JP2009119695A - ナノプリント用樹脂スタンパ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 UVナノインプリントに使用される樹脂スタンパであって、光透過性材料からなり、機械的強度を有する支持部材と、光透過性材料からなる中間層と、光透過性材料からなる樹脂パターン層とからなり、
前記支持部材のサイズが前記中間層及び樹脂パターン層のサイズよりも大きく、
前記中間層が前記樹脂パターン層よりも柔軟性が高く、
前記樹脂パターン層の表面には原盤の凹凸パターンと反対の凹凸パターンが形成されていることを特徴する樹脂スタンパ。
【選択図】 図2
Description
前記支持部材のサイズが前記中間層及び樹脂パターン層のサイズよりも大きく、
前記中間層が前記樹脂パターン層よりも柔軟性が高く、
前記樹脂パターン層の表面には原盤の凹凸パターンと反対の凹凸パターンが形成されていることを特徴する樹脂スタンパである。
昇降機構に支持されたステージと、該ステージ上に配設された表面が曲面状の載置テーブルとを有し、
前記載置テーブルは、その表面上に配設され、該載置テーブルの曲面に従うクッション層を有し、
前記載置テーブルのクッション層上に載置される被転写基板を載置テーブルに型締めするためクランプ機構を有し、
前記樹脂スタンパの樹脂パターン層のサイズが前記被転写基板のサイズよりも小さいことを特徴とする微細構造転写装置である。
加圧すると、形成される樹脂パターン層7の厚さを薄くすることができる。加圧しながら、UV光を適当な時間露光して樹脂を硬化させ、原盤25のパターンが転写された樹脂パターン層7を形成する。樹脂パターン層7と原盤25との離型性が悪いため、この状態で離型させると樹脂パターン層7が破壊されてしまうことがある。そのため、水中で離型処理することが好ましい。なお、言うまでもなく、原盤25の形成自体は本発明の構成には含まれない。原盤25の形成は当業者に公知慣用の任意の方法により実施することができる。例えば、原盤25は光リソグラフィー法、電子線を用いた露光技術、X線を用いた露光技術及びイオン線を用いた露光技術などにより作製することができる。
3 支持部材
5 中間層
7 樹脂パターン層
9 接着層
11 平坦化膜
13 離型処理膜
15 下部平面板
17 位置決め板
19 平坦化膜形成用樹脂
21 接着層形成用樹脂
23 上部平面板
25 原盤
27 光硬化型樹脂
28 微細構造転写装置
29 スタンパ保持治具
31 露光装置
33 紫外線照射板
35 照射レンズ
37 紫外光導光手段
39 XYZ移動機構
41 被転写基板
43 ステージ
45 載置テーブル
47 クッション層
49 昇降機構
51 ボールネジ
53 ステッピングモータ
55 ロードセル
57 光硬化型樹脂
60 クランプ機構
62 クランプ爪
64 クランプアーム
66 軸
70 ベース層
72 ナノインプリントパターン層
Claims (5)
- UVナノインプリントに使用される樹脂スタンパであって、光透過性材料からなり、機械的強度を有する支持部材と、光透過性材料からなる中間層と、光透過性材料からなる樹脂パターン層とからなり、
前記支持部材のサイズが前記中間層及び樹脂パターン層のサイズよりも大きく、
前記中間層が前記樹脂パターン層よりも柔軟性が高く、
前記樹脂パターン層の表面には原盤の凹凸パターンと反対の凹凸パターンが形成されていることを特徴する樹脂スタンパ。 - 前記中間層と樹脂パターン層との界面に光透過性材料からなる平坦化膜が更に存在することを特徴する請求項1記載の樹脂スタンパ。
- 前記樹脂パターン層の表面に光透過性材料からなる離型処理膜が更に存在することを特徴する請求項1記載の樹脂スタンパ。
- 前記支持部材はガラス、石英、サファイア及び透明プラスチックからなる群から選択される材料からなり、前記中間層はポリウレタンゴムシート、シリコンゴムシート及びアクリルゴムシートからなる群から選択される材料からなり、前記樹脂パターン層はUV硬化型ポリエステル及びアクリルゴムからなる群から選択される材料からなる請求項1記載の樹脂スタンパ。
- モールドとして請求項1記載の樹脂スタンパを使用する微細構造転写装置であって、
昇降機構に支持されたステージと、該ステージ上に配設された表面が曲面状の載置テーブルとを有し、
前記載置テーブルは、その表面上に配設され、該載置テーブルの曲面に従うクッション層を有し、
前記載置テーブルのクッション層上に載置される被転写基板を載置テーブルに型締めするためクランプ機構を有し、
前記樹脂スタンパの樹脂パターン層のサイズが前記被転写基板のサイズよりも小さいことを特徴とする微細構造転写装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007295458A JP5002422B2 (ja) | 2007-11-14 | 2007-11-14 | ナノプリント用樹脂スタンパ |
US12/270,376 US8016585B2 (en) | 2007-11-14 | 2008-11-13 | Nanoimprint resin stamper |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007295458A JP5002422B2 (ja) | 2007-11-14 | 2007-11-14 | ナノプリント用樹脂スタンパ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009119695A true JP2009119695A (ja) | 2009-06-04 |
JP5002422B2 JP5002422B2 (ja) | 2012-08-15 |
Family
ID=40623954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007295458A Expired - Fee Related JP5002422B2 (ja) | 2007-11-14 | 2007-11-14 | ナノプリント用樹脂スタンパ |
Country Status (2)
Country | Link |
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US (1) | US8016585B2 (ja) |
JP (1) | JP5002422B2 (ja) |
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JP5677987B2 (ja) * | 2010-01-29 | 2015-02-25 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法、並びにインプリント用モールド基材 |
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WO2015162714A1 (ja) * | 2014-04-23 | 2015-10-29 | 日産自動車株式会社 | 表面処理装置及び表面処理方法 |
JPWO2015162714A1 (ja) * | 2014-04-23 | 2017-04-13 | 日産自動車株式会社 | 表面処理装置及び表面処理方法 |
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US11442360B2 (en) | 2018-11-05 | 2022-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Planarized layer forming apparatus, and method of manufacturing article |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5002422B2 (ja) | 2012-08-15 |
US20090123590A1 (en) | 2009-05-14 |
US8016585B2 (en) | 2011-09-13 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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