JP5300354B2 - 生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム - Google Patents
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Description
<第1の実施形態>
ステップS102では、上述したように、マスクパターンの初期パターンデータ、有効光源の初期データ及び露光装置に設定可能な露光パラメータを設定する。第1の実施形態では、初期パターンデータとして、目標パターンデータを設定する。また、露光パラメータとして、NA情報406に0.86、λ情報407に248nmが設定される。なお、収差情報408、偏光情報409及びレジスト情報410には「なし」が設定される。
<第2の実施形態>
第2の実施形態では、式10に示したように、マスクパターンを複数の領域に分割し、かかる複数の領域に対して、パターンに応じて重み付けをしながら有効光源(有効光源データ)を決定する例を説明する。
<第3の実施形態>
第3の実施形態では、目標パターンデータ401を変形させて、マスクデータ404及び有効光源データ405を生成する例を説明する。目標パターンデータ401を変形する際には、目標パターンの最小ピッチを変更せずに、目標パターンを変形(即ち、パターン(要素)の配置を変化)させる。
10 バス配線
20 制御部
30 表示部
40 記憶部
401 目標パターンデータ
402 変形パターンデータ
403 近似空中像
404 マスクデータ
405 有効光源データ
406 NA情報
407 λ情報
408 収差情報
409 偏光情報
410 レジスト情報
411 生成プログラム
50 入力部
60 媒体インターフェース
70 記憶媒体
100 露光装置
110 照明装置
160 光源
180 照明光学系
181 引き回し光学系
182 ビーム整形光学系
183 偏光制御部
184 位相制御部
185 射出角度保存光学素子
186 リレー光学系
187 多光束発生部
188 偏光状態調整部
189 計算機ホログラム
190 リレー光学系
191 アパーチャ
192 ズーム光学系
193 多光束発生部
194 開口絞り
195 照射部
120 マスク
130 投影光学系
140 ウエハ
Claims (13)
- 光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられる有効光源及び原版のデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、
前記基板に形成すべき目標パターンと、有効光源と、前記露光装置に設定可能な露光パラメータとを設定する設定ステップと、
設定されている目標パターンと、有効光源と、露光パラメータとに基づいて、前記投影光学系の像面に形成される空中像を算出する第1の空中像算出ステップと、
前記第1の空中像算出ステップで算出された空中像に基づいて、前記原版のパターンを決定するパターン決定ステップと、
前記パターン決定ステップで決定されたパターンに基づいて、前記投影光学系の瞳面に形成される回折光分布を算出する回折光分布算出ステップと、
前記回折光分布算出ステップで算出された回折光分布と、前記設定ステップで設定された露光パラメータとに基づいて新たな有効光源を決定して、前記設定ステップで設定された有効光源を前記新たな有効光源に変更する有効光源決定ステップと、
前記パターン決定ステップで決定された前記原版のパターンと、前記有効光源決定ステップで決定された新たな有効光源と、前記設定ステップで設定された露光パラメータとに基づいて、前記基板に形成される空中像を算出する第2の空中像算出ステップと、
前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像を評価して評価基準を満たすかどうかを判定する判定ステップと、
前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たすと判定された場合に、前記有効光源決定ステップで決定された新たな有効光源を前記露光装置に用いられる有効光源として生成し、前記パターン決定ステップで決定されたパターンのデータを含むデータを前記原版のデータとして生成する生成ステップとを有し、
前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たさないと判定された場合に、前記第1の空中像算出ステップで用いられる前記目標パターンを変更して設定し、
前記有効光源決定ステップで変更された新たな有効光源と、該変更した目標パターンと、前記露光パラメータとに基づいて、前記基板に形成される第1の空中像を算出し、
更に、前記パターン決定ステップ、前記回折光分布算出ステップ、前記有効光源決定ステップ、前記第2の空中像算出ステップ及び前記判定ステップを実行することを特徴とする生成方法。 - 前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たすと判定されるまでに前記第1の空中像算出ステップで用いられる前記目標パターンとして設定された各目標パターンのいずれか1つと、前記露光装置に用いられる有効光源として決定された有効光源と、前記露光パラメータとに基づいて前記基板に形成される空中像を算出し、該算出された空中像に基づいて前記原版のパターンを決定することを特徴とする請求項1に記載の生成方法。
- 前記第1の空中像算出ステップ及び前記第2の空中像算出ステップでは、2次元相互透過係数を用いて、前記投影光学系の像面に形成される空中像を算出することを特徴とする請求項1に記載の生成方法。
- 前記原版のデータは、主パターンと、補助パターンとを含み、
前記パターン決定ステップでは、前記第1の空中像算出ステップで算出された空中像と前記目標パターンとの差分が許容範囲内になるように前記主パターンを変形すると共に、前記主パターンに対して前記補助パターンを挿入することを特徴とする請求項1に記載の生成方法。 - 前記パターン決定ステップでは、前記目標パターンの最小ピッチを変更せずに、前記目標パターンの一部のピッチを変更して前記原版のパターンを決定することを特徴とする請求項1に記載の生成方法。
- 前記原版のデータは、主パターンと、補助パターンとを含み、
前記パターン決定ステップでは、前記補助パターン間の干渉が低減するように変更して設定された前記目標パターンに基づいて前記原版のパターンを決定し、
前記有効光源決定ステップでは、前記主パターン間の干渉と、前記主パターンと前記補助パターンとの干渉とから前記有効光源を決定することを特徴とする請求項1に記載の生成方法。 - 前記有効光源決定ステップは、
前記パターン決定ステップで決定された原版のパターンを複数の領域に分割する分割ステップと、
前記分割ステップで分割された複数の領域のそれぞれに対して、前記複数の領域のそれぞれに存在する原版のパターンの部分に応じて重み付けをしながら有効光源を決定する決定ステップと、
前記決定ステップで決定された前記複数の領域のそれぞれの有効光源を重ね合わせる重ね合わせステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の生成方法。 - 前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たさないと判定された場合に、前記第1の空中像算出ステップで用いられる前記目標パターンの要素間の相対位置及び要素の形状の少なくとも一方を変更することを特徴とする請求項1に記載の生成方法。
- 前記露光パラメータは、前記光源からの波長、前記投影光学系の開口数、前記投影光学系の収差、及び、前記基板を露光する露光光の偏光の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の生成方法。
- 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の生成方法で生成された原版のデータに基づいて原版を作成することを特徴とする原版作成方法。
- 請求項10に記載された原版作成方法により原版を作成するステップと、
該作成された原版を、請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の生成方法で生成された有効光源で照明するステップと、
投影光学系を介して前記原版のパターンの像を基板に投影するステップと、
を有することを特徴とする露光方法。 - 請求項11に記載の露光方法を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。 - 光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられる有効光源及び原版のデータをコンピュータに生成させるプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記基板に形成すべき目標パターンと、有効光源と、前記露光装置に設定可能な露光パラメータとを設定する設定ステップと、
設定されている目標パターンと、有効光源と、露光パラメータとに基づいて、前記投影光学系の像面に形成される空中像を算出する第1の空中像算出ステップと、
前記第1の空中像算出ステップで算出された空中像に基づいて、前記原版のパターンを決定するパターン決定ステップと、
前記パターン決定ステップで決定されたパターンに基づいて、前記投影光学系の瞳面に形成される回折光分布を算出する回折光分布算出ステップと、
前記回折光分布算出ステップで算出された回折光分布と、前記設定ステップで設定された露光パラメータとに基づいて新たな有効光源を決定して、前記設定ステップで設定された有効光源を前記新たな有効光源に変更する有効光源決定ステップと、
前記パターン決定ステップで決定された前記原版のパターンと、前記有効光源決定ステップで決定された新たな有効光源と、前記設定ステップで設定された露光パラメータとに基づいて、前記基板に形成される空中像を算出する第2の空中像算出ステップと、
前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像を評価して評価基準を満たすかどうかを判定する判定ステップと、
前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たすと判定された場合に、前記有効光源決定ステップで決定された新たな有効光源を前記露光装置に用いられる有効光源として生成し、前記パターン決定ステップで決定されたパターンのデータを含むデータを前記原版のデータとして生成する生成ステップと、
を実行させ、
前記判定ステップで前記第2の空中像算出ステップで算出された空中像が前記評価基準を満たさないと判定された場合に、前記第1の空中像算出ステップで用いられる前記目標パターンを変更して設定し、
前記有効光源決定ステップで変更された新たな有効光源と、該変更した目標パターンと、前記露光パラメータとに基づいて、前記基板に形成される第1の空中像を算出し、
更に、前記パターン決定ステップ、前記回折光分布算出ステップ、前記有効光源決定ステップ、前記第2の空中像算出ステップ及び前記判定ステップを実行することを特徴とするプログラム。
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