JP2008076682A - 原版データ作成プログラム、原版データ作成方法、原版作成方法、露光方法及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の第1側面に係る原版データ作成プログラムは、照明光学系により照明され投影光学系を介して感光剤に潜像を形成するのに用いられる原版のデータをコンピュータに作成させる原版データ作成プログラムであって、有効光源の強度分布を示す関数をフーリエ変換して、前記原版が配置される前記投影光学系の物体面における可干渉性の分布を示すコヒーレントマップを生成するマップ生成ステップと、前記コヒーレントマップにおいて、原点に主パターンを配置し、原点に対する可干渉性が設定された値以上の領域に補助パターンを配置する配置ステップとを前記コンピュータに行わせることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
F1(x,y)=Σf(x−xi,y−yi)・・・数式1
としてi=1〜nについて合計したF1(x,y)を合成コヒーレントマップ42nにすればよい。後は実施例1で述べたように、F1(x,y)が一定の閾値を超え、かつ、ピークになる位置に補助パターンを配置すれば結像特性が向上する。
F2(x,y)=∬f(lx、ly)dlxdly・・・数式2
となる。数式2では、線Lを示す関数l(x,y)において重積分している。
F3(x,y)=∬Rect(x/e,y/e)f(x,y)dxdy・・・数式3
とすればよい。すなわち、制御部20は、点に対して定義されていたコヒーレントマップ42を、正方形のコンタクトホールのパターンを示す関数と掛け合わせて積分して、有限サイズコヒーレントマップ42を示す関数F3(x,y)を求める。
Sraw(fx,fy)=∬w(fx,fy)O(fx,fy)circ(fx−a,fy−b)dadb・・・数式4
の重積分を、|a|≦2、|b|≦2の範囲で演算する。さらに、制御部20は、
S(fx,fy)=Sraw(fx,fy)circ(fx,fy)・・・数式5
を演算する。制御部20は、数式5で求めたS(fx,fy)を、有効光源の強度分布の設定値とする。
ウェハ170ではフォトレジスト172が基板174上に塗布されている。なお、ウェハ170は、液晶基板その他の被露光体に置き換えられても良い。
41 パターンデータ
42 コヒーレントマップ
43 マスクのデータ
47 原版データ作成プログラム
Claims (9)
- 照明光学系により照明され投影光学系を介して感光剤に潜像を形成するのに用いられる原版のデータをコンピュータに作成させる原版データ作成プログラムであって、
有効光源の強度分布を示す関数をフーリエ変換して、前記原版が配置される前記投影光学系の物体面における可干渉性の分布を示すコヒーレントマップを生成するマップ生成ステップと、
前記コヒーレントマップにおいて、原点に主パターンを配置し、原点に対する可干渉性が設定された値以上の領域に補助パターンを配置する配置ステップと、
を前記コンピュータに行わせることを特徴とする原版データ作成プログラム。 - 前記配置ステップでは、
1以上の要素を有するパターンデータを処理対象として、ある要素を注目要素として選択し、前記コヒーレントマップの原点を前記パターンデータの注目要素へ重ね合わせ、前記可干渉性が設定された値以上の領域に前記補助パターンを追加して配置する
ことを特徴とする請求項1に記載の原版データ作成プログラム。 - 前記マップ生成ステップでは、有効光源の強度分布を示す関数に偏光に起因する因子をかけてフーリエ変換する
ことを特徴とする請求項1に記載の原版データ作成プログラム。 - 前記補助パターンの寸法は、前記主パターンの寸法の50%から85%である
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の原版データ作成プログラム。 - 照明光学系により照明され投影光学系を介して感光剤に潜像を形成するのに用いられる原版のデータを作成する原版データ作成方法であって、
有効光源の強度分布を示す関数をフーリエ変換して、前記原版が配置される前記投影光学系の物体面における可干渉性の分布を示すコヒーレントマップを生成するマップ生成ステップと、
前記コヒーレントマップにおいて、原点に主パターンを配置し、原点に対する可干渉性が設定された値以上の領域に補助パターンを配置する配置ステップと、
を備えることを特徴とする原版データ作成方法。 - 請求項5に記載の原版データ作成方法により作成された原版のデータを用いて原版を作成することを特徴とする原版作成方法。
- 請求項6に記載の原版作成方法により作成された原版を照明する照明ステップと、
投影光学系を介して前記原版のパターンの像を感光剤に露光して、前記感光剤に潜像を形成する形成ステップと、
を備えることを特徴とする露光方法。 - 複数の要素を有するパターンデータを処理対象として、可干渉性が設定された値以上の領域が前記複数の要素の位置に重なるか否かを判定する判定ステップと、
可干渉性が設定された値以上の領域が前記複数の要素の位置に重ならないと前記判定ステップで判定する場合、新たな有効光源の強度分布を示す関数を設定する設定ステップと、
をさらに備える
ことを特徴とする請求項7に記載の露光方法。 - 請求項7または8に記載された露光方法により前記原版のパターンの像を前記感光剤に露光する露光ステップと、
前記潜像を現像する現像ステップと、
を備えることを特徴とするデバイスの製造方法。
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