JP5416420B2 - 微細構造転写装置 - Google Patents
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Description
次に、本発明の第1実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。ここで参照する図面において、図1(a)は、第1実施形態に係る微細構造転写装置の構成説明図、図1(b)は、第1実施形態に係る微細構造転写装置を構成するスタンパを下方から見た模式図、図1(c)は、第1実施形態に係る微細構造転写装置を構成する保持機構と被転写体の位置関係を上方から見た模式図、図1(d)は、図1(a)中のId部の部分拡大図である。図2(a)及び(b)は、第1実施形態に係る微細構造転写装置のプレートを構成する透明板の平面図であり、(a)は下部透明板の平面図、(b)は上部透明板の平面図である。図2(c)は、第1実施形態に係る微細構造転写装置を構成する上部ステージの平面図であり、図2(d)は、第1実施形態に係る微細構造転写装置を構成する下部ステージの平面図である。なお、以下の説明における上下の方向は、図1(a)に示す上下の方向を基準とする。
下部透明板6aには、図2(a)に示すように、環状の真空吸着口5が形成されている。上部透明板6bには、図2(b)に示すように、上部透明板6bを貫通する孔によって真空吸着口5が形成されている。これらの上部透明板6b及び下部透明板6aは、図1(a)に示すように、重ね合わせられることで、相互の真空吸着口5は連通することとなる。そして、図示しない真空ポンプ等の排気手段が真空吸着口5に接続されることで、スタンパ2は、プレート6(下部透明板6a)に真空吸着されて保持されることとなる。
この被転写体1は、次に説明する保持機構3によって、その傾斜部1aが全周に亘って係止されることで保持されることとなる。
そして、保持機構3の内周面3cは、図1(c)及び(d)に示すように、被転写体1の傾斜部1aと被転写体1の全周に亘って当接することで被転写体1の外周部の全周を保持している。なお、被転写体1に対する保持機構3の当接部分3a(図1(d)参照)は、特許請求の範囲にいう「保持部」に相当する。
また、本実施形態でのリング状の保持機構3は、図1(d)に示す当接部分3aの外側、つまり当接部分3aの周囲に平面部3bが形成されている。この平面部3bは、図1(a)に示すように、スタンパ2と対向している。
このような保持機構3は、図1(a)に示すように、被転写体1とスタンパ2の距離に対して、保持機構3とスタンパ2の距離が略等しくなるように被転写体1を保持している。
そして、微細構造転写装置A1は、図1(a)に示すように、保持機構3をステージ4上に保持している。
また、保持機構3の外周部は、スタンパ2のパターン形成領域2aよりも外側に位置するようになっている。
この微細構造転写装置A1では、従来の転写装置や転写方法(例えば、特許文献1参照)と異なって、被転写体1の外周部の全周を保持機構3が保持すると共に、被転写体1とスタンパ2との距離に対して、保持機構3とスタンパ2との距離が略等しくなっているので、スタンパ2で被転写体1を加圧する際に、被転写体1やスタンパ2への負荷を抑制できる。そして、この微細構造転写装置A1は、被転写体1からスタンパ2を剥離する際に、被転写体1やスタンパ2を破損することなく剥離できる。
そして、微細構造転写装置A1は、スタンパ2や被転写体1の破損を防止することができるので、同一のスタンパ2で繰り返して転写を行うことが可能となる。
次に、本発明の第2実施形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。ここで参照する図面において、図4(a)は、第2実施形態に係る微細構造転写装置の構成説明図、図4(b)は、図4(a)中のIVb部の部分拡大図、図4(c)は、第2実施形態に係る微細構造転写装置を構成する保持機構と被転写体の位置関係を上方から見た模式図である。なお、この第2実施形態において、前記第1実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
この被転写体1は、次に説明する一対の保持機構3,3によって、その傾斜部1a,1aが全周に亘って係止されることで保持されることとなる。
それぞれの保持機構3は、図4(b)に示すように、その内周面3cが被転写体1の傾斜部1aに当接するように傾斜部1aと同じ角度で傾斜して形成されている。
そして、一対の保持機構3,3は向き合わせに重ね合わせられることで、それらの内周面3c,3cは、図4(a)及び(c)に示すように、被転写体1の表裏の傾斜部1a,1aと、被転写体1の外周部の全周に亘って当接することで被転写体1の全周を保持している。
また、図4(a)に示す保持機構3の平面図3bは、第1の実施形態における保持機構3の平面図3b(図1(a)参照)と同様に、スタンパ2と対向している。
また、本発明では、静電チャックや磁力等の他の手段で保持機構3を固定するものであってもよい。
(実施例1)
実施例1では、図1に示す微細構造転写装置A1を使用した。
プレート6は、直径200mm、厚さ50mmの石英製の2枚の下部透明板6a及び上部透明板6bで構成した。
各ノズルの光硬化性樹脂7の吐出される液滴を約5pLとなるように制御した。滴下ピッチは、半径方向に140μm、周回方向に280μmとなるように設定した。
実施例2では、図6に示す微細構造転写装置A3を使用した他は、実施例1と同様に、被転写体1にスタンパ2の微細な凹凸パターンを転写した。
実施例1と同様の条件で、100回連続して転写を繰り返したが、被転写体1とスタンパ2は、共に破損しなかった。
実施例3では、図4(a)に示す微細構造転写装置A2を使用して被転写体1の表裏両面にスタンパ2,2のそれぞれの微細な凹凸パターンを転写した。
実施例4では、図7に示す弾性部材10を介して保持機構3で保持された被転写体1を使用した。
実施例5では、実施例1の微細構造転写装置A1を使用して大容量記磁気録媒体(ディスクリートトラックメディア)用の微細パターンを転写したものを作製した。
実施例6では、実施例1の微細構造転写装置A1を使用したディスクリートトラックメディアの製造方法について適宜図面を参照しながら説明する。参照する図面において、図9(a)から(d)は、実施例6で行ったディスクリートトラックメディアの製造方法の工程説明図である。
実施例7では、本発明の微細構造転写方法を使用したディスクリートトラックメディアの製造方法について適宜図面を参照しながら説明する。ここで参照する図面において、図10(a)から(e)は、実施例7で行ったディスクリートトラックメディアの製造方法の工程説明図である。
図10(a)に示すように、ガラス製の基板22上に軟磁性下地層25が形成されたものである。
実施例8では、本発明の微細構造転写方法を使用したディスクリートトラックメディア用ディスクの製造方法について適宜図面を参照しながら説明する。ここで参照する図面において、図11(a)から(e)は、実施例8で行ったディスクリートトラックメディア用ディスクの製造方法の工程説明図である。
実施例9では、本発明の微細構造転写方法を使用したディスクリートトラックメディア用ディスクの製造方法について適宜図面を参照しながら説明する。ここで参照する図面において、図12(a)から(e)は、実施例9で行ったディスクリートトラックメディア用ディスクの製造方法の工程説明図である。
比較例1では、保持機構3を有しない以外は実施例1での微細構造転写装置A1と同様の装置を使用して実施例1と同様の方法で転写を行った。しかしながら、転写20回目でスタンパ2の表面が破損した。
比較例2では、被転写体の外周部の全周ではなく、その3割程度を保持機構で保持するようにした以外は実施例1での微細構造転写装置A1と同様の装置を使用して実施例1と同様の方法で転写を行った。しかしながら、転写1回目の剥離時に被転写体1の端部が破損した。
1a 傾斜部
2 スタンパ
2a パターン形成領域
3 保持機構
3a 当接部分(保持部)
3b 平面部
4 ステージ
4a 上部ステージ
4b 下部ステージ
6 プレート
6a 下部透明板
6b 上部透明板
7 光硬化性樹脂
8 昇降機構
9 固定機構
10 弾性部材
21 パターン形成層
22 基板
A1 微細構造転写装置
A2 微細構造転写装置
A3 微細構造転写装置
Claims (5)
- 微細な凹凸パターンが形成されたスタンパを被転写体に接触させ、前記被転写体の表面に前記スタンパの微細な凹凸パターンを転写する微細構造転写装置において、
前記被転写体の外周部の全周を保持する保持機構を備え、
前記スタンパの外周部が前記被転写体の外周部よりも外側にあり、
前記被転写体と前記スタンパとの距離に対して、前記保持機構と前記スタンパとの距離が略等しくなるか、又は前記保持機構よりも前記被転写体の方が前記スタンパ寄りに位置するように、前記保持機構が前記被転写体を保持し、
前記被転写体の方が前記保持機構よりも前記スタンパ寄りに位置する場合の前記被転写体と前記保持機構との段差は、0.1mm以内であり、
前記被転写体の外周部には、外側になるほど前記スタンパから遠ざかるように傾斜部が形成されており、
前記保持機構は、前記傾斜部を係止することで前記被転写体を保持することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項1に記載の微細構造転写装置において、
前記保持機構は、前記被転写体の外周部を保持する保持部と、この保持部の周囲に形成されて前記スタンパと対向する平面部とを備えることを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項1に記載の微細構造転写装置において、
前記保持機構の外周部が前記スタンパのパターン形成領域よりも外側にあることを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項1に記載の微細構造転写装置において、
前記被転写体は、前記被転写体及び前記保持機構よりもヤング率の低い弾性部材を介して前記保持機構に保持されていることを特徴とする微細構造転写装置。 - 微細な凹凸パターンが形成されたスタンパを被転写体の表裏両面にそれぞれ接触させ、前記被転写体の表裏両面に前記スタンパの微細な凹凸パターンを転写する微細構造転写装置において、
前記被転写体の外周部の全周を保持する保持機構を備え、
前記表裏両面のいずれの側においても、前記被転写体と前記スタンパの距離と、前記保持機構と前記スタンパの距離とが略等しくなるか、又は前記保持機構よりも前記被転写体の方が各スタンパ寄りに位置するように、前記保持機構が前記被転写体を保持していることを特徴とする微細構造転写装置。
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