JP2009302512A - 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 主面の法線方向が、結晶方位[1 0 0]方向に対して、結晶方位[1 1 1]A方向に向かって15度傾斜している基板上に、活性層を含む共振器構造体及び該共振器構造体を挟んで設けられた下部半導体DBR及び上部半導体DBRを含む複数の半導体層が積層されている。そして、上部半導体DBR中の酸化狭窄構造体における電流通過領域108bの形状は、X軸に平行で電流通過領域108bの中心を通る軸に対して対称であるとともに、Y軸に平行で電流通過領域108bの中心を通る軸に対しても対称であり、Y軸方向の長さが、X軸方向の長さよりも長い。また、電流通過領域108bを取り囲んでいる酸化層108aは、酸化が−Y方向に進行した部分の厚さが、酸化が+X方向及び−X方向に進行した部分の厚さよりも厚い。
【選択図】図6
Description
Claims (15)
- 基板に対して垂直方向に光を出力する面発光レーザ素子であって、
主面の法線方向が、結晶方位<1 0 0>の一の方向に対して、結晶方位<1 1 1>の一の方向に向かって傾斜している基板と;
活性層を含む共振器構造体、及び該共振器構造体を挟んで設けられ、アルミニウムを含む被選択酸化層の一部が酸化されて生成された酸化物を少なくとも含む酸化物が電流通過領域を取り囲んでいる狭窄構造体を有する半導体多層膜反射鏡を含み、前記基板上に積層されている複数の半導体層と;を備え、
前記電流通過領域の形状は、前記基板の表面に平行で前記結晶方位<1 0 0>の一の方向及び前記結晶方位<1 1 1>の一の方向のいずれにも直交し、前記電流通過領域の中心を通る第1の軸に対して対称であるとともに、前記法線方向及び前記第1の軸のいずれにも直交し、前記電流通過領域の中心を通る第2の軸に対して対称であり、また、前記第1の軸方向の長さと前記第2の軸方向の長さが異なり、
前記電流通過領域を取り囲んでいる酸化物は、酸化が前記第2の軸に平行な少なくとも一方向に進行した部分の厚さが、酸化が前記第1の軸に平行な方向に進行した部分の厚さと異なり、
前記第1の軸方向に関する放射角と前記第2軸方向に関する放射角が等しいことを特徴とする面発光レーザ素子。 - 前記電流通過領域の形状は、前記第2の軸方向の長さが、前記第1の軸方向の長さよりも長く、
前記電流通過領域を取り囲んでいる酸化物は、酸化が前記第2の軸に平行な少なくとも一方向に進行した部分の厚さが、酸化が前記第1の軸に平行な方向に進行した部分の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ素子。 - 前記基板は、主面の法線方向が、結晶方位[1 0 0]方向に対して、結晶方位[1 1 1]A方向に向かって傾斜し、
前記第1の軸に平行な方向は、結晶方位[0 −1 1]方向及び結晶方位[0 1 −1]方向であることを特徴とする請求項2に記載の面発光レーザ素子。 - 前記電流通過領域は、前記第1の軸方向の長さに対する前記第2の軸方向の長さが1よりも大きく、1.17未満であることを特徴とする請求項3に記載の面発光レーザ素子。
- 前記複数の半導体層は、前記酸化に先立って、少なくとも前記被選択酸化層が側面に露出したメサ形状となるようにエッチングされており、
前記メサ形状は、前記第1の軸方向の長さに対する前記第2の軸方向の長さが0.988よりも大きく、1.014未満であることを特徴とする請求項4に記載の面発光レーザ素子。 - 前記電流通過領域の形状は、前記第2の軸方向の長さが、前記第1の軸方向の長さよりも短く、
前記電流通過領域を取り囲んでいる酸化物は、酸化が前記第2の軸に平行な少なくとも一方向に進行した部分の厚さが、酸化が前記第1の軸に平行な方向に進行した部分の厚さよりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ素子。 - 前記基板は、主面の法線方向が、結晶方位[1 0 0]方向に対して、結晶方位[1 1 1]A方向に向かって傾斜し、
前記第1の軸に平行な方向は、結晶方位[0 −1 1]方向及び結晶方位[0 1 −1]方向であることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザ素子。 - 前記電流通過領域は、前記第1の軸方向の長さに対する前記第2の軸方向の長さが1よりも小さく、0.90以上であることを特徴とする請求項7に記載の面発光レーザ素子。
- 前記第2の軸方向は、出力光の偏光方向と一致していることを特徴とする請求項3〜5、7及び8のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子。
- 前記第1の軸方向は、出力光の偏光方向と一致していることを特徴とする請求項3〜5、7及び8のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子が集積された面発光レーザアレイ。
- 光によって被走査面上を走査する光走査装置であって、
請求項1〜10のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子を有する光源と;
前記光源からの光を偏向する偏向手段と;
前記偏向手段で偏向された光を前記被走査面上に集光する走査光学系と;を備える光走査装置。 - 光によって被走査面上を走査する光走査装置であって、
請求項11に記載の面発光レーザアレイを有する光源と;
前記光源からの光を偏向する偏向手段と;
前記偏向手段で偏向された光を前記被走査面上に集光する走査光学系と;を備える光走査装置。 - 少なくとも1つの像担持体と;
前記少なくとも1つの像担持体に対して画像情報が含まれる光を走査する少なくとも1つの請求項12又は13に記載の光走査装置と;を備える画像形成装置。 - 前記画像情報は、多色のカラー画像情報であることを特徴とする請求項14に記載の画像形成装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011198858A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザモジュール、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011233549A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Ricoh Co Ltd | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 |
US8675271B2 (en) | 2010-01-08 | 2014-03-18 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emitting laser element, surface-emitting laser array, optical scanner device, and image forming apparatus |
JP2016513889A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-05-16 | プレビウム リサーチ インコーポレイテッド | 広帯域可変掃引光源 |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009295792A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5515767B2 (ja) | 2009-05-28 | 2014-06-11 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子の製造方法、面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5636686B2 (ja) | 2009-06-04 | 2014-12-10 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置、及び面発光レーザアレイの製造方法 |
JP5510899B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-06-04 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、及び画像形成装置 |
WO2011059826A2 (en) * | 2009-10-29 | 2011-05-19 | California Institute Of Technology | Multiple-photon excitation light sheet illumination microscope |
JP5532321B2 (ja) * | 2009-11-17 | 2014-06-25 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5527714B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2014-06-25 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5522595B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2014-06-18 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011151357A (ja) | 2009-12-21 | 2011-08-04 | Ricoh Co Ltd | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011166108A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-25 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5834414B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2015-12-24 | 株式会社リコー | 面発光レーザモジュール、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5585940B2 (ja) | 2010-04-22 | 2014-09-10 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
JP2011249763A (ja) | 2010-04-28 | 2011-12-08 | Ricoh Co Ltd | 光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5754624B2 (ja) | 2010-05-25 | 2015-07-29 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
JP5721055B2 (ja) | 2010-06-11 | 2015-05-20 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
CA2817190C (en) | 2010-11-26 | 2016-12-06 | Yoshihiro Ohba | Optical sensor and image forming apparatus |
JP2012209534A (ja) | 2011-03-17 | 2012-10-25 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、原子発振器及び面発光レーザ素子の検査方法 |
JP5929259B2 (ja) | 2011-05-17 | 2016-06-01 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5999303B2 (ja) | 2011-06-24 | 2016-09-28 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ及び画像形成装置 |
JP2013051398A (ja) | 2011-08-01 | 2013-03-14 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP6303255B2 (ja) | 2011-12-02 | 2018-04-04 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
JP5999304B2 (ja) | 2012-02-17 | 2016-09-28 | 株式会社リコー | 光学センサ及び画像形成装置 |
JP5999305B2 (ja) | 2012-02-20 | 2016-09-28 | 株式会社リコー | 光学センサ及び画像形成装置 |
JP5939461B2 (ja) | 2012-03-01 | 2016-06-22 | 株式会社リコー | 光学センサ及び画像形成装置 |
JP2014020889A (ja) * | 2012-07-18 | 2014-02-03 | Ricoh Co Ltd | 物体検出装置 |
JP6102525B2 (ja) * | 2012-07-23 | 2017-03-29 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
JP6107089B2 (ja) | 2012-11-30 | 2017-04-05 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
US9966730B2 (en) | 2014-08-11 | 2018-05-08 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emitting laser apparatus and manufacturing method thereof |
JP2016174136A (ja) | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ、レーザ装置、点火装置、及び内燃機関 |
WO2017094778A1 (ja) | 2015-12-02 | 2017-06-08 | 株式会社リコー | レーザ装置、点火装置及び内燃機関 |
JP6662013B2 (ja) | 2015-12-11 | 2020-03-11 | 株式会社リコー | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、レーザ装置、点火装置、内燃機関、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール、及び光伝送システム |
DE102017108435A1 (de) * | 2017-04-20 | 2018-10-25 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Halbleiterlaserdiode und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterlaserdiode |
US11283240B2 (en) * | 2018-01-09 | 2022-03-22 | Oepic Semiconductors, Inc. | Pillar confined backside emitting VCSEL |
US11233377B2 (en) * | 2018-01-26 | 2022-01-25 | Oepic Semiconductors Inc. | Planarization of backside emitting VCSEL and method of manufacturing the same for array application |
CN108808444A (zh) * | 2018-06-19 | 2018-11-13 | 扬州乾照光电有限公司 | 一种倒装vcsel芯片及制作方法 |
CN109728502B (zh) * | 2019-01-08 | 2020-07-31 | 扬州乾照光电有限公司 | 垂直腔面发射激光器外延结构及其制备方法 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08116130A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-07 | Nec Corp | 面発光レーザ |
JPH09172218A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-06-30 | Hewlett Packard Co <Hp> | 一定の偏光方向を有する垂直共振型面発光レーザー |
JPH1027938A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2000261095A (ja) * | 1999-03-10 | 2000-09-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ及びその製造方法 |
JP2001189525A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | 面発光型半導体レーザおよび面発光型半導体レーザアレイ |
JP2002289976A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Ricoh Co Ltd | 半導体構造およびその製造方法および半導体レーザ素子および半導体レーザアレイおよび光インターコネクションシステムおよび光lanシステム |
JP2003198061A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Ricoh Co Ltd | 面発光型レーザ素子および面発光型レーザアレイおよび光インターコネクションシステムおよび光通信システム |
JP2004031863A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光型半導体レーザ素子 |
JP2005142361A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Toshiba Corp | 面発光型半導体素子及びその製造方法 |
JP2006120881A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Sony Corp | 面発光型半導体レーザ素子 |
JP2007142375A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-06-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光レーザ素子及びその製造方法 |
JP2007294744A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008016824A (ja) * | 2006-06-08 | 2008-01-24 | Sony Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2008028139A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体チップの製造方法、面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008085301A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-04-10 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008210991A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光レーザ素子の製造方法および面発光レーザ素子 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58197562A (ja) | 1982-05-14 | 1983-11-17 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク装置 |
JPH087823B2 (ja) | 1990-04-27 | 1996-01-29 | 三洋電機株式会社 | 販売機の扉ロック装置 |
JP2891133B2 (ja) | 1994-10-24 | 1999-05-17 | 日本電気株式会社 | 面発光レーザ及び面発光レーザアレイ及び光情報処理装置 |
US6411638B1 (en) | 1999-08-31 | 2002-06-25 | Honeywell Inc. | Coupled cavity anti-guided vertical-cavity surface-emitting laser |
JP4010095B2 (ja) | 1999-10-01 | 2007-11-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 面発光型半導体レーザ及びレーザアレイ |
JP2008028424A (ja) | 2000-11-13 | 2008-02-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ |
JP3966067B2 (ja) | 2002-04-26 | 2007-08-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 表面発光型半導体レーザ素子およびその製造方法 |
KR100487224B1 (ko) | 2002-12-18 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 수직공동 표면방사 레이저 및 그 제조방법 |
EP1496583B1 (en) | 2003-07-07 | 2016-05-18 | II-VI Laser Enterprise GmbH | A vertical cavity surface emitting laser having improved transverse mode control and a method of forming the same |
US7542499B2 (en) * | 2003-11-27 | 2009-06-02 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser diode and surface-emission laser array, optical interconnection system, optical communication system, electrophotographic system, and optical disk system |
JP5057354B2 (ja) | 2004-04-30 | 2012-10-24 | 株式会社リコー | 面発光レーザの製造方法 |
US7684458B2 (en) | 2004-06-11 | 2010-03-23 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser diode and fabrication process thereof |
JP2006019412A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Canon Inc | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP4568125B2 (ja) | 2005-01-17 | 2010-10-27 | 株式会社東芝 | 面発光型半導体素子 |
JP5376104B2 (ja) | 2005-07-04 | 2013-12-25 | ソニー株式会社 | 面発光型半導体レーザ |
WO2007089042A1 (en) * | 2006-02-03 | 2007-08-09 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emitting laser device and surface-emitting laser array including same |
JP5224159B2 (ja) | 2006-04-28 | 2013-07-03 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5442940B2 (ja) | 2006-08-23 | 2014-03-19 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ、それを備えた光走査装置および画像形成装置 |
JP4949812B2 (ja) | 2006-11-17 | 2012-06-13 | アイシン・エーアイ株式会社 | 変速機のシフトレバー装置 |
JP5194679B2 (ja) | 2007-09-26 | 2013-05-08 | 日産自動車株式会社 | 車両用周辺監視装置および映像表示方法 |
JP5316784B2 (ja) * | 2008-06-11 | 2013-10-16 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
-
2009
- 2009-03-30 JP JP2009081664A patent/JP5316783B2/ja active Active
- 2009-04-30 US US12/432,872 patent/US8035676B2/en active Active
- 2009-05-12 EP EP09251292A patent/EP2120302B1/en active Active
- 2009-05-15 TW TW098116211A patent/TWI404283B/zh active
- 2009-05-15 KR KR1020090042834A patent/KR101077643B1/ko active IP Right Grant
- 2009-05-15 CN CN2009101390456A patent/CN101582562B/zh active Active
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08116130A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-07 | Nec Corp | 面発光レーザ |
JPH09172218A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-06-30 | Hewlett Packard Co <Hp> | 一定の偏光方向を有する垂直共振型面発光レーザー |
JPH1027938A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2000261095A (ja) * | 1999-03-10 | 2000-09-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ及びその製造方法 |
JP2001189525A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | 面発光型半導体レーザおよび面発光型半導体レーザアレイ |
JP2002289976A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Ricoh Co Ltd | 半導体構造およびその製造方法および半導体レーザ素子および半導体レーザアレイおよび光インターコネクションシステムおよび光lanシステム |
JP2003198061A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Ricoh Co Ltd | 面発光型レーザ素子および面発光型レーザアレイおよび光インターコネクションシステムおよび光通信システム |
JP2004031863A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光型半導体レーザ素子 |
JP2005142361A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Toshiba Corp | 面発光型半導体素子及びその製造方法 |
JP2006120881A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Sony Corp | 面発光型半導体レーザ素子 |
JP2007142375A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-06-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光レーザ素子及びその製造方法 |
JP2007294744A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008016824A (ja) * | 2006-06-08 | 2008-01-24 | Sony Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2008028139A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体チップの製造方法、面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008085301A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-04-10 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008210991A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光レーザ素子の製造方法および面発光レーザ素子 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6013005018; Andrea Knigge ET AL.: '650-nm Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers:Laser Properties and Reliability Investigations' IEEE Photonics Technology Letters Vol.14,No.10, 2002, pp.1385-1387 * |
JPN6013005019; 植木伸明他: '面発光型半導体レーザアレイ素子を使った露光装置' 富士ゼロックス テクニカルレポート No.16, 2006, pp.11-19 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8675271B2 (en) | 2010-01-08 | 2014-03-18 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emitting laser element, surface-emitting laser array, optical scanner device, and image forming apparatus |
JP2011198858A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザモジュール、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011233549A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Ricoh Co Ltd | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2016513889A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-05-16 | プレビウム リサーチ インコーポレイテッド | 広帯域可変掃引光源 |
US10263394B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-04-16 | Praevium Research, Inc. | Widely tunable swept source |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101582562B (zh) | 2012-03-28 |
KR101077643B1 (ko) | 2011-10-27 |
TWI404283B (zh) | 2013-08-01 |
US20090285602A1 (en) | 2009-11-19 |
EP2120302B1 (en) | 2012-11-28 |
CN101582562A (zh) | 2009-11-18 |
US8035676B2 (en) | 2011-10-11 |
EP2120302A3 (en) | 2011-02-09 |
JP5316783B2 (ja) | 2013-10-16 |
TW201004075A (en) | 2010-01-16 |
KR20090119744A (ko) | 2009-11-19 |
EP2120302A2 (en) | 2009-11-18 |
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