JP2009204823A - シミュレーション方法及びシミュレーション用のプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体装置の製造に用いるシミュレーション方法であって、斜入射照明の点光源からマスクを見込んだときに、立体構造によって遮蔽部の側面により光の進行を妨げられない透過部分を、新たな開口部と考えた厚みのない透過率と位相分布を持つ仮想マスクを設定し(S52)、仮想マスクを用いた際の投影光学系の瞳面上での回折光に対し、該瞳面上での0次回折光と1次回折光との距離、遮蔽部の厚さ、マスクに対する光源からの入射光が光軸となす角度、に応じた関係で決められた0次回折光と1次回折光との位相差を設定し(S54)、設定された仮想マスク及び位相差を基に、マスクのパターンが転写される基板表面上での光強度をシミュレーションする(S55)。
【選択図】 図9
Description
x=λ/(2・HP)
で表される。
単純化のため、光軸からθだけ傾いた方向からの光照射に対して影となる部分32は、照明光が透過できないものと仮定する。
w’=w−d・tanθ=65.29nm
となる。
x=λ/(2・HP)
に従い、x1>x2>x3の関係になる。
Δφ=f(x,bias,θinc,d)
x:瞳面での0次回折光と1次回折光との距離
bias:周期マスクパターンのパターンサイズとHPとの差分量
θinc:照明光の入射角度
d:マスク遮蔽部の膜厚
として表され、bias,θinc,dの条件の違いにより異なる値を取るため、条件ごとに異なるグラフになっている。これらの条件により異なる位相差を計算するには多大な時間がかかり、シミュレーション時に計算するのはシミュレーションの速度を低下させる要因となる。
・瞳での収差としてシミュレーションに入力する。
このような方法を利用することにより、薄膜マスク近似計算の速さと同程度で、マスク立体構造考慮近似計算が可能になる。以下、上記の考えを適用した本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
半導体装置の製造におけるリソグラフィプロセスの設計において、感光性膜を塗布したウエハ基板上に図7に示すようなコンタクトホールパターン41を所望の寸法の範囲内で転写できるように、マスク上の対応するコンタクトホールパターン寸法設計を行う例を示す。
sinθ=NA×σ/Mag
∴θ=16.04deg
従って、開口部の大きさw=70nmに入る入射光のうち、遮蔽部によって反射されない領域は、
w’=w−d・tanθ=65.0nm
である。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。実施形態では、コンタクトホールについてのパターン寸法設計の例を示したが、他のパターン(LS、孤立ライン、孤立スペース、孤立したホール、LS周期端)であっても同様の方法で、短時間での設計を行うことができる。
12…マスク
13…投影光学系
14…ウエハ(基板)
21…立体構造マスク
22…遮光部
31…平面構造マスク
32…開口部周辺の影となる部分(フリンジ)
41…コンタクトホールパターン
42…光源
Claims (5)
- マスク平面に対して斜めから照明光を照射して、前記マスクに形成されたパターンを、投影光学系を介して基板上に転写するシミュレーション方法であって、
前記投影光学系の瞳面上での0次回折光と1次回折光との距離、前記マスクに形成される遮蔽部の厚さ、前記照射光の光軸方向と前記マスクへの入射方向とによって規定される角度、及び、前記マスクパターンが周期パターンである場合の前記マスクパターンサイズと前記マスクパターンの半周期サイズの差分量の少なくとも一つに応じた関係で決められた0次回折光と1次回折光との位相差を設定する工程と、
前記設定された位相差に基づいてシミュレーションを実行する工程と、
を含むことを特徴とするシミュレーション方法。 - 前記遮蔽部に進行が妨げられない前記照射光の透過するマスク部分をマスクパターンとして設定したマスクを用いてシミュレーションを実行することを特徴とする請求項1記載のシミュレーション方法。
- 前記0次回折光と1次回折光との間の位相差を設定する工程は、立体構造マスクに形成されたパターンが投影光学系を介して基板上に転写されるときの前記投影光学系の瞳面上での0次回折光と1次回折光との位相差と前記距離、前記厚さ、前記角度、及び前記バイアス量の少なくとも一つとの関係を格納したデータベースから読み出す、又は前記関係を表す関数に基づいて計算することを特徴とする請求項1記載のシミュレーション方法。
- 前記0次回折光と1次回折光との位相差を、前記投影光学系の瞳をグリッドに分割したマップ上の分布として表示しておくことを特徴とする請求項1記載のシミュレーション方法。
- マスク平面に対して斜めから照明光を照射して、前記マスクに形成されたパターンを、投影光学系を介して基板上に転写するシミュレーションを実行するためのプログラムであって、
前記投影光学系の瞳面上での0次回折光と1次回折光との距離、前記マスクに形成される遮蔽部の厚さ、前記照射光の光軸方向と前記マスクへの入射方向とによって規定される角度、及び、前記マスクパターンが周期パターンである場合の前記マスクパターンサイズと前記マスクパターンの半周期サイズの差分量の少なくとも一つに応じた関係で決められた0次回折光と1次回折光との位相差を設定する手段と、
前記設定された位相差に基づいてシミュレーションを実行する手段と、
をコンピュータに実行させることを特徴とするコンピュータ読み取り可能なプログラム。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010251761A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Asml Netherlands Bv | デバイス製造方法およびリソグラフィ装置 |
CN102540698A (zh) * | 2012-02-24 | 2012-07-04 | 北京理工大学 | 双吸收层交替相移掩模衍射场的计算方法 |
CN102809894A (zh) * | 2012-08-16 | 2012-12-05 | 北京理工大学 | 一种计算多吸收层接触孔掩模衍射的方法 |
CN111213090A (zh) * | 2017-10-11 | 2020-05-29 | Asml荷兰有限公司 | 图案化过程的优化流程 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0737769A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 投影光学像のシミュレーション方法 |
JP2002184688A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-06-28 | Asml Masktools Netherlands Bv | 高速空中像シミュレーションのための方法および装置 |
JP2005128558A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 近距離および中距離フレアを補償するための、モデルに基づく高速な光学的近接効果補正シミュレーション用カーネルへの位相マップの組み込み |
JP2006196555A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Nikon Corp | 収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置 |
JP2006237184A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Sony Corp | マスク補正方法および露光用マスク |
JP2006259699A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-09-28 | Asml Netherlands Bv | フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、コンピュータ・プログラム、パターン化装置、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を決定する方法、測定装置及びリソグラフィ装置 |
JP2006332168A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Nikon Corp | 計測方法、露光方法、及び露光装置 |
JP2007165894A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw | 短波長を持つ電磁放射を用いたリソグラフ方法および装置 |
JP2008209663A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 光近接効果補正方法 |
-
2008
- 2008-02-27 JP JP2008046179A patent/JP2009204823A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0737769A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 投影光学像のシミュレーション方法 |
JP2002184688A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-06-28 | Asml Masktools Netherlands Bv | 高速空中像シミュレーションのための方法および装置 |
JP2005128558A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 近距離および中距離フレアを補償するための、モデルに基づく高速な光学的近接効果補正シミュレーション用カーネルへの位相マップの組み込み |
JP2006196555A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Nikon Corp | 収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置 |
JP2006259699A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-09-28 | Asml Netherlands Bv | フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、コンピュータ・プログラム、パターン化装置、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を決定する方法、測定装置及びリソグラフィ装置 |
JP2006237184A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Sony Corp | マスク補正方法および露光用マスク |
JP2006332168A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Nikon Corp | 計測方法、露光方法、及び露光装置 |
JP2007165894A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw | 短波長を持つ電磁放射を用いたリソグラフ方法および装置 |
JP2008209663A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 光近接効果補正方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010251761A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Asml Netherlands Bv | デバイス製造方法およびリソグラフィ装置 |
CN102540698A (zh) * | 2012-02-24 | 2012-07-04 | 北京理工大学 | 双吸收层交替相移掩模衍射场的计算方法 |
CN102540698B (zh) * | 2012-02-24 | 2014-07-30 | 北京理工大学 | 双吸收层交替相移掩模衍射场的计算方法 |
CN102809894A (zh) * | 2012-08-16 | 2012-12-05 | 北京理工大学 | 一种计算多吸收层接触孔掩模衍射的方法 |
CN111213090A (zh) * | 2017-10-11 | 2020-05-29 | Asml荷兰有限公司 | 图案化过程的优化流程 |
US11886124B2 (en) | 2017-10-11 | 2024-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Flows of optimization for patterning processes |
CN111213090B (zh) * | 2017-10-11 | 2024-04-09 | Asml荷兰有限公司 | 图案化过程的优化流程 |
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