JP2009218592A - 静電チャック - Google Patents
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Abstract
【解決手段】冷却装置1と、冷却装置1上に配置され、ワーク載置面を有する静電チャック本体2を備える半導体製造装置に用いられる静電チャック10であって、
(イ)冷却装置1を貫通して、冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔1a、ガス供給孔1aの開口部にガス供給孔1aよりも大径の主座繰り部1bが設けられ、(ロ)主座繰り部1bに、中央にガス供給孔と連通するガス流路3aを設けた絶縁部材からなるアーキング防止部材3が埋め込まれ、(ハ)ワーク載置面には、ガス流路3aを介してガス供給孔1aと連通する細孔2a1が設けられている静電チャック10。
【選択図】図1
Description
(イ)冷却装置を貫通して、冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔、ガス供給孔の開口部にガス供給孔よりも大径の主座繰り部が設けられ、(ロ)主座繰り部に、中央にガス供給孔と連通するガス流路を設けた絶縁部材からなるアーキング防止部材が埋め込まれ、(ハ)ワーク載置面には、ガス流路を介してガス供給孔と連通する細孔が設けられている静電チャックを要旨とする。
(イ)冷却装置を貫通して、冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔、ガス供給孔の開口部にガス供給孔よりも大径の主座繰り部が設けられ、(ロ)主座繰り部に挿入した際にガス流路となるように、ガスの流れ方向の中心線を含む断面図の周囲で定義される複数の溝が表面に設けられたアーキング防止部材が、主座繰り部に埋め込まれ、(ハ)ワーク載置面には、ガス流路を介してガス供給孔と連通する細孔が設けられている静電チャックを要旨とする。
(イ)冷却装置を貫通して、冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔、ガス供給孔の開口部にガス供給孔よりも大径の主座繰り部が設けられ、(ロ)静電チャック本体側主面に、径方向の中心で交わる2つの溝からなる十字状の副座繰り部を備え、主座繰り部に挿入した際にガス流路を形成するように、円筒形状の側面に十字状の副座繰り部のそれぞれの溝の長手方向に直行する平面状の複数の切り欠き部を有するアーキング防止部材が、主座繰り部に埋め込まれ、(ハ)ワーク載置面には、ガス流路を介してガス供給孔と連通する細孔が設けられている静電チャックを要旨とする。
図1(a)に示す実施形態にかかる静電チャック10は、冷却装置1と、冷却装置1上に配置され、ワーク載置面を有する静電チャック本体2を備える半導体製造装置に用いられる静電チャック10であって、(イ)冷却装置1を貫通して、冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔1a、ガス供給孔1aの開口部にガス供給孔1aよりも大径の主座繰り部1bが設けられ、(ロ)主座繰り部1bに、ガス供給孔と連通するガス流路3aを設けた絶縁部材からなるアーキング防止部材3が埋め込まれ、(ハ)ワーク載置面には、ガス流路3aを介してガス供給孔1aと連通する細孔2a1が設けられている。尚、発明の理解を容易にする目的で図示を省略してあるが、静電チャック本体2と冷却装置1は、静電チャック本体2と冷却装置1の間に配置された接合シートにより接合されている。細孔の数は特に3つに制限されるものではない。
静電チャック10の製造方法として静電チャック本体2が窒化アルミニウムである場合の製造方法を説明する。
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。実施形態の変形例としては、以下のような変形例が挙げられる。異なる部分であるアーキング防止部材について中心に説明する。
図2(a)〜(c)に示すアーキング防止部材13は、静電チャック本体2側の主面にアーキング防止部材13の外径よりも小径の副座繰り部13bが設けられ、副座繰り部13bの底面から冷却装置1側主面につながるガス供給孔1aの内径よりも小径の複数の貫通孔13a1、13a2、13a3を有する絶縁部材を備える。複数の貫通孔の配置と静電チャック本対2の細孔の配置は静電チャック鉛直上面から見て重ならないようにすることが好ましい。貫通孔の数は図では3個であるが、3個以上であってよい。
図3(a)〜(c)に示すアーキング防止部材23は、静電チャック本体2側の主面にアーキング防止部材23の外径よりも小径の副座繰り部23bが設けられ、主座繰り部1bに挿入した際にガス流路となるようにアーキング防止部材3のガスの流れ方向の中心線を含む断面図の周囲で定義されるアーキング防止部材の表面に複数の溝23a1、23a2が設けられている。図4(a)〜(c)に示すアーキング防止部材33は、図3(b)(c)の溝23a1、23a2の数を増やし、図4(b)(c)に示すように溝33a1、33a2、33a3、33a4とした場合の例である。変形例2によれば、変形例1と同様の理由により、アーキングを防止することができる。
図5(a)〜(c)はアーキング防止部材43を示す。図5(c)に示すようにアーキング防止部材43は、静電チャック本体2側主面に、アーキング防止部材43の径方向の中心で交わる2つの溝43b1、43b2からなる十字状の副座繰り部43bを備える。図5(a)に示すように、主座繰り部1bにアーキング防止部材43を挿入した際にガス流路1cを形成するように、図5(b)に示すように円筒形状の側面43a(43a1、43a2、43a3、43a4、)に十字状の副座繰り部43bの溝43b1、43b2の長手方向に直行する平面状の複数の切り欠き部43c1、43c2、43c3、43c4、を有する。アーキング防止部材43の径は、図5(b)に示すように主座繰り部1bの径よりも小さいことが好ましい。バックサイドガスが43a1、43a2、43a3、43a4と主座繰り部1bの内壁の狭い空間を流れることでプラズマがガス供給孔1aの中で発生しにくくなり、アーキングを効果的に防止できるからである。なお、切り欠き部43c1、43c2、43c3、43c4と主座繰り部1bの内壁との間にバックサイドガスが流れる空間が形成されていれば、アーキング防止部材43の径を主座繰り部1bの径と略同一としてもよいが、アーキングを効果的に防止するためには、主座繰り部1bの径よりも小さくすることが好ましい。
(製造例1)
上述の製造方法に準じて以下の条件で製造例1にかかる静電チャックを製造した。
アーキング防止部材3に換えて、図2(a)〜(c)、図3(a)〜(c)、図4(a)〜(c)の形状を備えるポリテトラフルオロエチレンからなるアーキング防止部材13,23,33を用いたことを除き、製造例1と同様にして静電チャック11,12,13を製造した。
アーキング防止部材3に換えて、図1(a)〜(c)、図2(a)〜(c)、図3(a)〜(c)、図4(a)〜(c)の形状を備える99%のアルミナからなるアーキング防止部材13,23,33を用いたことを除き、製造例1と同様にして静電チャック10を製造した。
アーキング防止部材を用いなかった点と、冷却装置1の形状を図6(a)(b)に示す冷却装置201としたことを除き、上述の実施形態にかかる製造方法に準じて製造比較例にかかる静電チャック210を製造した。
(実施例1〜実施例4、比較例1)
製造例1〜製造例4、製造比較例で製造した図1〜図4、図6に示す静電チャックについて、表1に示す条件でアーキング防止効果を評価した。
表3に示すように、アーキング防止部材の材質として99%のアルミナとした点を除き、実施例1と同様にしてアーキング防止効果を評価した。また以下の基準に従いガス流量を測定した。得られた結果をまとめて表3に示す。
マスフローメーターをガス供給元と静電チャックのガス供給孔へつながる配管の途中に設置した。そして、チャンバー内を真空(=ほぼ0Torr(Pa))にして、ウエハーを載せないまま静電チャックに流れるガス流量をマスフローメーターで測定した。表中でバックサイドガス圧が10Torr(1330Pa)とはガス供給元の圧力が10Torr(1330Pa)であることを示し、ウエハーを吸着させたときはバックサイド圧力とガス供給元の圧力が同じになる。ウエハーを吸着させなければ、0Torr(Pa)の真空中にガスが放出され、バックサイド圧力はない。なお、表3中の「SCCM」は、standard cc(cm3)/minの略語であり、1atm(大気圧1,013hPa)下、一定温度(25℃)における単位時間当たりに換算した際の流量を示す。
表4に示すように、アーキング防止部材の材質として99%のアルミナを用いた点と、バックサイドガス圧を1Torr(133Pa)とした点を除き、実施例1と同様にしてアーキング防止効果を評価した。得られた結果をまとめて表4に示す。
3…アーキング防止部材、3a…ガス流路、
2…静電チャック本体、2a1,2a2,2a3…細孔
10,11,12,13…静電チャック
Claims (9)
- 冷却装置と、前記冷却装置上に配置され、ワーク載置面を有する静電チャック本体を備える半導体製造装置に用いられる静電チャックであって、
前記冷却装置を貫通して、前記冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔、前記ガス供給孔の開口部に前記ガス供給孔よりも大径の主座繰り部が設けられ、
前記主座繰り部に、前記ガス供給孔と連通するガス流路を設けた絶縁部材からなるアーキング防止部材が埋め込まれ、
前記ワーク載置面には、前記ガス流路を介して前記ガス供給孔と連通する細孔が設けられていることを特徴とする静電チャック。 - 前記アーキング防止部材が、前記ガス流路に前記冷却装置側から前記静電チャック本体側に向かい内径が同心円状に拡がる断面テーパ状の内壁を備えることを特徴とする請求項1記載の静電チャック。
- 前記アーキング防止部材の前記静電チャック本体側に前記アーキング防止部材の外径よりも小径の副座繰り部が設けられ、前記副座繰り部の底面から前記冷却装置側主面につながる前記ガス供給孔の内径よりも小径の前記ガス流路が複数備えられたことを特徴とする請求項1記載の静電チャック。
- 冷却装置と、前記冷却装置上に配置され、ワーク載置面を有する静電チャック本体を備える半導体製造装置に用いられる静電チャックであって、
前記冷却装置を貫通して、前記冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔、前記ガス供給孔の開口部に前記ガス供給孔よりも大径の主座繰り部が設けられ、
前記主座繰り部に挿入した際にガス流路となるように、ガスの流れ方向の中心線を含む断面図の周囲で定義される複数の溝が表面に設けられたアーキング防止部材が、前記主座繰り部に埋め込まれ、
前記ワーク載置面には、前記ガス流路を介して前記ガス供給孔と連通する細孔が設けられていることを特徴とする静電チャック。 - 前記アーキング防止部材の前記静電チャック本体側に、前記アーキング防止部材の外径よりも小径の副座繰り部が設けられたことを特徴とする請求項4記載の静電チャック。
- 冷却装置と、前記冷却装置上に配置され、ワーク載置面を有する静電チャック本体を備える半導体製造装置に用いられる静電チャックであって、
前記冷却装置を貫通して、前記冷却装置の一方の主面から他方の主面表面に至るように伸びるガス供給孔、前記ガス供給孔の開口部に前記ガス供給孔よりも大径の主座繰り部が設けられ、
前記静電チャック本体側主面に、径方向の中心で交わる2つの溝からなる十字状の副座繰り部を備え、前記主座繰り部に挿入した際にガス流路を形成するように、円筒形状の側面に前記十字状の副座繰り部のそれぞれの溝の長手方向に直行する平面状の複数の切り欠き部を有するアーキング防止部材が、前記主座繰り部に埋め込まれ、
前記ワーク載置面には、前記ガス流路を介して前記ガス供給孔と連通する細孔が設けられていることを特徴とする静電チャック。 - 前記アーキング防止部材の径が、前記主座繰り部の径よりも小さいことことを特徴とする請求項6記載の静電チャック。
- 前記アーキング防止部材の直径が前記静電チャック本体の厚みの2倍以上4倍以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 前記アーキング防止部材が、アルミナもしくは窒化アルミニウムからなることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の静電チャック。
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