JP6343814B2 - モールド、インプリント装置及びインプリント方法 - Google Patents

Description

本開示に係る技術分野は、モールド、インプリント装置及びインプリント方法に関する。

近年、ディスプレイ、照明などの商品に用いられる光学部品において、ナノメートル（ｎｍ）オーダーからミクロンメートル（μｍ）オーダーの微細なパターンの形成が要望されている。形成された微細なパターンは、光の反射や回折制御などの特殊光学特性を発揮する。微細なパターンを形成する方法として、フォトリソグラフィー技術や電子線描画技術などが知られており、この中でも特に、インプリント技術が注目されている。

インプリント技術とは、表面に微細形状の付与されたモールドを、光学部品である基材の表面に塗布された樹脂に押し付けることで、微細パターンを形成する方法である。

インプリント方法には、大別して熱インプリント法と、ＵＶインプリント法とが知られている。熱インプリント法は、ガラス転移温度以上に加熱されたモールドを、基板表面に塗布された熱可塑性樹脂に押し当てることにより、熱可塑性樹脂にモールドの微細パターンを転写する方法である。一方、ＵＶインプリント法は、微細パターンの付与されたモールドが押し当てられた状態のＵＶ（紫外線）硬化樹脂にＵＶ光を照射することにより、ＵＶ硬化樹脂に微細パターンを転写する方法である。熱インプリント法は転写材料の選択性が広いという特徴がある。しかし、その反面、微細パターンを転写する際にモールドを昇温および降温する必要があるため、スループットが低いという問題がある。これに対して、ＵＶインプリント法は紫外線で硬化する転写材料に限定されるため、熱インプリント法と比較すると選択性が狭いものの、数秒〜数十秒で硬化を完了させることが可能である。すなわち、ＵＶインプリント法は、スループットが非常に高いことを特徴とする。熱インプリント法およびＵＶインプリント法のいずれを採用するかは、生産するデバイスにより異なるが、材料起因の問題がない場合には、ＵＶインプリント法が量産工法として適していると考えられている。

ここで、従来のＵＶインプリント法について説明する。特許文献１に示されるようにＵＶインプリント法は、予め基板の表面に塗布されたＵＶ硬化樹脂に対して微細パターンの形成されたシート状モールドを押圧ロールで加圧することにより実行される。ＵＶ硬化樹脂の硬化は、押圧ロールと基板の接触箇所付近にＵＶ光を照射することで実施される。

特開２０１４−５４７３５号公報

本開示のモールドは、凹凸パターン層と、無機シート層と、弾性シート層とを有する。無機シート層は、無機材料で構成され、凹凸パターン層を支持する。弾性シート層は、無機シート層を支持する。

図１は、本実施の形態に係るインプリント装置の断面模式図である。 図２は、本実施の形態に係るモールドの説明図である。 図３は、本実施の形態に係るインプリント装置に保持されるモールドの平面視と要部断面を示す図である。 図４は、本実施の形態に係るインプリント装置のインプリント動作を示す工程断面図である。

従来のモールドの基材は、周囲の温度変化により、容易に伸縮してしまう。また、姿勢制御のためにモールドを保持して所定の張力を加える際に、モールドが伸張しすぎてしまう。その結果、従来例では、転写精度の向上が困難であった。

本開示の実施の形態に係るモールドおよびインプリント装置の構成並びにインプリント方法について説明する。

＜インプリント装置＞
本実施の形態に係るインプリント装置２の模式的断面図を図１に示す。インプリント装置２は、シート状のモールド１と、固定保持部２５と、可動保持部２６とを備える。また、インプリント装置２は、押圧ロール２１と、ステージ２２と、ＵＶ照射器２３と、制御部２４とを有していてもよい。インプリント装置２は、ロール加圧式のＵＶインプリント法を実施するための装置である。また、固定保持部２５と、可動保持部２６とを総称して保持部とする。

押圧ロール２１は、円筒状であって、その中心に軸を有しており、軸周りに回転自在である。また、押圧ロール２１は、軸の方向（軸方向Ｚ）と平行な平面を移動可能である。押圧ロール２１は、ステージ２２に向かう方向（押圧方向Ｙ）と、軸方向Ｚ及び押圧方向Ｙに垂直な方向（送り方向Ｘ）とに移動可能である。

ステージ２２は、被転写体としてのＵＶ硬化樹脂２７の塗布された基板２８を載置するための載置領域を有している。載置領域は、モールド１の凹凸パターン面側と向かい合う。また、載置領域には、図示しない基板吸着孔が形成されている。

ＵＶ照射器２３は、ステージ２２の方向にコリメートされたＵＶ光を照射可能である。ＵＶ照射器２３は、照射されたＵＶ光が押圧ロール２１に遮られない位置に設けられる。例えば、ＵＶ照射器２３は、押圧ロール２１の押圧方向ＹにＵＶ光を照射する。この場合、押圧方向Ｙから見て、ＵＶ照射器２３は押圧ロール２１と重ならない位置に設けられる。ＵＶ照射器２３は、例えばＬＥＤ（発光ダイオード）又は水銀灯であるが、これらに限定されない。

モールド１は、シート状であって、押圧ロール２１と、ステージ２２との間に設けられる。詳細は後述するが、モールド１の端部にはパターンの形成されない領域が設けられており、その一端が固定保持部２５に保持され、他端が可動保持部２６によって保持される。押圧ロール２１と可動保持部２６とを移動させることにより、モールド１にかかる張力、及びステージ２２に対するモールド１の角度を任意に調整できる。

制御部２４には、プロセッサとメモリが備わっている。メモリには、押圧ロール２１及び可動保持部２６等のインプリント装置２の各構成の個別または全体の動作を制御するよう、１又は複数のプロセッサを動作させるプログラムが記憶される。制御部２４は、ＵＶ照射器２３とも接続され、ＵＶ照射器２３の点消灯や光量を制御するようなプログラムも記憶している。

＜モールド＞
本実施の形態に係るモールド１の構成について説明する。図２は、モールド１の説明図である。図２の（ａ）は、モールド１を凹凸パターン層１１側から見た上面図である。図２の（ｂ）は、モールド１の凹凸パターン層１１の一部領域の拡大平面図である。図２の（ｃ）は、図２の（ｂ）の線Ａ−Ａ’における拡大断面図を示す。モールド１は、樹脂で構成される凹凸パターン層１１と、凹凸パターン層１１を支持し、かつ、無機材料で構成される無機シート層１２と、無機シート層１２を支持し、かつ、樹脂で構成される弾性シート層１３とを備える。モールド１は、特に、無機シート層１２を備えた積層構造を有することで、弾性シート層１３が伸縮する場合においても、凹凸パターン層１１への影響を抑えることができる。詳細には、弾性シート層１３が伸縮しても、無機シート層１２はほとんど伸縮しないため、無機シート層１２に支持される凹凸パターン層１１もほとんど伸縮しない。これにより、凹凸パターンを高い精度で保持可能である。それゆえ、モールド１により、高精度な転写が可能となる。すなわち、ナノオーダー又はマイクロオーダーでの転写精度が求められるような、例えば半導体の製造分野等にモールド１を適用できる。

次に、モールド１を構成する各層を説明する。

（凹凸パターン層）
凹凸パターン層１１は樹脂で構成される。ナノオーダー又はマイクロオーダーの微細構造が凹凸パターン層１１の表面に形成される。凹凸パターン層１１を構成する樹脂は、ＵＶ光に対する透過性があり、加圧転写時にパターンの崩れがない程度の強度があれば、特に限定されるものではない。なお、透過性があるとは、具体的には波長１０ｎｍ〜４００ｎｍの光の透過率が６０％以上である状態を示し、以下の説明においても同様である。

凹凸パターン層１１を構成する樹脂として熱可塑性樹脂、具体的には、ポリエチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリプロピレン樹脂、ナイロン樹脂などが挙げられる。また、凹凸パターン層１１を構成する樹脂としてＵＶ硬化性樹脂、具体的には、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、アクリルアクリレート樹脂などが挙げられる。

なお凹凸パターン層１１の表面に離型膜を設けてもよい。離型膜の材料としてはフッ素系離型剤、シリコン系離型剤などが挙げられる。離型膜の材料は、凹凸パターン層１１を構成する樹脂との密着性や、離型膜の厚みなどにより、適宜選択すると良い。

凹凸パターン層１１は、無機シート層１２に樹脂を塗布し、その樹脂にマスターモールドを押し当ててマスターモールドに形成された凹凸パターンを転写し、樹脂を硬化させた後にマスターモールドを樹脂から離型することによって形成される。

（無機シート層）
無機シート層１２は、凹凸パターン層１１を支持する無機材料で構成される。無機シート層１２は、凹凸パターン層１１と弾性シート層１３との間に配され、弾性シート層１３の伸縮の影響が凹凸パターン層１１に及ぶのを防止する機能を発揮する。無機シート層１２は無機材料で構成され、好ましくは、ＵＶ光に対する透過性があり、ヤング率が高く可撓性を有し、表面に平滑性がある材料で構成される。

なお、高いヤング率を有する材料である無機材料で無機シート層１２を構成するのが好ましい。さらに、ＵＶ透過性および可撓性を考慮すると、無機シート層１２をガラスで構成するのがより望ましい。ガラスとしてはアルミノ珪酸ガラス、硼珪酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどが挙げられる。特に、加工性、材料コスト等に鑑みると、無アルカリガラスを用いるのが好ましい。

また、無機シート層１２における外周の端面は平滑であることが望ましい。これはインプリント転写時にモールド１を変形させながら加圧ロールで逐次パターンを転写するため、端面が平滑でないと、そこの箇所が起点となって割れやすいためである。端面を平滑に切断する方法としてはスクライバー等を適用することができる。特に、レーザースクライブ方法で端面を切断するのが好ましい。

また、凹凸パターン層１１との密着性を向上させるために、無機シート層１２の凹凸パターン層１１の形成面（無機シート層１２と凹凸パターン層１１との界面）に、プライマー処理を行い、密着性を付与してもよい。

（弾性シート層）
弾性シート層１３は、樹脂で構成され、無機シート層１２を支持する。弾性シート層１３は、モールド１の基材として無機シート層１２を保持し、無機シート層１２を介して凹凸パターン層１１を保持する。弾性シート層１３は、インプリント法の実施時に、積極的に変形させるため、可撓性を有するとともに表面に平滑性がある樹脂で構成される。また、ＵＶインプリント法を実施するため、弾性シート層１３は、ＵＶ光に対して透過性を有するのが望ましい。

弾性シート層１３を構成する樹脂として、ＰＥＴ樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリプロピレン樹脂、ナイロン樹脂などが挙げられる。この中でも特に、ＵＶ光の透過性および平滑性、可撓性に優れたＰＥＴ樹脂が、弾性シート層１３として好適である。

また、弾性シート層１３は、凹凸パターン層１１と無機シート層１２のいずれよりも外形寸法が大きくなるように構成されている。弾性シート層１３の外周の一部あるいは全周には、モールド１をインプリント装置２に保持させるための保持領域１４が設けられている。この際、弾性シート層１３は、平面視（上面視）において、無機シート層１２に覆われない領域である保持領域１４を有する。すなわち、上面視において、弾性シート層１３は、無機シート層１２よりも大きい。保持領域１４をインプリント装置２の保持部（固定保持部２５、可動保持部２６）で保持することで、インプリント時に、弾性シート層１３のみに応力を集中させることができ、凹凸パターン層１１への影響を抑制可能となる。仮に、保持領域１４を設けずに無機シート層１２又は凹凸パターン層１１をインプリント装置２で直接保持してしまうと、無機シート層１２に応力が集中し、無機シート層１２が割れ、これに伴い凹凸パターン層１１が破壊されてしまう恐れがある。保持領域１４において、弾性シート層１３は、無機シート層１２に覆われずに露出するため、当該露出領域で応力集中を緩和することができる。

図３に、弾性シート層１３の保持領域１４をインプリント装置２で保持した際の模式図を示す。図３の（ａ）は、モールド１の平面模式図である。図３の（ｂ）は、図３の（ａ）の線Ｂ−Ｂ’における要部断面図であり、厚み方向の断面の一部拡大図である。インプリント装置２の保持部（固定保持部２５、可動保持部２６）に保持される領域は、保持領域１４の全面積より狭いため、インプリント装置２への装着時においても保持領域１４の一部は露出する。すなわち、モールド１は、インプリント装置２に保持された状態であっても、弾性シート層１３の一部が露出する。図３において、保持領域１４のうち保持部に保持された領域を破線で示し、保持部に保持されず露出する領域を露出領域１４ａとして図示している。露出領域１４ａにより、インプリント時の応力を解放し、凹凸パターン層１１への影響を抑制することで、凹凸パターン層１１のパターン精度が高く保たれる。

保持領域１４及び露出領域１４ａの大きさは、保持部によって保持するための領域が必要となるため、弾性シート層１３の外形寸法は凹凸パターン層１１の外形寸法に対して１ｍｍ以上大きくかつ３００ｍｍ以上大きくならないように設定することが望ましい。

なお、モールド１の左右方向の両端部を固定保持部２５および可動保持部２６により保持する構成としたが、上下方向を保持してもよく、また上下左右方向を保持してもよい。例えばモールド１の上下左右方向の保持領域１４を保持部により保持し、張力を加えて保持してもよい。このような構成にすることによりモールド１の反りをより低減することが期待できる。なお、ここで左右方向とは、例えば、弾性シート層１３の長軸方向であり、上下方向とは、弾性シート層１３の短軸方向である。

（接着層）
弾性シート層１３と無機シート層１２は、接着層１５によって固定されてもよい。すなわち接着層１５が、弾性シート層１３と無機シート層１２との間に配されても良い。接着層１５はＵＶ透過性を有する材料で構成され、インプリント後の凹凸パターン層１１を被転写体から離型する際に剥がれない程度の接着強度を有すればよく、公知の接着剤または粘着剤、粘着シートなどで構成される。

＜モールドの各層の厚さ＞
モールド１の各層の厚さを以下に説明するように適切に設定することで、より高精度な転写を実現できる。

凹凸パターン層１１の厚さは無機シート層１２の厚さよりも薄いことが望ましい。凹凸パターン層１１の厚さが、無機シート層１２の厚さ以上になると、凹凸パターン層１１の硬化収縮による影響で、凹凸パターン層１１の厚み方向に反りが発生する恐れがある。また、厚み増加に伴い、凹凸パターン層１１の平面方向に対する収縮量も増大する恐れがある。そのため、マイクロオーダーでの転写精度を確保することが困難となる。凹凸パターン層１１の厚さの具体的寸法としては、０．０１μｍ以上３０μｍ以下が望ましく、０．０１μｍ以上１０μｍ以下がより望ましい。

無機シート層１２の厚さは弾性シート層１３の厚さよりも薄いことが望ましい。無機シート層１２の厚みを薄く形成することにより、可撓性が向上するため、弾性シート層１３に対して多少曲げ応力が加わったとしても無機シート層１２に割れが発生し難くなる。無機シート層１２の具体的な厚みは、３０μｍ以上５００μｍ以下がよく、より好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下である。なお無機シート層１２の厚さが３０μｍ未満になると可撓性は向上するもののハンドリング性が非常に悪くなる。

弾性シート層１３は、モールド１を構成する層のなかで最も厚いのが望ましい。具体的には、弾性シート層１３の厚さは、５０μｍ以上１０００μｍ以下であり、より好ましくは１００μｍ以上５００μｍ以下である。弾性シート層１３の厚さが１０００μｍを超えると、可撓性が低下するとともにＵＶの透過性が著しく低下するため、被転写体の硬化反応が促進しない恐れがある。

接着層１５の厚さは、無機シート層１２よりも薄く、凹凸パターン層１１よりも厚いことが望ましい。具体的には接着層１５の厚さは１μｍ以上１００μｍ以下であることが望ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに望ましい。接着層１５の厚さを１０μｍ以上確保することで、接着強度を確保できるとともに、５０μｍ以下に設定することによりＵＶ透過性の低下を抑制することができる。

以上から、モールド１を構成する各層の厚みの関係をまとめると次の通りである。弾性シート層１３の厚さが無機シート層１２の厚さよりも厚く、無機シート層１２の厚さが凹凸パターン層１１の厚さよりも厚い。また、無機シート層１２の厚さが接着層１５の厚さよりも厚く、接着層１５の厚さが凹凸パターン層１１の厚さよりも厚い。これらの関係を満たしつつ上記の具体寸法の範囲内で各層の厚みが設定される。これにより、モールド１として高い可撓性を有しつつ、高精度なパターン転写を実現できる。なお、各層の厚さは面内で略均一であり、上記の各層の厚さは最大厚みを示す。凹凸パターン層１１の厚さとは、凹凸パターン層１１と無機シート層１２との界面から凹凸パターンの凸部の先端までの距離のこと示す。

＜モールドの各層のヤング率＞
モールド１の各層のヤング率を以下に説明する条件を満たすように設定することで、より高精度な転写が実現できる。すなわち、無機シート層１２のヤング率が弾性シート層１３のヤング率よりも高く、弾性シート層１３のヤング率が接着層１５のヤング率よりも高い。

具体的には、モールド１全体として適切な可撓性を持たせるため、弾性シート層１３のヤング率は１ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下であることが望ましい。

また、無機シート層１２のヤング率は１０ＧＰａ以上６００ＧＰａ以下、より望ましくは５０ＧＰａ以上５００ＧＰａ以下が望ましい。このようなヤング率に設定することにより、弾性シート層１３に対して所定の張力が加えられた場合に無機シート層１２で凹凸パターン層１１の伸びを抑制できる。さらに、このようなヤング率を持つ無機シート層１２により、凹凸パターン層１１の平面方向の伸びを抑制することができるため、精度良くパターンを転写することが可能となる。

また、接着層１５のヤング率は、０Ｐａより大きく１ＧＰａ以下が望ましく、０．１ＧＰａ以下がより望ましい。弾性シート層１３よりも接着層１５のヤング率を小さく設定することにより、反りを軽減することができる。さらに、弾性シート層１３に加えられた応力が接着層１５によって吸収されるため、無機シート層１２に加わる応力を緩和できる。

＜インプリント方法＞
次に、モールド１およびインプリント装置２を用いたインプリント方法について図４を用いて説明する。図４の（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態に係るインプリント装置２のインプリント動作を示す工程断面図である。本インプリント方法は、樹脂の塗布された基板を準備し、上記したモールド１を用いて上記樹脂にパターンを転写することを特徴とする。本方法について以下に詳述する。

まず図４の（ａ）に示すように未硬化のＵＶ硬化樹脂２７の塗布された基板２８をステージ２２上に準備する。次に、ＵＶ硬化樹脂２７とモールド１の凹凸パターン形成面とが向かい合うように、モールド１と基板２８との相対位置を調整する。そして、基板２８の一端側とモールド１の一端側とを接触させ、この接触点に押圧ロール２１を押し当てる。この位置調整は、固定保持部２５を下降（接近方向への移動）しつつ可動保持部２６を上昇（離間方向への移動）させることで実行される。このとき、モールド１の他端側は基板２８と離間させておくため、モールド１は滑らかな曲面状に変形する。また、基板２８は所定の位置にアライメントされ、基板吸着孔によってステージ２２の載置領域上に吸着保持される。次にモールド１の両端を保持する保持部により所定の張力及び角度に制御しつつ、押圧ロール２１をモールド１の厚み方向である押圧方向Ｙに移動させる。押圧ロール２１が押圧方向Ｙに移動することにより、基板２８に対して垂直に圧力が加えられる。このとき、圧力の大きさは、ロードセル（図示しない）によって計測されており、計測された圧力が所定の圧力に到達すると、次の工程に進む。

次の工程では、図４の（ｂ）に示すように、基板２８に所定の圧力が加えられると、押圧ロール２１を送り方向Ｘ（モールド１の面方向）に移動させる。これにより、可撓性を有するモールド１は、押圧ロール２１の移動に沿って変形する。この際、押圧ロール２１が送り方向Ｘに移動することにより、押圧ロール２１は、モールド１との摩擦力の影響を受けてその軸周りに回転する。そして、モールド１の凹凸パターン面は、基板２８上のＵＶ硬化樹脂２７と順次接触していき、凹凸パターンがＵＶ硬化樹脂２７に順次転写される。押圧ロール２１の移動に伴い可動保持部２６を徐々に下降（基板２８に接近）させることで、なめらかな転写を実現する。

次に、図４の（ｃ）に示すように、ＵＶ照射器２３により、ＵＶ硬化樹脂２７にＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化樹脂２７を硬化させる。モールド１はＵＶ透過性を有する材料であるため、モールド１を介して基板２８に向けてＵＶ光を照射することにより、ＵＶ硬化樹脂２７にＵＶ光を当てることが可能である。このようにモールド１を介してＵＶ光を照射する方法は、基板２８がＵＶ透過性を有さない場合に有効である。

最後に、図４の（ｄ）に示すようにモールド１をＵＶ硬化樹脂２７から離型する。具体的には、押圧ロール２１を送り方向Ｘに送った方向と反対の方向に移動させつつ可動保持部２６を上昇（基板２８から離間）させることにより、モールド１に係る張力を利用して、モールド１をＵＶ硬化樹脂２７から剥離することが可能である。

以上の工程により本インプリント方法は、精度良く均一な転写を実現できる。

なお、本インプリント方法は、ＵＶインプリント方法として実施するのが最適であるが、モールド１及びインプリント装置２を用いて熱インプリント法を実施してもよい。

なお、上記様々な構成のうちの任意の構成を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。

本開示に係る態様によれば、モールドに係る張力変化や、周囲の温度変化があってもパターンの寸法変化を小さくできるため、高精度な転写が可能となる。

本開示は、ナノオーダー又はマイクロオーダーで転写位置精度が求められるようなインプリント分野に有用である。

１ モールド
２ インプリント装置
１１ 凹凸パターン層
１２ 無機シート層
１３ 弾性シート層
１４ 保持領域
１５ 接着層
２１ 押圧ロール
２２ ステージ
２３ ＵＶ照射器
２４ 制御部
２５ 固定保持部
２６ 可動保持部
２７ ＵＶ硬化樹脂
２８ 基板

Claims (11)

1. 凹凸パターン層と、
   無機材料で構成され、前記凹凸パターン層を支持する無機シート層と、
   前記無機シート層を支持する弾性シート層と、を備え、
   前記弾性シート層は、上面視において、前記無機シート層よりも大きく、
   前記弾性シート層は、前記無機シート層に覆われない領域を有するモールド。
2. 前記凹凸パターン層は、樹脂で構成され、
   前記弾性シート層は、樹脂で構成され、
   前記無機シート層は、ガラスで構成される、
   請求項１に記載のモールド。
3. 前記弾性シート層の厚さは、前記無機シートの厚さよりも厚く、
   前記無機シートの前記厚さは、前記凹凸パターン層の厚さよりも厚い、
   請求項１に記載のモールド。
4. 凹凸パターン層と、
   無機材料で構成され、前記凹凸パターン層を支持する無機シート層と、
   前記無機シート層を支持する弾性シート層と、を備え、
   前記弾性シート層の厚さは、前記無機シート層の厚さよりも厚く、
   前記無機シート層の前記厚さは、前記凹凸パターン層の厚さよりも厚く、
   前記弾性シート層の厚さは、５０μｍ以上１０００μｍ以下であり、
   前記無機シート層の厚さは、３０μｍ以上１００μｍ以下であり、
   前記凹凸パターン層の厚さは、０．０１μｍ以上３０μｍ以下である、
   モールド。
5. 前記無機シート層と、前記弾性シート層との間に、接着層が配される請求項３に記載のモールド。
6. 凹凸パターン層と、
   無機材料で構成され、前記凹凸パターン層を支持する無機シート層と、
   前記無機シート層を支持する弾性シート層と、を備え、
   前記無機シート層と、前記弾性シート層との間に、接着層が配され、
   前記無機シート層の前記厚さは、前記接着層の厚さよりも厚く、
   前記接着層の前記厚さは、前記凹凸パターン層の前記厚さよりも厚い、
   モールド。
7. 凹凸パターン層と、
   無機材料で構成され、前記凹凸パターン層を支持する無機シート層と、
   前記無機シート層を支持する弾性シート層と、を備え、
   前記無機シート層と、前記弾性シート層との間に、接着層が配され、
   前記無機シート層のヤング率は、前記弾性シート層のヤング率よりも高く、
   前記弾性シート層の前記ヤング率は、前記接着層のヤング率よりも高い、
   モールド。
8. 前記無機シート層の前記ヤング率は１０ＧＰａ以上６００ＧＰａ以下であり、
   前記弾性シート層の前記ヤング率は１ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下であり、
   前記接着層の前記ヤング率は０Ｐａより大きく１ＧＰａ以下である、
   請求項７に記載のモールド。
9. 前記凹凸パターン層、前記無機シート層、および前記弾性シート層は、ＵＶ光を透過させる、
   請求項１〜８のいずれかに記載のモールド。
10. 請求項１に記載のモールドと、
    前記弾性シート層の前記無機シート層に覆われない前記領域を保持する保持部と、を備える
    インプリント装置。
11. 樹脂の塗布された基板を準備し、
    請求項１〜９いずれかのモールドを用いて前記樹脂にパターンを転写するインプリント方法。

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