JP2006259699A - フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、コンピュータ・プログラム、パターン化装置、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を決定する方法、測定装置及びリソグラフィ装置 - Google Patents
フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、コンピュータ・プログラム、パターン化装置、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を決定する方法、測定装置及びリソグラフィ装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】パターン化装置を作成する段階において目標となる寸法及び配向を画定し、この放射の有効影角度を複数ポイントで計算し、これに基づいて所望画像の変位及び寸法誤差を補償するようにパターン化装置の吸収体層の厚さもしくは吸収体の強度減衰を調整する。該パターン化装置を用いた投影露光装置であって、前記画像の目標一を決定するために用いられる測定装置を備え、検出器の結果に応じて目標画像の一及び寸法誤差が補償されるように構成したリソグラフィ装置。
【選択図】図1
Description
パターン化装置中に形成されたパターン中に、パターンを転送している間に所望の画像が基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャを画定する段階と、
画定されたフィーチャに対する放射の有効影角度をパターン化装置上の複数のポイントで計算する段階と、
計算した有効影角度に基づいて所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、画定されたフィーチャを調整する段階と
を含む方法が提供される。
パターンを転送している間に所望の画像が基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャの表現を解析する段階と、
画定されたフィーチャに対する放射の有効影角度をパターン化装置上の複数のポイントで計算する段階と、
計算した有効影角度に基づいて所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、画定されたフィーチャを調整する段階とが含まれているコンピュータ・プログラムが提供される。
放射のビームを条件付けるようになされた照明システムと、
所望のパターンに従って放射のビームをパターン化するようになされたパターン化装置を支持するようになされた支持部と、
基板を保持するようになされた基板テーブルと、
パターン化された放射のビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
リソグラフィ投影装置内の基板上若しくは基板の近傍の、パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定するようになされた測定装置であって、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を測定するようになされた検出器を備え、この検出器によって、パターンを転送している間、パターン化装置のフィーチャに対する放射ビームの有効影角度によって導入される目標画像の測定位置の変位及び寸法誤差が補償される測定装置とを備えたリソグラフィ投影装置が提供される。
1.段階・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。段階・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の非走査方向の幅が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターン化装置を保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化装置が更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化装置を利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
ESA=CRAO.cos(方位+ω) (1)
で表される。CRAOは、スリットの中心半径によって画定される角度であり、方位は、スリット内の現在位置を画定している。ωは、マスク座標系に従った構造の回転である。X方向(図4参照)がスリットに対して直角であり、したがって走査方向に対して直角である標準のマスク座標系を使用すると、水平線(つまりX方向の線)は、式(1)では、0°の値を有し、垂直線は、90°の値を有することになる。CRAOが6°の垂直線では、方位に沿ったESAは、3.0°から直線的に減少して−3.0°までの範囲を示す。水平線に対しては、ESAは、スリットの左右5.0°の付近に2つの極小を有する、CRAOの周りの二次挙動を示す。図8は、様々な構造配向ωに対するESAの概要を示したものである。
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
C ケーブル
IF1、IF2 位置センサ
IL イルミネータ(照明システム)
LA、SO 放射源
MA パターン化装置(マスク、レチクル)
ML 多層膜
MT 支持部(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
OA 光軸
PL、PS 投影システム(レンズ)
PM 第1の位置決め装置
PW 第2の位置決め装置
P1、P2 基板アライメント・マーク
S 感光センサ
W 基板
WT 基板テーブル
W1 基板テーブル・アライメント・マーカ
7 放射源チャンバ
8 コレクタ・チャンバ
9 ホイル・トラップ
10 放射コレクタ
11 回折格子スペクトル純度フィルタ
12 仮想ソース・ポイント
13、14 垂直入射反射器
17 パターン化されたビーム
18、19 反射エレメント
20 プロセッサ
21 記憶装置
50 パターン化された吸収体層
51 バッファ層
52 多層スタック
54 トラフ
901、902 マスクのパターンを画定している構造
Claims (16)
- パターン化装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を利用して基板に転送するためのフォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法であって、
前記パターン化装置中に形成された前記パターン中に、パターンを転送している間に所望の画像が前記基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャを画定する段階と、
画定されたフィーチャに対する放射の有効影角度を前記パターン化装置上の複数のポイントで計算する段階と、
計算した有効影角度に基づいて前記所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、前記画定されたフィーチャを調整する段階とを含む方法。 - 前記画定されたフィーチャが、
−前記フィーチャを画定するために使用される吸収体層の厚さ
−前記吸収体の強度減衰
のうちの少なくとも1つを使用して調整される、請求項1に記載のフォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法。 - 装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を利用して基板に転送するためのフォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法であって、
前記装置中に形成された前記パターン中に、パターンを転送している間に所望の画像が前記基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャを画定する段階と、
露光スリット内の前記フィーチャの位置と相互に関連する前記所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、パターンを転送している間、前記画定されたフィーチャを調整する段階とを含む方法。 - 前記画定されたフィーチャが、
−前記フィーチャを画定するために使用される吸収体層の厚さ
−前記吸収体の強度減衰
のうちの少なくとも1つを使用して調整される、請求項3に記載のフォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法。 - コンピュータによる読出しが可能な記録媒体と、前記記録媒体に記録された、コンピュータによる実行が可能なコードとを備えたコンピュータを制御し、パターン化装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を使用して基板に光転送するためのパターン化装置を生成するために使用する調整モデルを生成するべく前記コンピュータを導くコンピュータ・プログラムであって、前記調整モデルの生成に、
パターンを転送している間に所望の画像が前記基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャの表現を解析する段階と、
画定されたフィーチャに対する放射の有効影角度を前記パターン化装置上の複数のポイントで計算する段階と、
計算した有効影角度に基づいて前記所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、前記画定されたフィーチャを調整する段階とが含まれているコンピュータ・プログラム。 - コンピュータによる読出しが可能な記録媒体と、前記記録媒体に記録された、コンピュータによる実行が可能なコードとを備えたコンピュータを制御し、パターン化装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を使用して基板に光転送するためのパターン化装置を生成するために使用する調整モデルを生成するべく前記コンピュータを導くコンピュータ・プログラムであって、前記調整モデルの生成に、
前記パターン化装置中に形成された前記パターン中の、パターンを転送している間に所望の画像が前記基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャを解析する段階と、
露光スリット内の前記フィーチャの位置と相互に関連する前記所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、パターンを転送している間、前記フィーチャを調整する段階とが含まれているコンピュータ・プログラム。 - パターン化装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を利用して基板に転送するためのパターン化装置であって、
前記パターン化装置中に形成された前記パターン中に、パターンを転送している間に所望の画像が前記基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャを画定する段階と、
画定されたフィーチャに対する放射の有効影角度を前記パターン化装置上の複数のポイントで計算する段階と、
計算した有効影角度に基づいて前記所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、前記フィーチャを調整する段階とを含む方法によって製造されたパターン化装置。 - パターン化装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を利用して基板に転送するためのパターン化装置であって、
前記パターン化装置中に形成された前記パターン中に、パターンを転送している間に所望の画像が前記基板上に生成されるように選択された寸法及び配向を有するフィーチャを画定する段階と、
露光スリット内の前記フィーチャの位置と相互に関連する前記所望する画像の変位及び寸法誤差を補償するために、パターンを転送している間、前記フィーチャを調整する段階とを含む方法によって製造されたパターン化装置。 - リソグラフィ投影装置内の基板上若しくは基板の近傍の、パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定する方法であって、
前記基板上若しくは前記基板の近傍の前記目標画像の位置を測定する段階と、
前記パターン化装置の前記フィーチャに対する放射の有効影角度によって導入される変位及び寸法誤差を補償するために、パターンを転送している間、前記目標画像の測定位置を調整する段階とを含む方法。 - リソグラフィ投影装置内の基板上若しくは基板の近傍の、パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定する方法であって、
前記基板上若しくは前記基板の近傍の前記目標画像の位置を測定する段階と、
露光スリット内の前記パターン化装置上の前記フィーチャの位置と相互に関連する変位及び寸法誤差を補償するために、パターンを転送している間、前記目標画像の測定位置を調整する段階とを含む方法。 - リソグラフィ投影装置内の基板上若しくは基板の近傍の、パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定するための測定装置であって、前記測定装置が、
前記基板上若しくは前記基板の近傍の前記目標画像の位置を測定するようになされた検出器を備え、前記検出器によって、パターンを転送している間、前記パターン化装置の前記フィーチャに対する放射の有効影角度によって導入される前記目標画像の測定位置の変位及び寸法誤差が補償される測定装置。 - リソグラフィ投影装置内の基板上若しくは基板の近傍の、パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定するための測定装置であって、前記測定装置が、
前記基板上若しくは前記基板の近傍の前記目標画像の位置を測定するように構成され、且つ、配置された検出器を備え、前記検出器によって、パターンを転送している間、露光スリット内の前記パターン化装置上の前記フィーチャの位置と相互に関連する前記目標画像の測定位置の変位及び寸法誤差が補償される測定装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射のビームを条件付けるようになされた照明システムと、
所望のパターンに従って前記放射のビームをパターン化するようになされたパターン化装置を支持するようになされた支持部と、
基板を保持するようになされた基板テーブルと、
パターン化された放射のビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
リソグラフィ投影装置内の前記基板上若しくは前記基板の近傍の、前記パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定するようになされた測定装置であって、前記測定装置が、前記基板上若しくは前記基板の近傍の前記目標画像の位置を測定するようになされた検出器を備え、前記検出器によって、パターンを転送している間、前記パターン化装置の前記フィーチャに対する前記放射のビームの有効影角度によって導入される前記目標画像の測定位置の変位及び寸法誤差が補償される測定装置とを備えたリソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射のビームを条件付けるようになされた照明システムと、
所望のパターンに従って前記放射のビームをパターン化するようになされたパターン化装置を支持するようになされた支持部と、
基板を保持するようになされた基板テーブルと、
パターン化された放射のビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
前記基板上若しくは前記基板の近傍の、前記パターン化装置上のフィーチャによって形成される目標画像の位置を決定するようになされた測定装置であって、前記測定装置が、前記基板上若しくは前記基板の近傍の前記目標画像の位置を測定するように構成され、且つ、配置された検出器を備え、前記検出器によって、パターンを転送している間、露光スリット内の前記パターン化装置上の前記フィーチャの位置と相互に関連する前記目標画像の測定位置の変位及び寸法誤差が補償される測定装置とを備えたリソグラフィ投影装置。 - パターン化装置中に形成されたパターンをリソグラフィ投影装置を利用して基板に転送するためのパターン化装置であって、定義済みの構造を有する、ガラス及びガラス・セラミックスのうちの少なくともいずれかを使用して構築された吸収体層を備えたパターン化装置。
- 前記吸収体層がZERODUR(登録商標)を使用して構築された、請求項15に記載のパターン化装置。
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