JP6192372B2 - マスクパターンの作成方法、プログラムおよび情報処理装置 - Google Patents
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Description
本実施形態は、半導体デバイスを作製するためのリソグラフィー技術に関し、マスクを照明する照明光学系とマスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系とにより基板を露光する露光装置に用いられるマスクのパターンの作成に関する。
本実施形態では、第1実施形態のフローチャートにおけるS116が異なる。本実施形態では、S116において、主パターンに含まれる各図形を縮小する工程と、作成された像特性の参照マップと、縮小された主パターンとを用いて畳み込み積分(コンボリューション)を行い、主パターンの像特性敏感度マップを作成する工程を有する。
上述の実施例で作成されたマスクパターンのデータはマスク製造装置(パターン描画装置)に入力され、該装置が入力データに基づきマスクブランクスにパターンを描画してマスクを製造する。そして、予め設定された露光条件を露光装置に設定し、製造されたマスクを照明して、基板上の感光剤(レジスト)にマスクのパターンの像を投影して、感光剤を露光する。
Claims (12)
- マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのパターンを情報処理装置による計算によって作成する作成方法において、解像すべき代表主パターンと、前記代表主パターンの解像を補助し、解像しない代表補助パターンが1つ、前記投影光学系の物体面に配置されたときの代表主パターンの像を演算処理して得られる特性値を前記代表補助パターンの各位置に対して表す参照マップを取得するステップと、
取得した前記参照マップと解像すべき主パターンの畳み込み積分を行うことによって、前記主パターンの像の前記特性値のマップを計算するステップと、
前記主パターンの像の特性値のマップのデータを用いて、前記主パターンの解像を補助し、解像しない補助パターンの位置を決定して、前記主パターン及び該決定された前記補助パターンを含むマスクのパターンを作成するステップとを有することを特徴とする作成方法。 - 前記代表主パターン及び前記代表補助パターンのうち前記代表主パターンのみが前記投影光学系の物体面にあるときの前記代表主パターンの第1像を計算するステップと、
前記代表主パターン及び前記代表補助パターンが前記投影光学系の物体面にあるときに、前記代表補助パターンの位置を変えながら複数の位置のそれぞれについて、前記代表主パターンの第2像を計算するステップと、を有し、
前記第1像と前記第2像を用いて前記参照マップを求めることを特徴とする請求項1に記載の作成方法。 - 前記像の特性値は、焦点深度、露光余裕度、プロセスウィンドウ、MEEF、及び、PVバンドのうち少なくとも1つの値を示すことを特徴とする請求項1又は2に記載の作成方法。
- 前記代表主パターンを点として計算された前記参照マップと、点よりも大きな寸法の前記主パターンと、の畳み込み積分をすることにより、前記主パターンの像の特性値のマップを求めることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の作成方法。
- 前記代表主パターンを点よりも大きな寸法として計算された前記参照マップと、点とした前記主パターンと、の畳み込み積分をすることにより、前記主パターンの像の特性値のマップを求めることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の作成方法。
- 前記代表補助パターンの振幅透過率は、前記代表主パターンの振幅透過率と前記マスクの背景の振幅透過率との間であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の作成方法。
- 前記参照マップのある位置の特性値は、前記物体面に前記代表主パターンと前記位置に代表補助パターンが配置されたときに、互いに異なる複数の条件で計算される前記代表主パターンの複数の像同士に対して演算処理を行って得られる特性値であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の作成方法。
- 請求項1乃至7の何れか1項に記載の作成方法を用いて、マスクのパターンのデータを作成するステップと、
作成されたマスクのパターンのデータを用いてマスクを製造するステップとを有することを特徴とするマスク製造方法。 - 請求項8に記載のマスク製造方法を用いてマスクを製造するステップと、
製造されたマスクを用いて基板を露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 請求項9に記載の露光方法を用いて基板を露光するステップと、
露光された基板を現像するステップとを有し、現像された基板からデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。 - 請求項1乃至7の何れか1項に記載の作成方法を情報処理装置に実行させるためのプログラム。
- マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのパターンを計算によって作成する処理部を有する情報処理装置において、
前記処理部は、解像すべき代表主パターンと、前記代表主パターンの解像を補助し、解像しない代表補助パターンが1つ、前記投影光学系の物体面に配置されたときの代表主パターンの像を演算処理して得られる特性値を表す、前記代表補助パターンの各位置に対する前記代表主パターンの像の特性値を前記代表補助パターンの各位置に対して表す参照マップを取得し、取得した前記参照マップと解像すべき主パターンの畳み込み積分を行うことによって、前記主パターンの像の前記特性値のマップを計算し、前記主パターンの像の特性値のマップのデータを用いて、前記主パターンの解像を補助し、解像しない補助パターンの位置を決定して、前記主パターン及び該決定された前記補助パターンを含むマスクのパターンを作成することを特徴とする情報処理装置。
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