JP2016082204A - インプリント用モールド、インプリント方法及びワイヤーグリッド偏光子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の第1の実施の形態にかかるインプリント用モールド11の平面図であり、図2は、図1のII−II線に沿う断面図である。このインプリント用モールド11は、ローラーインプリントに使用される。まず、図1及び図2を参照して、第1の実施の形態にかかるインプリント用モールド11について説明する。
図1及び図2に示すように、本実施の形態にかかるインプリント用モールド11は、パターン領域11Pと、非パターン領域11Nと、を有している。図1において、二点鎖線で示される矩形Sは、パターン領域11Pと非パターン領域11Nとの境界を示しており、図示の例では、矩形Sの内側の領域がパターン領域11Pであり、矩形Sの外側の領域が非パターン領域11Nである。
次に、上述したインプリント用モールド11を使用した第1の実施の形態にかかるインプリント方法、すなわちローラーインプリントについて説明する。本実施の形態では、ローラーインプリントにおいて被成形材料として光硬化性樹脂組成物を用いる光ローラーインプリントについて説明する。
この実施の形態では、まず、図1及び図2に示したインプリント用モールド11を準備する。また、図3(A)に示す転写基板101を準備する。この転写基板101では、その一方の面101aに被エッチング層102が設けられ、この被エッチング層102上に、被成形材料103が位置付けられている。
次に、接触工程にて、可撓性のインプリント用モールド11のパターン領域11Pが形成されていない他の面12b(基材本体22の接着層23側とは反対側の面)からローラー151でインプリント用モールド11を加圧することにより、インプリント用モールド11のパターン領域11Pを被成形材料103に接触させる(図3(B)、図4(A))。ここで、本実施の形態では、樹脂層13において非パターン領域11Nを形成する周縁部16も被成形材料103に接触される。
次に、インプリント用モールド11と接触された被成形材料103を硬化させることにより、インプリント用モールド11のパターン領域11P、すなわちパターン部15からなる凹凸パターンに対応するパターンが転写された転写層104とする。図3(B)、図4(A)に示される例では、インプリント用モールド11と接触された直後に、インプリント用モールド11を介して光照射装置161から光を照射し、これにより被成形材料103を硬化させて転写層104としているが、インプリント用モールド11と被成形材料103との接触が完了した後に、被成形材料103を硬化させることにより転写層104としてもよい。また、転写基板101が光透過性である場合、転写基板101の裏面側に光照射装置161を配設し、インプリント用モールド11との接触が完了した被成形材料103に対して、転写基板101を介して光照射装置161から光を照射し、これにより被成形材料103を硬化させてもよい。さらに、インプリント用モールド11を介した光照射装置161からの光照射と、転写基板101を介した光照射装置161からの光照射を併用して、インプリント用モールド11との接触が完了した被成形材料103の硬化を行ってもよい。
次に、転写層104とインプリント用モールド11とを引き離すことにより、転写層104であるパターン構造体を転写基板101上に位置させた状態とする(図3(C)、図4(B))。このように形成された転写層104は、図5に示されるように、インプリント用モールド11のパターン部15の凹凸パターンが反転したパターン部115を有する。パターン部115は、ライン形状に延びる凸パターン115Lを複数配列した形状となっている。なお、図4(B)では、形成された転写層104が有するパターン部115の図示を省略している。
以下では、第1の実施の形態のインプリント用モールド11によるインプリント方法を具体的に採用した方法の一例として、インプリント用モールド11を使用したワイヤーグリッド偏光子の製造方法を説明する。
この製造方法では、まず、図1及び図2に示したインプリント用モールド11を準備する。また、図8(A)に示す透明基板202を準備する。この透明基板202では、その一方の面202aにワイヤーグリッド材料層203が設けられ、このワイヤーグリッド材料層203上に、エッチングレジスト層204が位置付けられている。
次に、接触工程にて、可撓性のインプリント用モールド11のパターン領域11Pが形成されていない他の面12b(基材本体22の接着層23側とは反対側の面)からローラー271でインプリント用モールド11を加圧することにより、インプリント用モールド11のパターン領域11Pをエッチングレジスト層204に接触させる(図8(B))。
次に、インプリント用モールド11と接触されたエッチングレジスト層204を硬化させることにより、インプリント用モールド11のパターン領域11P、すなわちパターン部15からなる凹凸パターンに対応するパターンが転写されたレジストパターン層205とする。図8(B)に示される例では、インプリント用モールド11と接触された直後に、インプリント用モールド11を介して光照射装置281から光を照射することにより、エッチングレジスト層204を硬化させているが、インプリント用モールド11とエッチングレジスト層204との接触が完了した後に、エッチングレジスト層204を硬化させてもよい。
次に、レジストパターン層205とインプリント用モールド11とを引き離すことにより、レジストパターン層205をワイヤーグリッド材料層203上に位置させた状態とする(図8(C))。図8(C)は、図8(B)に示す透明基板202の搬送方向(矢印aで示される方向)と直交する方向での縦断面を示している。このレジストパターン層205は、インプリント用モールド11のパターン部15の凹凸パターンが反転したパターン部206を有するものである。パターン部206は、ライン形状に延びる凸パターン206Lを複数配列した形状となっている。なお、図8(C)では、レジストパターン層205における残膜(凸部の間に残存するレジスト層)を省略している。
次に、上述のように形成されたレジストパターン層205のパターン部206から、残膜(図示せず)を除去し、その後、レジストパターン層205をマスクとしてワイヤーグリッド材料層203をエッチングすることにより、開口ライン215Lで構成されたワイヤーグリッド215を形成する(図8(D))。
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。図9は、本発明の第2の実施の形態にかかるインプリント用モールド31を説明する図である。図9(A)は、このインプリント用モールド31の平面図を示し、図9(B)は、図9(A)のIX−IX線に沿う断面図である。
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。図10は、本発明の第3の実施の形態にかかるインプリント用モールド51の平面図である。
11P,31P,51P パターン領域
11N,31N,51N 非パターン領域
12,32,52 基材
12a,32a,52a 一の面
12b 他の面
13,33,53 樹脂層
15,35 パターン部
15L,35L 凸パターン
16 囲繞部
21,41,61 基材本体
22,42,62 基材本体
23,43,63 接着層
101 転写基板
101a 一の面
102 被エッチング層
103 被成形材料
104 転写層
115 パターン部
115L 凸パターン
151 ローラー
161 光照射装置
201 ワイヤーグリッド偏光子
202 透明基板
202a 一の面
203 ワイヤーグリッド材料層
204 エッチングレジスト層
205 レジストパターン層
206 パターン部
206L 凸パターン
213 ワイヤーグリッド領域
215 ワイヤーグリッド
215L 開口ライン
271 ローラー
281 光照射装置
Claims (6)
- パターン領域と非パターン領域とを有するインプリント用モールドにおいて、
可撓性を有する基材と、
前記基材の一の面に設けられ、前記パターン領域を形成する樹脂層と、を備え、
前記基材は、少なくとも前記パターン領域に対応する部分が、一対の基材本体と、前記基材本体間に介在され、弾性層として機能する接着層と、を有する
ことを特徴とするインプリント用モールド。 - 前記基材は、前記非パターン領域に対応する部分が、前記一対の基材本体うちの一方の基材本体からなる
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント用モールド。 - 前記接着層は、厚みが50μm以上200μm以下である
ことを特徴とする請求項1または2に記載のインプリント用モールド。 - 前記接着層は、エポキシ系樹脂組成物を含む材料から形成されている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のインプリント用モールド。 - インプリント方法において、
パターン領域と非パターン領域とを有するインプリント用モールドであって、可撓性を有する基材と、前記基材の一の面に設けられ、前記パターン領域を形成する樹脂層と、を備え、前記基材は、少なくとも前記パターン領域に対応する部分が、一対の基材本体と、前記基材本体間に介在され、弾性層として機能する接着層と、を有するインプリント用モールドを準備する準備工程と、
前記インプリント用モールドの前記パターン領域を、前記基材のうちの前記樹脂層が設けられた面とは反対側の面からローラーで加圧することにより、転写基板の一方の面に位置する被成形材料に接触させる接触工程と、
前記インプリント用モールドに接触させた前記被成形材料を硬化させることにより前記パターン領域に対応するパターンが転写された転写層とする硬化工程と、
前記転写層と前記インプリント用モールドとを引き離すことにより、前記転写層であるパターン構造体を前記転写基板上に位置させた状態とする離型工程と、を備える
ことを特徴とするインプリント方法。 - ワイヤーグリッド偏光子の製造方法において、
パターン領域と非パターン領域とを有するインプリント用モールドであって、可撓性を有する基材と、前記基材の一の面に設けられ、前記パターン領域を形成する樹脂層と、を備え、前記基材は、少なくとも前記パターン領域に対応する部分が、一対の基材本体と、前記基材本体間に介在され、弾性層として機能する接着層と、を有するインプリント用モールドを準備する準備工程と、
前記インプリント用モールドの前記パターン領域を、前記基材のうちの前記樹脂層が設けられた面とは反対側の面からローラーで加圧することにより、一の面にワイヤーグリッド材料層を備える透明基板の前記ワイヤーグリッド材料層上に位置するエッチングレジスト層に接触させる接触工程と、
前記インプリント用モールドに接触させた前記エッチングレジスト層を硬化させることにより前記パターン領域に対応するパターンが転写されたレジストパターン層とする硬化工程と、
前記レジストパターン層と前記インプリント用モールドとを引き離す離型工程と、
前記レジストパターン層をエッチングマスクとして前記ワイヤーグリッド材料層をエッチングすることにより、ワイヤーグリッドを形成するエッチング工程と、を備える
ことを特徴とするワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
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