JP2010000795A - 液晶ポリマーフィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板 - Google Patents
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Abstract
性などと共に、優れた高耐熱性と耐磨耗性を有するフィルム、その積層体、およ
びこれを用いた多層実装回路基板を低コストで提供する。
【解決手段】 光学的異方性の溶融相を形成し得るポリマーフィルムを、該フィ
ルムの熱処理時に形態を保持し得る被着体と積層した後、前記フィルムの熱変形
温度Tdef 以上の温度で、Tm よりα℃(α=10〜35℃)低い温度までの温
度範囲で、前記フィルムの融解ピーク温度TA が、該フィルムの熱処理前の融点
Tm よりβ℃(β=5〜30℃)高い温度に到達するまで熱処理し、その後、熱
処理温度をポリマーのTm 以上でフィルムの融解ピーク温度TA 未満の温度範囲
で、前記TA がγ℃(γ=5〜20℃)増大する時間にわたって熱処理し、次い
で、被着体を除去してフィルムを製造する。
【選択図】 図1
Description
1回目:
熱処理温度がフィルムの熱変形温度Tdef から、該フィルムの熱処理前の融点Tm よりα℃低い温度までの温度範囲(Tdef 〜(Tm −α℃))で、示差走査熱量計により窒素雰囲気中5℃/分の昇温速度で測定した時の処理中における前記フィルムの融解ピーク温度TA が、該フィルムの熱処理前の融点Tm よりβ℃高い温度TA1に到達するまで熱処理を行い、
α=10〜35℃、β=5〜30℃
2回目:
熱処理温度が前記フィルムの熱処理前の融点Tm 以上で融解ピーク温度TA1未満の温度範囲で、更に前記融解ピ−ク温度TA1がγ℃増大する温度TA2に到達するまで熱処理を行い、
γ=5〜20℃
n回目:
熱処理温度が融解ピーク温度TA n-2 以上でTA n-1 未満の温度範囲で、TA n-1 がγ℃増大する温度TA n に到達するまで熱処理を行う。
整数n≧3、 γ=5〜20℃
次いで、被着体を除去して液晶ポリマーフィルムを製造する。
図2は多層積層回路基板1を示しており、該基板1は2枚の積層体2,2から形成される。この積層体2は、電気絶縁層である液晶ポリマーフィルム3の少なくとも一方の面に、被着体である銅箔4を接着して形成される。上記各積層体2には、その銅箔4をエッチング処理することにより、導電パターン41,41が対向状に形成されている。また、上記各積層体2の間には、その各導電パターン41,41が接触するのを阻止するため、液晶ポリマーフィルムからなるシート状物5を介装する。なお、シ−ト状物5にはガラス繊維の織布等の補強材が含まれていてもよい。そして、上記積層体2のフィルム3に設けた配線導体42にICチップ、コンデンサ、抵抗体などの電子部品6を搭載して、多層実装回路基板7としている。なお、各導電パターン41が非対向の場合は、シート状物5は必ずしも設ける必要はない。
以下、実施例を挙げて説明するが、この発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。
(2)また、被着体として厚さ18μmの銅箔(電解法による1/2オンス銅箔)を用い、これを上記フィルムに260℃で加熱圧着して積層体とした。
(3)この積層体の熱処理による融点の変化を測定するため、窒素雰囲気中、260℃で熱処理し、1時間単位でDSC(示差走査熱量計)によるフィルム層の融解ピーク温度TA の測定を行った。その結果、未処理では278℃、1時間では285℃、2時間では296℃、4時間では306℃と上昇する。4時間の熱処理を行った後のフィルムの熱変形温度は275℃であった。このように、フィルムの熱処理時間を長くすれば、そのTA が順次上昇する。これに準じて熱変形温度Tdef も上昇させ得ることが理解できる。
(4)次に、上記(2)で得られた積層体を、熱風温度260℃の窒素雰囲気の熱風乾燥機中でフィルム面が上層、銅箔面が下層となるような位置関係で水平に固定し、フィルム表面温度を260℃に昇温させ、この温度で4時間熱処理し、その後285℃に昇温して6時間熱処理した。熱処理後の積層体は、200℃まで20℃/分の速度で降温し、熱風乾燥機から取り出した。得られた積層体について、積層体の変色、接着強度、寸法安定性を測定した。更に、この積層体から化学エッチング法により金属箔を除去して得られたフィルムについて、ハンダ耐熱温度(耐熱性)、強度、耐摩耗性について試験を行った結果を表6に示す。
Claims (7)
- 光学的異方性の溶融相を形成し得るポリマー(以下、これを
液晶ポリマーと称する)からなるフィルムを、該フィルムの熱処理時に形態を保
持し得る被着体と積層して、次のような熱処理を複数回行い、次いで、被着体を
除去して液晶ポリマーフィルムを得ることを特徴とする液晶ポリマーフィルムの
製造方法。
1回目:
熱処理温度がフィルムの熱変形温度Tdef から、該フィルムの熱処理前の融点
Tm よりα℃低い温度までの温度範囲(Tdef 〜(Tm −α℃))で、示差走査
熱量計により窒素雰囲気中5℃/分の昇温速度で測定した時の処理中における前
記フィルムの融解ピーク温度TA が、該フィルムの熱処理前の融点Tm よりβ℃
高い温度TA1に到達するまで熱処理を行う。
α=10〜35℃、β=5〜30℃
2回目:
熱処理温度が前記フィルムの熱処理前の融点Tm 以上で融解ピーク温度TA1未
満の温度範囲で、更に前記融解ピ−ク温度TA1がγ℃増大する温度TA2に到達す
るまで熱処理を行う。
γ=5〜20℃
n回目:
熱処理温度が融解ピーク温度TA n-2 以上でTA n-1 未満の温度範囲で、TA
n-1 がγ℃増大する温度TA n に到達するまで熱処理を行う。
整数n≧3、 γ=5〜20℃ - 請求項1において、前記フィルムを被着体と積層するにあた
り、
最大粗さ(Rmax ;JIS B0601)が1.0から10μmの凹凸表面を
有する金属箔からなり、その表面に0.1から1μm厚のシリコン系ポリマーが
コートされている被着体を用い、この被着体のコート面に前記フィルムの少なく
とも一方の面を接触させた状態でフィルムを積層し、
さらに、前記熱処理後に被着体を除去するにあたり、溶融軟化フィルムを冷却
して固化したフィルム層を前記被着体から剥離する液晶ポリマーフィルムの製造
方法。 - 請求項1または2記載の方法により製造されるフィルム。
- 液晶ポリマーフィルムを、該フィルムの熱処理時に形態を保
持し得る被着体と積層し、請求項1に記載された複数回の熱処理を施すことを特
徴とするフィルムと被着体からなる積層体を製造する方法。 - 請求項4記載の方法により得られた積層体。
- 光学的異方性の溶融相を形成し得るポリマーからなるフィル
ムと被着体との積層体であって、耐熱温度が350℃以上である積層体。 - 請求項5または6に記載した積層体を二層以上重ね合せ、必
要に応じて積層体間にシ−ト状物を挟んで重ね合せ、これに電子部品を搭載して
なる多層実装回路基板。
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