JP2012216799A - 機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステム - Google Patents
機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012216799A JP2012216799A JP2012065608A JP2012065608A JP2012216799A JP 2012216799 A JP2012216799 A JP 2012216799A JP 2012065608 A JP2012065608 A JP 2012065608A JP 2012065608 A JP2012065608 A JP 2012065608A JP 2012216799 A JP2012216799 A JP 2012216799A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- functional liquid
- liquid
- substrate
- viscosity
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/04501—Control methods or devices therefor, e.g. driver circuits, control circuits
- B41J2/04571—Control methods or devices therefor, e.g. driver circuits, control circuits detecting viscosity
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/04501—Control methods or devices therefor, e.g. driver circuits, control circuits
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/04501—Control methods or devices therefor, e.g. driver circuits, control circuits
- B41J2/04581—Control methods or devices therefor, e.g. driver circuits, control circuits controlling heads based on piezoelectric elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/04501—Control methods or devices therefor, e.g. driver circuits, control circuits
- B41J2/04591—Width of the driving signal being adjusted
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
Abstract
【解決手段】5mPa・s以上20mPa・s以下の粘度の光硬化性樹脂液体を基板(20)上に吐出させるノズル(23)を具備し、圧力室(32)内部の液体を加圧する圧電素子(38)が設けられたヘッド(24)と、基板を搬送させる搬送部(22)と、を備え、圧力室を静定状態から膨張させる引き波形(102)及び膨張させた圧力室を収縮させる押し波形(106)を有し、光硬化性樹脂液体の粘度ηとヘッドの共振周期Tcとの関係が、(2/Tc)≦γ1≦(η/10)、γ2≦γ1を満たす引き波形の傾きγ1、押し波形の傾きγ2を有する駆動電圧を生成し、該駆動電圧を用いてヘッドから基板上に光硬化性樹脂液体を吐出させる。
【選択図】図10
Description
まず、図1(a)〜(f)を用いて、本発明の実施形態に係るナノインプリント方法について、工程順を追って説明する。本例に示すナノインプリント方法は、モールド(例えば、Siモールド)に形成された凹凸パターンを、基板(石英基板等)上に形成された光硬化性樹脂液体(機能性液、例えば、レジスト液)を硬化させた光硬化性樹脂膜に転写し、該光硬化性樹脂膜をマスクパターンとして基板上に微細パターンを形成するものである。
が、ここでいう「離散的に吐出させる液滴」とは、基板20上における隣接する着弾位置に着弾した他の液滴と接触せずに、所定の間隔を空けて着弾した複数の液滴(符号25を付して図示)を意味している。
次に、上述したナノインプリント方法を実現するためのナノインプリントシステム(ナノインプリント装置)について説明する。以下の説明では、先の説明と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略することとする。
図2は、本発明の実施形態に係るナノインプリントシステムの概略構成図である。同図に示すナノインプリントシステム10は、石英ガラスなどの光透過性を有する基板20上に光硬化性樹脂液体(レジスト液)を微小液滴化して塗布する光硬化性樹脂液体塗布部12と、基板20上に塗布された光硬化性樹脂液体に所望のパターンを転写するパターン転写部14と、基板20を搬送する搬送部22と、を備えて構成される。
図3は、光硬化性樹脂液体塗布部12の概略構成を示す構成図である。同図に示すインクジェットヘッド24は、y方向(基板20の搬送方向)と直交するx方向について、基板20の最大幅LMを超える長さLNにわたって複数のノズル(図3中不図示、図4に符号23を付して図示)が並べられた構造を有する長尺のフルライン型ヘッドである。
の配置を行うように構成されている。
図7は、インクジェットヘッド24の1チャンネル分の液滴吐出素子の立体的構成を示す断面図である。同図に示すように、本例のインクジェットヘッド24は、複数のノズル23の開口が形成されたノズルプレート23Aと、圧力室32や共通流路35等の流路が形成された流路板等を積層接合した構造から成る。
図8は、ナノインプリントシステム(ナノインプリント装置)10の制御系の概略構成を示すブロック図である。同図に示す制御系は、通信インターフェース50、システムコントローラ52、メモリ54、モータドライバー56、ヒータドライバー58、吐出制御部60、転写制御部61、バッファメモリ62、ヘッドドライバー64等を備えている。
次に、本例に適用される駆動電圧について詳細に説明する。図10(a)は、インクジェットヘッド24に具備される圧電素子38に印加される駆動電圧の説明図である。
また、押し波形の傾きγ2は、光硬化性樹脂液体の粘度ηとの関係が、次式(2)を満たすように決められている。
なお、上記式(1)及び式(2)における、光硬化性樹脂液体の粘度ηの項の係数「1/10」は、「ナノパスカル秒二乗分の1(1/(nPa・S2))」の単位で表される。
駆動電圧の傾き(スリューレート)γとは、駆動電圧の最大値Vmaxと最小値Vminとの差ΔVを1としたときの単位時間(1マイクロ秒)あたりの電圧変化率である。駆動電圧100の最大値Vmaxと最小値Vminとの差ΔVは、ノズルから吐出される液滴が所定の吐出速度を得る条件により最適化されている。
また、押し波形106の時間t2を用いて、押し波形106の傾きγ2は次式(5)により表される。
例えば、最小電圧から最大電圧まで1マイクロ秒で変化したときの傾きγは「1」であり、最小電圧から最大電圧まで2マイクロ秒で変化したときの傾きγは「0.5」である。
実験装置は、ダイマティックス・マテリアルプリンター、DMP‐2831(富士フイルムダイマティック社製)を使用し、インクジェットヘッドから液滴を連続吐出させ、装置に内蔵されている観察用カメラを用いて液滴の飛翔状態を撮影した。
なお、上記式(3’)を変形すると、上記式(3)となる。
また、γ2についても、γ1と同様に次式(7)を満たすことが好ましい。
引き波形102の傾きγ1及び押し波形106の傾きγ2を包括して駆動電圧の傾きγと表すと、上記式(1)、(2)、(6)、(7)は、次式(8)のように表すこともできる。
図10に示す引き波形102及び押し波形106を含み、圧力室32(図7参照)を静定状態から膨張させた後に収縮させて、圧力室32に収容される高粘度の光硬化性樹脂液体の液滴を吐出させる際に、インクジェットヘッド24の共振周波数Tc及び圧力室32に収容される光硬化性樹脂液体の粘度ηとの関係が上記式(8)を満たす傾きγを有する駆動電圧を用いることで、光硬化性樹脂液体の溶媒の揮発や環境温度の変化に起因する光硬化性樹脂液体の粘度変化が生じたとしても、安定した高速の連続吐出が可能である。
次に、インクジェットヘッド24に具備されるノズル23の形状と吐出安定性との関係について詳細に説明する。
L=(ρ×d)/S …(10)
図18は、テーパ角度αをパラメータとしたときの、光硬化性樹脂液体の粘度ηに対する音響インピーダンス(R/ωL)の関係を示す。ωは共振角周波数であり、実験的に求められた共振周期Tcから算出され、具体的にはω=2×π/Tc=785×103ラジアン毎秒である。
次に、本例に示すナノインプリントシステムに適用される光硬化性樹脂液体の一例として、レジスト組成物(以下、単に「レジスト」と記載することがある。)について詳細に説明する。
レジスト組成物の主成分となる重合性化合物としては、以下の〔数1〕で示される化合物中のフッ素含有率が5%以下であるか、またはフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を実質的に含まない重合性化合物であることとする。
量平均した値と次式〔数2〕より求める。
リングパラメータ=(環構造を形成する炭素質量)/(化合物の全質量)
重合性化合物としては、以下に示す重合性単量体、及びかかる重合性単量体が数単位重合したオリゴマー等が挙げられる。パターン形成性とエッチング耐性の観点から、重合性単量体(Ax)、及び特開2009−218550号公報明細書の段落〔0032〕〜〔0053〕に記載の化合物のうちの少なくとも1種類以上を含むことが好ましい。
重合性単量体(Ax)は、以下の〔化1〕に示す一般式(I)で表される。
他の重合性単量体としては、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を1〜6個有する重合性不飽和単量体;オキシラン環を有する化合物(エポキシ化合物);ビニルエーテル化合物;スチレン誘導体;フッ素原子を有する化合物;プロペニルエーテルまたはブテニルエーテル等を挙げることができ、硬化性の観点から、エチレン性不飽和結合含有基を1〜6個有する重合性不飽和単量体が好ましい。
タ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、EO変性コハク酸(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、EO変性トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリドデシル(メタ)アクリレート、p−イソプロペニルフェノール、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、が例示される。
本例に示すインプリントシステムでは、含フッ素界面活性剤は、レジストパターンの一部となるため、良好なパターン形成性、硬化後のモールド離型性及びエッチング耐性の良好なレジスト特性を有するものであることが好ましい。
重合開始剤Iとしては、レジスト組成物を硬化させる際に用いる光L1により活性化してレジスト組成物に含まれる重合性化合物の重合を開始する活性種を発生するものであれば特に制限されない。重合開始剤Iとしては、ラジカル重合開始剤が好ましい。また、本発明において、重合開始剤Iは複数種を併用してもよい。
既に述べたように、本例に示すインプリントシステムに適用されるレジスト組成物は、上述の重合性化合物、含フッ素界面活性剤、及び光重合開始剤Iの他に種々の目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止剤、溶剤、ポリマー成分等その他の成分を含んでいてもよい。以下にその他の成分について概要を説明する。
レジスト組成物では、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤の含有量は、重合性単量体に対し、例えば、0.01質量パーセント以上10質量パーセント以下であり、好ましくは0.2質量パーセント以上5質量パーセント以下である。2種類以上の酸化防止剤を用いる場合は、その合計量が上記範囲となる。
レジスト組成物は、重合禁止剤を少量含有することが好ましい。重合禁止剤の含有量としては、全重合性単量体に対し、0.001質量パーセント以上1質量パーセント以下であり、より好ましくは0.005質量パーセント以上0.5質量パーセント以下、さらに好ましくは0.008質量パーセント以上0.05質量パーセント以下である、重合禁止剤を適切な量配合することで高い硬化感度を維持しつつ経時による粘度変化が抑制できる。
レジスト組成物は、必要に応じて、種々の溶剤を含むことができる。好ましい溶剤としては常圧における沸点が80〜280℃の溶剤である。溶剤の種類としては組成物を溶解可能な溶剤であればいずれも用いることができるが、好ましくはエステル構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造のいずれか1つ以上を有する溶剤である。具体的に、好ましい溶剤としてはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、ガンマブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチルから選ばれる単独あるいは混合溶剤であり、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有する溶剤が塗布均一性の観点で最も好ましい。
レジスト組成物では、架橋密度をさらに高める目的で、前記多官能の他の重合性単量体よりもさらに分子量の大きい多官能オリゴマーを、本発明の目的を達成する範囲で配合することもできる。光ラジカル重合性を有する多官能オリゴマーとしてはポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート等の各種アクリレートオリゴマーが挙げられる。オリゴマー成分の添加量としては組成物の溶剤を除く成分に対し、0〜30質量パーセントが好ましく、より好ましくは0〜20質量パーセント、さらに好ましくは0〜10質量パーセント、最も好ましくは0〜5質量パーセントである。
上記に詳述した実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書では以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
Claims (16)
- 5ミリパスカル秒以上20ミリパスカル秒以下の粘度を有する機能性液体を基板上に吐出させるノズルを具備し、前記ノズルと連通される圧力室内部の前記機能性液体を加圧するための圧電素子が設けられた液体吐出ヘッドと、
前記基板と前記液体吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、
前記圧力室を静定状態から膨張させる引き波形要素及び前記膨張させた圧力室を収縮させる押し波形要素を有し、前記引き波形要素における最大電圧を1としたときの単位時間あたりの電圧変化を表す傾きγ1と、前記機能性液体の粘度ηと、前記液体吐出ヘッドの共振周期Tcと、の関係が、次式
(2/Tc)≦γ1≦(η/10)
を満たすとともに、前記押し波形要素における最大電圧を1としたときの単位時間あたりの電圧変化を表す傾きγ2と、前記引き波形要素の傾きγ1と、の関係が次式
γ2≦γ1
を満たす駆動電圧を生成する駆動電圧生成手段と、
前記生成された駆動電圧を圧電素子に印加して、前記液体吐出ヘッドから前記基板上に前記機能性液体を吐出させる吐出ヘッド駆動手段と、
を備えたことを特徴とする機能性液体吐出装置。 - 前記押し波形要素の傾きγ2と、前記機能性液体の粘度ηと、前記液体吐出ヘッドの共振周期Tcと、の関係が、次式
(2/Tc)≦γ2≦(η/10)
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の機能性液体吐出装置。 - 前記駆動電圧生成手段は、20キロヘルツ以下の周波数を有する駆動電圧を生成することを特徴とする請求項1又は2に記載の機能性液体吐出装置。
- 前記機能性液体は、前記溶媒が揮発した状態において、前記溶媒が揮発する前の状態に対する粘度の上昇が10ミリパスカル秒以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の機能性液体吐出装置。
- 前記ノズルは、吐出側の開口と液室側の開口とをつなぐ傾斜面の前記吐出側の開口面の垂線に対する傾斜角度が20度以上であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の機能性液体吐出装置。
- 前記ノズルは、シリコン基板の(100)に対する異方性エッチングにより形成され、略正方形形状の吐出側の開口及び略正方形形状の前記圧力室側の開口を有することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の機能性液体吐出装置。
- 前記ノズルは、吐出側の開口の直径D1と、液室側の開口の直径D2との関係が、次式
D1>2×D2
を満たす構造を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の機能性液体吐出装置。 - 5ミリパスカル秒以上20ミリパスカル秒以下の粘度を有する機能性液体を基板上に吐出させるノズルを具備し、前記ノズルと連通される圧力室内部の前記機能性液体を加圧するための圧電素子が設けられた液体吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動させる相対移動工程と、
前記圧力室を静定状態から膨張させる引き波形要素及び前記膨張させた圧力室を収縮させる押し波形要素を有し、前記引き波形要素における最大電圧を1としたときの単位時間
あたりの電圧変化を表す傾きγ1と、前記機能性液体の粘度ηと、前記液体吐出ヘッドの共振周期Tcと、の関係が、次式
(2/Tc)≦γ1≦(η/10)
を満たすとともに、前記押し波形要素における最大電圧を1としたときの単位時間あたりの電圧変化を表す傾きγ2と、前記引き波形要素の傾きγ1と、の関係が次式
γ2≦γ1
を満たす駆動電圧が生成される駆動電圧生成工程と、
前記生成された駆動電圧を前記圧電素子に印加して、前記液体吐出ヘッドから前記基板上に前記機能性液体を吐出させる機能性液体塗布工程と、
を含むことを特徴とする機能性液体吐出方法。 - 前記押し波形要素の傾きγ2と、前記機能性液体の粘度ηと、前記液体吐出ヘッドの共振周期Tcと、の関係が、次式
(2/Tc)≦γ2≦(η/10)
を満たすことを特徴とする請求項8に記載の機能性液体吐出方法。 - 5ミリパスカル秒以上20ミリパスカル秒以下の粘度を有する機能性液体を基板上に吐出させるノズルを具備し、前記ノズルと連通される圧力室内部の前記機能性液体を加圧するための圧電素子が設けられた液体吐出ヘッドと、
前記基板と前記液体吐出ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、
前記圧力室を静定状態から膨張させる引き波形要素及び前記膨張させた圧力室を収縮させる押し波形要素を有し、前記引き波形要素における最大電圧を1としたときの単位時間あたりの電圧変化を表す傾きγ1と、前記機能性液体の粘度ηと、前記液体吐出ヘッドの共振周期Tcと、の関係が、次式
(2/Tc)≦γ1≦(η/10)
を満たすとともに、前記押し波形要素における最大電圧を1としたときの単位時間あたりの電圧変化を表す傾きγ2と、前記引き波形要素の傾きγ1と、の関係が次式
γ2≦γ1
を満たす駆動電圧を生成する駆動電圧生成手段と、
前記生成された駆動電圧を圧電素子に印加して、前記液体吐出ヘッドから前記基板上に前記機能性液体を吐出させる吐出ヘッド駆動手段と、
前記基板の機能性液体が塗布された面に対して、所定の凹凸パターンが形成された型の前記凹凸パターンを転写する転写手段と、
を備えたことを特徴とするインプリントシステム。 - 前記押し波形要素の傾きγ2と、前記機能性液体の粘度ηと、前記液体吐出ヘッドの共振周期Tcと、の関係が、次式
(2/Tc)≦γ2≦(η/10)
を満たすことを特徴とする請求項10に記載のインプリントシステム。 - 前記機能性液体は、エネルギーの付与によって硬化反応を発現させる成分を含むことを特徴とする請求項10又は11に記載のインプリントシステム。
- 前記機能性液体は、光重合性モノマー、光重合開始剤、及び溶媒を含み、
前記転写手段は、前記パターンが転写された機能性液体に対して光を照射させて硬化させることを特徴とする請求項10から12のいずれかに記載のインプリントシステム。 - 前記機能性液体は、フッ素モノマーを含有することを特徴とする請求項10から13のいずれか1項に記載のインプリントシステム。
- 前記転写手段は、前記型の凹凸パターンが形成されている面を前記基板の液体が塗布された面に押し当てる押圧手段と、
前記型と前記基板との間の液体を硬化させる硬化手段と、
前記型と前記基板とを剥離させる剥離手段と、
を備えたことを特徴とする請求項10から14のいずれか1項に記載のインプリントシステム。 - 前記転写手段による転写の後に、前記型を前記基板から剥離させる剥離手段と、
凹凸パターンが転写され硬化させた液体から成る膜をマスクとして、前記型の凹凸パターンに対応するパターンを前記基板に形成するパターン形成手段と、
前記膜を除去する除去手段と、
を備えたことを特徴とする請求項10から14のいずれか1項に記載のインプリントシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012065608A JP2012216799A (ja) | 2011-03-25 | 2012-03-22 | 機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011068531 | 2011-03-25 | ||
JP2011068531 | 2011-03-25 | ||
JP2012065608A JP2012216799A (ja) | 2011-03-25 | 2012-03-22 | 機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012216799A true JP2012216799A (ja) | 2012-11-08 |
JP2012216799A5 JP2012216799A5 (ja) | 2014-05-22 |
Family
ID=46931426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012065608A Abandoned JP2012216799A (ja) | 2011-03-25 | 2012-03-22 | 機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140285550A1 (ja) |
EP (1) | EP2689450A4 (ja) |
JP (1) | JP2012216799A (ja) |
KR (1) | KR20140015406A (ja) |
WO (1) | WO2012133728A1 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014084395A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method and curable composition for imprinting |
KR20140076483A (ko) * | 2012-12-11 | 2014-06-20 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 광경화성 수지 조성물, 솔더 레지스트 및 프린트 배선판 |
JPWO2015076147A1 (ja) * | 2013-11-22 | 2017-03-16 | 綜研化学株式会社 | ステップアンドリピート方式のインプリント技術を用いた構造体の製造方法 |
JP2017212394A (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | Jsr株式会社 | インプリント用感放射線性組成物及びパターン |
JP2019080053A (ja) * | 2017-10-25 | 2019-05-23 | 東芝機械株式会社 | 転写装置 |
US10369596B2 (en) | 2014-11-26 | 2019-08-06 | Gigaphoton Inc. | Vibrator unit and target supply device |
KR20210148055A (ko) * | 2017-05-08 | 2021-12-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 |
US11801629B2 (en) | 2017-10-25 | 2023-10-31 | Shibaura Machine Co., Ltd. | Transfer apparatus |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6346513B2 (ja) | 2014-07-11 | 2018-06-20 | キヤノン株式会社 | 液体吐出装置、インプリント装置および物品製造方法 |
JP6530653B2 (ja) * | 2014-07-25 | 2019-06-12 | キヤノン株式会社 | 液体吐出装置、インプリント装置および物品製造方法 |
US11927883B2 (en) | 2018-03-30 | 2024-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus to reduce variation of physical attribute of droplets using performance characteristic of dispensers |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007529348A (ja) * | 2004-03-15 | 2007-10-25 | フジフィルム ディマティックス,インコーポレイテッド | 高周波液滴放出装置および方法 |
JP2008095037A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂製微細構造物、その製造方法及び重合性樹脂組成物 |
JP2009119695A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Hitachi High-Technologies Corp | ナノプリント用樹脂スタンパ |
JP2009233976A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | インクジェット記録による印刷物の作製方法 |
JP2011037257A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-24 | Seiko Epson Corp | 液体吐出装置、及び、液体吐出方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005193221A (ja) * | 2003-02-25 | 2005-07-21 | Seiko Epson Corp | 駆動波形決定装置、電気光学装置および電子機器 |
JP2004361234A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出評価試験装置 |
US8491076B2 (en) * | 2004-03-15 | 2013-07-23 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Fluid droplet ejection devices and methods |
US7410233B2 (en) * | 2004-12-10 | 2008-08-12 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Liquid droplet ejecting apparatus and a method of driving a liquid droplet ejecting head |
JP2006168296A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、ヘッド駆動方法および電気光学装置の製造方法 |
US7513586B2 (en) * | 2005-03-31 | 2009-04-07 | Fujifilm Corporation | Waveform signal driven liquid ejection apparatus and image forming apparatus |
JP2006297176A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置およびその駆動方法 |
JP5035069B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2012-09-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射駆動装置並びにこれを具備する液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2010253884A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Panasonic Corp | インクジェットによる液体の吐出方法およびインクジェット装置 |
JP5440412B2 (ja) * | 2009-06-29 | 2014-03-12 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェット記録装置及び記録ヘッドの駆動方法 |
JP2011071500A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-04-07 | Fujifilm Corp | パターン転写装置及びパターン形成方法 |
JP5699427B2 (ja) * | 2009-10-05 | 2015-04-08 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置、及び、液体噴射装置の制御方法 |
JP5337776B2 (ja) * | 2010-09-24 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | ナノインプリント方法およびそれを利用した基板の加工方法 |
-
2012
- 2012-03-22 JP JP2012065608A patent/JP2012216799A/ja not_active Abandoned
- 2012-03-23 EP EP12763231.3A patent/EP2689450A4/en not_active Withdrawn
- 2012-03-23 WO PCT/JP2012/058504 patent/WO2012133728A1/en active Application Filing
- 2012-03-23 KR KR1020137025335A patent/KR20140015406A/ko not_active Application Discontinuation
-
2013
- 2013-09-23 US US14/034,339 patent/US20140285550A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007529348A (ja) * | 2004-03-15 | 2007-10-25 | フジフィルム ディマティックス,インコーポレイテッド | 高周波液滴放出装置および方法 |
JP2008095037A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂製微細構造物、その製造方法及び重合性樹脂組成物 |
JP2009119695A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Hitachi High-Technologies Corp | ナノプリント用樹脂スタンパ |
JP2009233976A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | インクジェット記録による印刷物の作製方法 |
JP2011037257A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-24 | Seiko Epson Corp | 液体吐出装置、及び、液体吐出方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150315322A1 (en) * | 2012-11-30 | 2015-11-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method and curable composition for imprinting |
US9957340B2 (en) * | 2012-11-30 | 2018-05-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method and curable composition for imprinting |
WO2014084395A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method and curable composition for imprinting |
KR102152817B1 (ko) | 2012-12-11 | 2020-09-08 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 광경화성 수지 조성물, 솔더 레지스트 및 프린트 배선판 |
KR20140076483A (ko) * | 2012-12-11 | 2014-06-20 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 광경화성 수지 조성물, 솔더 레지스트 및 프린트 배선판 |
JPWO2015076147A1 (ja) * | 2013-11-22 | 2017-03-16 | 綜研化学株式会社 | ステップアンドリピート方式のインプリント技術を用いた構造体の製造方法 |
US10369596B2 (en) | 2014-11-26 | 2019-08-06 | Gigaphoton Inc. | Vibrator unit and target supply device |
JP2017212394A (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | Jsr株式会社 | インプリント用感放射線性組成物及びパターン |
KR20210148055A (ko) * | 2017-05-08 | 2021-12-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 |
KR102432762B1 (ko) * | 2017-05-08 | 2022-08-18 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 |
JP2019080053A (ja) * | 2017-10-25 | 2019-05-23 | 東芝機械株式会社 | 転写装置 |
JP7221642B2 (ja) | 2017-10-25 | 2023-02-14 | 芝浦機械株式会社 | 転写装置 |
US11801629B2 (en) | 2017-10-25 | 2023-10-31 | Shibaura Machine Co., Ltd. | Transfer apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140285550A1 (en) | 2014-09-25 |
EP2689450A1 (en) | 2014-01-29 |
EP2689450A4 (en) | 2014-09-24 |
KR20140015406A (ko) | 2014-02-06 |
WO2012133728A1 (en) | 2012-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5489887B2 (ja) | 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム | |
JP2012216799A (ja) | 機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステム | |
WO2012002301A1 (ja) | 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム | |
JP5335717B2 (ja) | レジスト組成物配置装置及びパターン形成体の製造方法 | |
US9005512B2 (en) | Method for forming patterns and method for producing patterned substrates | |
JP6029506B2 (ja) | インプリント用下層膜形成組成物およびパターン形成方法 | |
JP5899145B2 (ja) | インプリント用下層膜形成組成物およびパターン形成方法 | |
JP5599356B2 (ja) | シミュレーション方法、プログラムおよびそれを記録した記録媒体、並びに、それらを利用した液滴配置パターンの作成方法、ナノインプリント方法、パターン化基板の製造方法およびインクジェット装置。 | |
JP5337776B2 (ja) | ナノインプリント方法およびそれを利用した基板の加工方法 | |
US20120231234A1 (en) | Curable composition for imprints, patterning method and pattern | |
JP2013065813A (ja) | インプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法 | |
JP5710436B2 (ja) | パターン形成方法 | |
WO2014024423A1 (ja) | モールドの製造方法およびそれを利用して製造されたモールド | |
JP6340088B2 (ja) | インプリント用光硬化性組成物、パターン形成方法およびデバイスの製造方法 | |
JP2012216700A (ja) | パターン形成方法およびパターン | |
JP5761860B2 (ja) | インプリントシステム、及びインプリント方法 | |
JP6379220B2 (ja) | インプリント用光硬化性組成物、パターン形成方法およびデバイスの製造方法 | |
JP2012213761A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141014 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141017 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20141209 |