JP2009513740A - シリコーン解離性コーティング組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
i)式(SiO4/2)のQ単位1つ以上
ii)式Rb 2SiO2/2のD単位15〜995個
ならびに
iii)式RaRb 2SiO1/2のM単位
からなる分岐シロキサンであり、単位(i)および単位(ii)は、適切な如何なる組み合わせでも相互に結合されてよく、式中、各Ra置換基は、1〜6炭素原子を持つアルキル基、1〜6炭素原子を持つアルケニル基、および1〜6炭素原子を持つアルキニル基からなる群から選択され、該分岐シロキサン中の少なくとも3つのRa置換基がアルケニル単位もしくはアルキニル単位であり、各Rb置換基が、1〜6炭素原子を持つアルキル基、2〜6炭素原子を持つアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択される。
Rt 3SiO1/2((CH3)2SiO2/2)d(Rt 2SiO2/2)e)SiO1/2Rt 3
を持っていてもよく、式中、各Rtは1〜4炭素原子を持つアルキル基もしくは水素であってよく、dは0もしくは整数であり、eはd+eが8〜100となるような整数である。それは好ましくは、メチル水素シロキサン単位を含有するポリシロキサンである。それは例えば、トリメチルシリル末端基もしくは水素ジメチルシリル末端基を持つ直鎖ポリ(メチル水素)シロキサン、または、メチル水素シロキサン単位とジメチルシロキサン単位とを持つコポリマーであり得る。
(Y3−nRnSiO1/2)c(Y2−oRoSiO2/2)d(Y1−pRpSiO3/2)e(SiO4/2)f(CRqY1−q)g(CRrY2−r)h(O(CRsY2−s)i(CRtY3−t)j
により記述される基から選択され、式中、Bはボロン(ホウ素)のことであり、各Rは前記の通りであり、c+d+e+f+g+h+i+jの和が少なくとも2であり、nが0〜3の整数であり、oが0〜2の整数であり、pが0〜1の整数であり、qが0〜1の整数であり、rが0〜2の整数であり、sが0〜2の整数であり、tが0〜3の整数であり、uが0〜2の整数であり、vが0〜3の整数であり、各Yが独立に、ハロゲン原子、エーテル基、アルコキシ基、アルコキシエーテル基、アシル基、エポキシ基、アミノ基、もしくはシリル基、またはZ−G基から選択される官能基から選択され、ここでZは前記した通りであり、各Gは式:
(a)式(I)の少なくとも1つのX基が−Z−R4基である。
(b)もしZが2価の炭化水素基であり、a=1、c=2、e+f+g+h+i+j=0、およびd>0であれば、少なくとも1つのd単位(つまり、Y2−oRoSiO2/2)が−Z−G基を含有するか、または、c単位(つまり、Y3−nRnSiO1/2)が−Z−G基を持たないかもしくは少なくとも2つの−Z−G基を持つ。
(c)もしZが2価の炭化水素基であり、a=1、c=2、およびd+e+f+g+h+i+j=0であれば、c単位(つまり、Y3−nRnSiO1/2)が−Z−G基を持たないかもしくは少なくとも2つの−Z−G基を持つ。
(d)もしg+h+i+j>0であれば、c+d+e+f>0。
テトラ(ジメチルビニルシロキシ)シラン350gとD44.65kgとが20℃において混合され、ポリアミノホスファゼニウムヒドロキシド(水酸化ポリアミノホスファゼニウム)触媒0.20gが添加混合され(シロキサンに基づき40ppm)、粘度の急速上昇を引き起こした。30秒の期間の後、該反応混合物が次いで、分子量Mw=2000のポリアクリル酸25g(0.5%)を用いて中和された。低分子量成分が該混合物から取り除かれ、該反応生成物が濾過され、過剰のポリアクリル酸と中和された触媒とを除去した。該生成物は、ジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサンであり、DP160および粘度220mPa.sを持っていた。
比較すると、該ジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサンが、触媒としてトリフルオロメタンスルホン酸を使用して調製された同様なDPのジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサンにより置き換えられた場合、15秒間100℃のオーブン温度において硬化された該サンプルは、抽出物を13.3%持っており、20秒間115℃のオーブン温度において硬化された場合は、抽出物を9.3%持っていた。
該ジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサン調製温度、ならびに、中和に使用された前記ポリアクリル酸の分子量および量を動かしつつ、実施例1が繰り返された。種々の硬化解離性コーティングの抽出物が、実施例1に記載のように測定され、以下の表1に示される。
該ジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサン調製において、より低濃度の前記ホスファゼン塩基触媒を使用して、実施例6のプロセスが繰り返された。その結果得られたポリマーから解離性コーティングが調製され、実施例1に記載のように硬化およびテストされた。その結果が、表2に示される。
該分岐アルケニルポリシロキサン反応生成物を中和するのに使用された前記ポリアクリル酸が、商品名MS−75Dの下に販売される種々の濃度の酸性シリカにより置き換えられたことを除き、実施例11のプロセスが繰り返された。中和された反応生成物が、触媒濃度20ppmPtを持つ解離性コーティング組成物中へと処方され、実施例1(b)に記載のようにテストされた。その結果が、以下の表3に示される。
本中和剤として、種々の濃度のMw2000のポリアクリル酸を使用して、実施例13〜15のプロセスが繰り返された。その結果が、以下の表4に示される。
本中和剤として、種々の濃度のMw4000000のポリアクリル酸を使用して、実施例13〜15のプロセスが繰り返された。その結果が、以下の表5に示される。
本中和剤として、種々の濃度のアクリル酸エチレンコポリマーを使用して、実施例13〜15のプロセスが繰り返された。その結果が、以下の表6に示される。
実施例1において調製されたQ分岐ポリマーが、充分なポリ(メチル水素シロキサン)と混合され、SiH:ビニルのモル比1.6:1、塩化白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサン(シロキサンに基づき20ppmPt)との反応生成物0.4%、ならびにエチニルシクロヘキサノール0.2%を与え、解離性コーティング組成物を形成する。紙コーティング機での種々の試行において、該組成物がグラシン紙布帛上にコーティングされ、異なるラインスピードおよび温度において硬化された。該ラインスピードはそれぞれ90および60m/分であり、それぞれ一時停止時間3および4.5秒に対応する。採用される温度は、該布帛の出口温度として測定され、138℃、149℃、160℃、および171℃であった。コーティングされた各紙サンプルは次いで、塗沫性(smear)、アンカー性(anchorage, 固着性)、および移動性(migration)についてテストされた。
以下のポリマーにより、実施例1のQ分岐ポリマーを置き換え、実施例25のプロセスが繰り返された。
実施例26:酸性シリカを使用して中和された、実施例14のQ分岐ポリマー
実施例27:ビス(トリメチルシリル)ビニルホスホネートを使用して中和された、Q分岐ポリマー
実施例28:ビス(トリメチルシリル)水素ホスフェートを使用して中和された、Q分岐ポリマー
触媒としてトリフルオロメタンスルホン酸を使用して調製された同様なDPのジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサンにより、実施例1のQ分岐ポリマーを置き換え、実施例25のプロセスが繰り返された。
ジメチルビニル末端化Q分岐ポリシロキサンが、実施例1に記載されたように調製されたが、テトラ(ジメチルビニルシロキシ)シラン量を750gへと増やし、中和剤としてビス(トリメチルシリル)ホスフェートを使用した。Q分岐ポリシロキサン生成物は、DP75を持っていた。
Claims (15)
- アルケニル官能基化ポリシロキサン(I);
シリコンヒドリド官能基化ポリシロキサン(II);ならびに
白金族金属を含む触媒(III)
を含み、アルケニル官能基化ポリシロキサン(I)が、ホスファゼン塩基触媒を使用するシロキサン多重縮合および/または平衡により調製されるアルケニル末端化ポリシロキサンであり、触媒(III)濃度が、白金族金属2〜40重量ppmであることを特徴とする、解離性コーティング組成物。 - アルケニル官能基化ポリシロキサン(I)が:
i)式SiO4/2の1つ以上のQ単位;
ii)式Rb 2SiO2/2の15〜995のD単位;および
iii)式RaRb 2SiO1/2のM単位
からなる分岐シロキサンであり、単位(i)と(ii)とが、如何なる適切な組み合わせにおいて相互リンクされてもよく、式中、各Ra置換基が、1〜6炭素原子を持つアルキル基、1〜6炭素原子を持つアルケニル基、および1〜6炭素原子を持つアルキニル基からなる群から選択され、該分岐シロキサン中の少なくとも3つのRa置換基がアルケニルもしくはアルキニル単位であり、各Rb置換基が、1〜6炭素原子を持つアルキル基、2〜6炭素原子を持つアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の解離性コーティング組成物。 - シリコンヒドリド官能基化ポリシロキサン(II)が、メチル水素シロキサン単位を含有するポリシロキサンであることを特徴とする、請求項1または2に記載の解離性コーティング組成物。
- シリコンヒドリド官能基化ポリシロキサン(II)が、式:
(Y3−nRnSiO1/2)c(Y2−oRoSiO2/2)d(Y1−pRpSiO3/2)e(SiO4/2)f(CRqY1−q)g(CRrY2−r)h(O(CRsY2−s)i(CRtY3−t)j
により記述される基から選択され、式中、Bはボロン(ホウ素)のことであり、各Rは前記の通りであり、c+d+e+f+g+h+i+jの和が少なくとも2であり、nが0〜3の整数であり、oが0〜2の整数であり、pが0〜1の整数であり、qが0〜1の整数であり、rが0〜2の整数であり、sが0〜2の整数であり、tが0〜3の整数であり、uが0〜2の整数であり、vが0〜3の整数であり、各Yが独立に、ハロゲン原子、エーテル基、アルコキシ基、アルコキシエーテル基、アシル基、エポキシ基、アミノ基、もしくはシリル基、またはZ−G基から選択される官能基であり、ここでZは前記した通りであり、各Gは式:
(a)式(I)の少なくとも1つのX基が−Z−R4基であり;
(b)Zが2価の炭化水素基であり、a=1、c=2、e+f+g+h+i+j=0、およびd>0であれば、少なくとも1つのd単位(つまり、Y2−oRoSiO2/2)が−Z−G基を含有するか、または、c単位(つまり、Y3−nRnSiO1/2)が−Z−G基を持たないかもしくは少なくとも2つの−Z−G基を持ち;
(c)Zが2価の炭化水素基であり、a=1、c=2、およびd+e+f+g+h+i+j=0であれば、c単位(つまり、Y3−nRnSiO1/2)が−Z−G基を持たないかもしくは少なくとも2つの−Z−G基を持ち;
(d)g+h+i+j>0であれば、c+d+e+f>0
であることを特徴とする、請求項1または2に記載の解離性コーティング組成物。 - 低濃度の白金族金属触媒下に、シリコンヒドリド官能基化ポリシロキサンと反応し、解離性コーティングを形成し得る分岐アルケニル官能基化ポリシロキサン(I)の調製方法であって、経験式(SiO4/2)(RaRb 2SiO1/2)xを持つ化合物を[式中、各Ra置換基が、1〜6炭素原子を持つアルキル基、1〜6炭素原子を持つアルケニル基、および1〜6炭素原子を持つアルキニル基からなる群から選択され、該分岐シロキサン中の少なくとも3つのRa置換基がアルケニルもしくはアルキニル単位であり;各Rb置換基が、1〜6炭素原子を持つアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基、およびメタクリレート基からなる群から選択され;(RaRb 2SiO1/2)基の(SiO4/2)単位に対する比xが2.5〜4の範囲中にある]、環状ポリジ有機シロキサンおよび/または実質的に直鎖の水酸基末端化ポリジ有機シロキサンと、シリコン含有材料の重量に基づきホスファゼン塩基触媒2〜80ppm存在下に反応させ、結果得られる反応混合物を中和させることを特徴とする方法。
- 前記ホスファゼン塩基触媒がアミノホスファゼニウムヒドロキシドであることを特徴とする、請求項5または6に記載の方法。
- 前記ホスファゼン塩基触媒が、前記反応中のシリコン含有材料の重量に基づいて2〜40ppmで存在することを特徴とする、請求項5〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 生成される前記反応混合物が、中和後に該反応混合物から除去される固体酸性中和剤を用いて中和されることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記中和剤がアクリル酸ポリマーであることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記中和剤がシリカであることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 生成される前記反応混合物が、存在する前記ホスファゼン塩基触媒に基づき、実質的に化学量論量の酸性中和剤を用いて中和されることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記中和剤がシリルホスホネートもしくはシリルホスフェートであることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- アルケニル官能基化ポリシロキサン(I);
シリコンヒドリド官能基化ポリシロキサン(II);ならびに
白金族金属を含む触媒(III)
を含み、アルケニル官能基化ポリシロキサン(I)が、請求項6〜13のいずれか1項に記載の方法により調製される分岐アルケニル官能基化ポリシロキサンであり、触媒(III)濃度が、白金族金属2〜60重量ppmであることを特徴とする、解離性コーティング組成物。 - アルケニル官能基化シロキサン;ならびに
アルケニル化シリコーン樹脂、アルケニル化ポリジ有機シロキサン、10〜30炭素原子を含有する1級アルケン、および少なくとも10炭素原子を含有する分岐アルケンから選択される解離性修飾剤
を含み、該アルケニル官能基化シロキサンが、請求項6〜13のいずれか1項に記載の方法により調製される分岐アルケニル官能基化シロキサンであることを特徴とする、解離性修飾剤組成物。
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