JP2009087527A - 光情報記録用Al合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Al合金反射膜の形成用のAl合金スパッタリングターゲット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1) 光情報記録媒体用Al合金反射膜であって、Alを主成分とし、希土類元素の少なくとも1種を1.0 〜10.0原子%含有し、更にCr,Ta,Ti,Mo,V,W,Zr,Hf,Nb,Niの少なくとも1種を0.5 〜5.0原子%含有することを特徴とする光情報記録用Al合金反射膜、(2) 前記Al合金反射膜においてFe,Coの少なくとも1種を1.0 〜5.0 原子%含有するものや、In,Zn,Ge,Cu,Liの少なくとも1種を1.0 〜10.0原子%含有するもの、(3) 前記Al合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体、(4) 前記Al合金反射膜と同様の組成を有するAl合金よりなるスパッタリングターゲット等。
【選択図】図1
Description
Al-Nd (Ndを含有するAl合金)薄膜、及び、 Al-Y(Yを含有するAl合金)薄膜を作製し、Nd,Yの添加量(含有量)と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率および BCA(Burst Cutting Area)特性の関係を調べた。
Al-4.0Nd-(Ta,Cr,Ti)薄膜(Ndを4.0 at%含有すると共に、Ta,Cr,Tiの1種以上を含有するAl合金よりなる薄膜)を作製し、Ta,Cr,Tiの添加量と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、耐食性および BCA特性の関係を調べた。
Al- 4.0Nd-〔Mo,V,W,Zr,Hf,Nb,Ni(以下、Mo〜Nb,Niともいう)〕薄膜(Ndを4.0 at%含有すると共に、Mo〜Nb,Niの1種以上を含有するAl合金よりなる薄膜)を作製し、Mo〜Nb,Niの添加量と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、耐食性および BCA特性の関係を調べた。
Al-4.0Nd-(Fe,Co)薄膜(Ndを4.0 at%含有すると共に、FeまたはCoを含有するAl合金よりなる薄膜)、及び、Al-4.0Nd-1Ta-(Fe,Co)薄膜(Ndを4.0 at%、Taを1.0at %含有すると共に、FeまたはCoを含有するAl合金よりなる薄膜)を作製し、Fe,Coの添加量と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、耐食性および BCA特性を調べた。
Al- 4.0Nd-〔In〜Li(In,Zn,Ge,Cu,Li)〕薄膜(Ndを4.0 at%含有すると共に、In〜Liの1種以上を含有するAl合金よりなる薄膜)、及び、Al-4.0Nd- 1Ta-〔In〜Li(In,Zn,Ge,Cu,Li)〕薄膜(Ndを4.0 at%、Taを1.0at %含有すると共に、In〜Liの1種以上を含有するAl合金よりなる薄膜)を作製し、In〜Liの添加量と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、耐食性および BCA特性の関係を調べた。
Al-4.0Nd-2.0Ta-(Si,Mg)薄膜(Ndを4.0 at%、Taを2.0 at%含有すると共に、Si,Mgの1種以上を含有するAl合金よりなる薄膜)を作製し、Si,Mg添加量と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、耐食性および BCA特性の関係を調べた。
4--全反射膜層(Al合金)、5--UV硬化樹脂保護層。
Claims (11)
- 光情報記録媒体に用いられるAl合金反射膜であって、Alを主成分とし、希土類元素の少なくとも1種を1.0 〜10.0原子%含有し、更にCr,Ta,Ti,Mo,V,W,Zr,Hf,Nb,Niの少なくとも1種を0.5 〜5.0原子%含有することを特徴とする光情報記録用Al合金反射膜。
- 前記希土類元素がNd及び/又はYである請求項1記載の光情報記録用Al合金反射膜。
- Fe,Coの少なくとも1種を1.0 〜5.0 原子%含有する請求項1または2記載の光情報記録用Al合金反射膜。
- In,Zn,Ge,Cu,Liの少なくとも1種を1.0 〜10.0原子%含有する請求項1〜3のいずれかに記載の光情報記録用Al合金反射膜。
- Si,Mgの少なくとも1種を5.0原子%以下含有する請求項1〜4のいずれかに記載の光情報記録用Al合金反射膜。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のAl合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体。
- レーザーマーキング用である請求項6記載の光情報記録媒体。
- Alを主成分とし、希土類元素の少なくとも1種を1.0 〜10.0原子%含有すると共にCr,Ta,Ti,Mo,V,W,Zr,Hf,Nb,Niの少なくとも1種を0.5 〜5.0原子%含有することを特徴とする光情報記録用Al合金反射膜の形成用のAl合金スパッタリングターゲット。
- Fe,Coの少なくとも1種を1.0 〜5.0 原子%含有する請求項8記載の光情報記録用Al合金反射膜の形成用のAl合金スパッタリングターゲット。
- In,Zn,Ge,Cu,Liの少なくとも1種を1.0 〜10.0原子%含有する請求項8または9記載の光情報記録用Al合金反射膜の形成用のAl合金スパッタリングターゲット。
- Si,Mgの少なくとも1種を5.0原子%以下含有する請求項8〜10のいずれかに記載の光情報記録用Al合金反射膜の形成用のAl合金スパッタリングターゲット。
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