用该石英玻璃的EUV光刻用光学部件
TW200417822A (en) Reduced striae extreme ultraviolet elements
CN101959818A (zh) 含TiO2 的石英玻璃和使用该石英玻璃的光刻用光学部件
JP5365248B2 (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびＥＵＶリソグラフィ用光学部材
CN101959817A (zh) 含TiO2的石英玻璃和使用该石英玻璃的光刻用光学部件
WO2009145288A1 (ja) ＴｉＯ2を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
JP2011201771A5 (ja) 合成石英ガラスの製造方法
WO2007143069A3 (en) Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same
JPWO2013084978A1 (ja) チタニア−シリカガラス製ｅｕｖリソグラフィ用フォトマスク基板
JP4781003B2 (ja) ナノインプリントスタンパー用シリカ・チタニアガラス
JP5935765B2 (ja) ナノインプリントモールド用合成石英ガラス、その製造方法、及びナノインプリント用モールド
JP2010275189A (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびＥＵＶリソグラフィ用光学部材
KR101492663B1 (ko) 황을 공첨가한 티타니아 도핑 석영 유리 부재 및 그의 제조 방법
JP5417889B2 (ja) ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
JP2019069887A (ja) シリカガラス部材及びその製造方法