JP2008545866A - プラズマトーチを使用する粒子の処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(A)(a)基体および
(b)基体上の少なくとも1層
を含む粒子;または
粒子、特に小板状の粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却し;ついで
(E)その粒子を回収する
工程を含む方法に関する。
(A)
(a)コアと、
(b)フレークの表面に、窒素原子と炭素原子を含むポリマーコーティング
を含む(小板状の)粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却し;ついで
(E)小板状のマイカ粒子を回収する
工程を含む方法により製造することができる。
(a)液体中に小板状の材料を懸濁し;
(b)適切ならば、表面改質剤および/または重合触媒を添加し;
(c)工程(b)の前または後に、窒素原子と炭素原子とを含む1以上のポリマーまたはそのようなポリマーを生成することができる1以上のモノマーを添加し;
(d)小板状の材料の表面にポリマーコーティングを形成し;
(e)小板状の材料を単離する。
単離した小板状の材料は、空気流または噴霧乾燥機中で乾燥することができる。
1)次式の二元窒化物
AxNy(A=Ta、Ti、Zr、Si、Al、V、Nb、Cr、Mn、W、Mo、Fe、Li、Mg、Ca、Sr、Zn、Ga、P)、特に、Ta3N5、Zr3N4、Si3N4、Fe3N、GaN、CrN)
0<x、0<y
AxByNz、例えば、NaPN2、NaGe2N3、MgSiN2、BeSiN2、MgSiN2、MnSiN2、MgGeN2、MnGeN2、ZnGeN2、LiSi2N3、NaGe2N3、Mg2PN3、Mn2PN3、Zn2PN3、LaSi3N5、CrYN、CrScN、CrLaN、
0<x、0<y、0<z
Li2n−3MnNn−1(金属Mの酸化状態nは、2〜6の範囲である)、例えば、LiMgN、LiZnN、Li3AlN2、Li3GaN2、Li5SiN3、Li7VN4、Li7MnN4、Li9CrN5、Li2ZrN2、Li2CeN2、Ca2ZnN2、
1)一金属に基づくオキシ窒化物
AxOyNz(A=Ta、Ti、Al、Zr、Nb、Si、P、Hf)、特に、Zr7O8N4、Zr2ON2、Zr7O11N2、HF2ON2、Al3O3N、Ga1−x/3N1−xOx(0<x<1)
0<x、0<y、0<z
ABO2N(A=ランタニド、B=Si)、特に:LaSiO2N
ABO2N(A=Ca、SrまたはBa、B=TaまたはNb)、特に:CaTaO2N、SrTaO2N、SrNbO2N、BaTaO2N、BaNbO2N
ABON2(A=ランタニド、B=Ta、Nb)、特に:LaTaON2
ABON(A=アルカリ、B=GeまたはSi)、特に:NaGeON、KGeON、LiSiON、NaSiON
A2BO3N(A=Ca、Sr、Ba、B=Ta、Nb)
ABO3−xNx(A=Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Ba2+、Sr2+、Pb2+、Ln3+(=希土類)、Bi3+、Y3+、B=W6+、Re6+、Mo5+、Ta5+、Nb5+、Mo5+、W5+、Zr4+、Sn4+、Ge4+、Nb4+、Ta4+、Al3+、Ga3+、Ln3+(=希土類)、Fe3+、Cr3+およびx=1、2、または3で、Aの電荷aとBのbは、a+b=6+xであることが確認され;a≧x)およびこれらの化合物の固溶体
ABO3N(A=KまたはCs、B=Os)、特に:KOsO3N、RbOsO3N、CsOsO3N
A2BO3N(A=Srまたはランタニド、B=Ta)、特に:Sr2TaO3N
2Li1+xGe2−xO3xN3−3x
(0<x<1)
LnWOxN3−x(Ln=LaおよびNd、0.6<x<0.8)
LnWO3N(Ln=Nd、Sm、Gd、Dy)
Ln2.67W1.33O3.8N2.8、Ln14W4O33−3xN2xおよびLn6W4O12−3xN2x(0<x、Ln=Ho、La、Nd、Sm、Y、Yb)ならびにA4X6.6Δ1.4およびA4X7.33〜6.85Δ0.67〜1.15(ここで、A=希土類およびタングステンのようなカチオン、X=アニオンとしての酸素および窒素、Δ=欠陥)の構造を有する他の同様の欠陥化合物
Ln2AlO3N(Ln=La、Nd、Sm)
Ln10Si6O24N2(Ln=La、Ce、Nd、Sm、Gd、およびY)
Ln2Si3O3N4(Ln=La〜YbおよびY)
Zr(x)Ta(3−x)O(x)N(5−x)(0≦x≦0.66)
Ta(1−x)Zr(x)N(1−x)O(1+x)(0≦x≦0.28)
AZrxTa1−xO2+xN1−x(A=Ca、Sr、Ba、0<x<1)
LiNaPON、Re6WV2+xO12−3xN2x(0<x)
Ln8Cr2Si6O24N2[Ln=La〜Dy(すなわち、周期表でLaとDyの間の元素(それぞれを含む)]
Ln8MIV 2Si6N4O22(Ln=La〜DyおよびMIV=TiまたはGe)
LnEuIISiO3N(Ln=La、Nd、Sm)
Ln4Si2N2O7(Ln=Nd−Yb[すなわち、周期表でNdとYbの間の元素(それぞれを含む)およびY]
パイロクロア(Pyrochlore)構造:AxA’2−xB2O5+xN2−xまたはA’2B2−yB’yO5+yN2−y
A=Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Zn2+
A’=Ln3+(=希土類)、Bi3+、Al3+、Fe3+
B=V5+、Nb5+、Ta5+、Mo5+、W5+
B’=Zr4+、Hf4+、Sn4+、Ge4+、Si4+、Nb4+、Ta4+
0≦x、y<2(Ln2TaO5N2を除く)
スピネル構造:CD2−mD’mO4−mNmまたはC1−nC’nD2O4−nNn
C=Mg2+、Ca2+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Zn2+
D=Al3+、Ga3+、In3+、Ti3+、V3+、Cr3+、Fe3+、Co3+、Ni3+
D’=Zr4+、Hf4+、Sn4+、Ge4+、Si4+、Nb4+、Ta4+
C’=Al3+、Ga3+、In3+、Ti3+、V3+、Cr3+、Fe3+、Co3+、Ni3+
0<m<2、0<n≦1
エルパソライト構造:A’2QBO5−z、N1+z
Z=0 Q=C(二価の金属イオン)A’2CBO5N
Z=1 Q=A”(三価の金属イオン)A’2A”BO4N2
Z=2 Q=D”(四価の金属イオン)
A’2D”BO3N3
A’、B、CおよびDは上で定義されたとおりであり、
A”は、Ln3+(=希土類)またはBi3+を表し、
D”は、四価の金属イオンを意味する
ペロブスカイト構造:A1−uA’uBO2−uN1+uまたはA’B1−wB’wO1+wN2−w
A=Mg2+、Ca2+、Si2+、Ba2+
A’=Ln3+(=希土類)、Bi3+、Al3+、Fe3+
B=V5+、Nb5+、Ta5+
B’=Zr4+、Hf4+、Sn4+、Ge4+
0≦u<1;0<w≦1(Ln2TaON2を除く)
基体+窒化チタン、基体+オキシ窒化チタン、基体+TiO2、基体+TiO亜酸化物、基体+TaxOyNz、好ましくはTaON(x=y=z=1)、基体+ZrxOyNz、好ましくはZr2ON2またはZr7O8N4、基体+VをドープしたZrxOyNz、好ましくはVをドープしたZr2ON2またはZr7O8N4、基体+LaTaON2、基体+PrをドープしたZrxOyNz、好ましくはPrをドープしたZr2ON2またはZr7O8N4、基体+CaTaO2N、基体+SrTaO2N基体+Zr2ON2、基体+Zr7O8N4、基体+Ta3N5、基体+TaON、基体+ZrV2O4N2、基体+ZrPr6O10N2、基体+TiON+Ta3N5、基体+TiO2+TiN、基体+TiO2+TiON、基体+TiO2+TiO亜酸化物、基体+Ta3N5+TiO2、基体+TiO2+SiO2+Ta3N5、基体+Zr2ON2+TiO2、基体+TiON+Zr2ON2、基体+TiO2+Zr2ON2。
マイカ+窒化チタン、マイカ+オキシ窒化チタン、マイカ+TiO2、マイカ+TiO亜酸化物、マイカ+TaxOyNz、マイカ+ZrxOyNz、マイカ+VをドープしたZrxOyNz、マイカ+LaTaON2、マイカ+PrをドープしたZrxOyNz、マイカ+CaTaO2N、マイカ+SrTaO2N、マイカ+Zr2ON2、マイカ+Zr7O8N4、マイカ+Ta3N5、マイカ+TaON、マイカ+ZrV2O4N2、マイカ+ZrPrO10N2、マイカ+TiON+Ta3N5、マイカ+TiO2+TiO亜酸化物、マイカ+Ta3N5+TiO2、マイカ+TiO2+SiO2+Ta3N5、マイカ+Zr2ON2+TiO2、マイカ+TiON+Zr2ON2、マイカ+TiO2+Zr2ON2。
Al2O3フレーク+窒化チタン、Al2O3フレーク+オキシ窒化チタン、Al2O3フレーク+TiO2、Al2O3フレーク+TiO亜酸化物、Al2O3フレーク+TaxOyNz、Al2O3フレーク+ZrxOyNz、Al2O3フレーク+VをドープしたZrxOyNz、Al2O3フレーク+LaTaON2、Al2O3フレーク+PrをドープしたZrxOyNz、Al2O3フレーク+CaTaO2N、Al2O3フレーク+SrTaO2N、Al2O3フレーク+Zr2ON2、Al2O3フレーク+Zr7O8N4、Al2O3フレーク+Ta3N5、Al2O3フレーク+TaON、Al2O3フレーク+ZrV2O4N2、Al2O3フレーク+ZrPr6O10N2、Al2O3フレーク+TiON+Ta3N5、Al2O3フレーク+TiO2+TiN、Al2O3フレーク+TiO2+TiO亜酸化物、Al2O3フレーク+Ta3N5+TiO2、Al2O3フレーク+TiO2+SiO2+Ta3N5、Al2O3フレーク+Zr2ON2+TiO2、Al2O3フレーク+TiON+Zr2ON2、Al2O3フレーク+TiO2+Zr2ON2、
TiO2フレーク+窒化チタン、TiO2フレーク+オキシ窒化チタン、TiO2フレーク+TiO亜酸化物、TiO2フレーク+TaxOyNz、TiO2フレーク+ZrxOyNz、TiO2フレーク+VをドープしたZrxOyNz、TiO2フレーク+LaTaON2、TiO2フレーク+PrをドープしたZrxOyNz、TiO2フレーク+CaTaO2N、TiO2フレーク+SrTaO2N、TiO2フレーク+Zr2ON2、TiO2フレーク+Zr7O8N4、TiO2フレーク+Ta3N5、TiO2フレーク+TaON、TiO2フレーク+ZrV2O4N2、TiO2フレーク+ZrPr6O10N2、TiO2フレーク+TiON+Ta3N5、TiO2フレーク+Ta3N5+TiO2、TiO2フレーク+TiO2+SiO2+Ta3N5、TiO2フレーク+Zr2ON2+TiO2、TiO2フレーク+TiON+Zr2ON2、TiO2フレーク+TiO2+Zr2ON2、
Fe2O3フレーク+窒化チタン、Fe2O3フレーク+オキシ窒化チタン、Fe2O3フレーク+TaxOyNz、Fe2O3フレーク+TiO2、Fe2O3フレーク+TiO亜酸化物、Fe2O3フレーク+ZrxOyNz、Fe2O3フレーク+VをドープしたZrxOyNz、Fe2O3フレーク+LaTaON2、Fe2O3フレーク+PrをドープしたZrxOyNz、Fe2O3フレーク+CaTaO2N、Fe2O3フレーク+SrTaO2N、Fe2O3フレーク+Zr2ON2、Fe2O3フレーク+Zr7O8N4、Fe2O3フレーク+Ta3N5、Fe2O3フレーク+TaON、Fe2O3フレーク+ZrV2O4N2、Fe2O3フレーク+ZrPr6O10N2、Fe2O3フレーク+TiON+Ta3N5、Fe2O3フレーク+Ta3N5+TiO2、Fe2O3フレーク+TiO2+SiO2+Ta3N5、Fe2O3フレーク+Zr2ON2+TiO2、Fe2O3フレーク+TiON+Zr2ON2、Fe2O3フレーク+TiO2+Zr2ON2、Fe2O3フレーク+TiO2+TiN、Fe2O3フレーク+TiO2+TiO亜酸化物、
BiOClフレーク+窒化チタン、BiOClフレーク+オキシ窒化チタン、BiOCl+TaxOyNz、BiOCl+ZrxOyNz、BiOCl+VをドープしたZrxOyNz、BiOCl+LaTaON2、BiOCl+PrをドープしたZrxOyNz、BiOCl+CaTaO2N、BiOCl+SrTaO2N、BiOCl+Zr2ON2、BiOCl+Zr7O8N4、BiOCl+Ta3N5、BiOCl+TaON、BiOCl+ZrV2O4N2、BiOCl+ZrPr6O10N2、BiOCl+TiON+Ta3N5、BiOCl+Ta3N5+TiO2、BiOCl+TiO2+SiO2+Ta3N5、BiOCl+Zr2ON2+TiO2、BiOCl+TiON+Zr2ON2、BiOCl+TiO2+Zr2ON2、BiOCl+TiO2+TiN、
マイカ+TiO2+窒化チタン、マイカ+TiO2+オキシ窒化チタン、マイカ+TiO2+TaxOyNz、マイカ+TiO2+ZrxOyNz、マイカ+TiO2+VをドープしたZrxOyNz、マイカ+TiO2+LaTaON2、マイカ+TiO2+PrをドープしたZrxOyNz、マイカ+TiO2+CaTaO2N、マイカ+TiO2+SrTaO2N、マイカ+TiO2+Zr2ON2、マイカ+TiO2+Zr7O8N4、マイカ+TiO2+Ta3N5、マイカ+TiO2+TaON、マイカ+TiO2+ZrV2O4N2、マイカ+TiO2+ZrPr6O10N2、マイカ+TiO2+TiON+Ta3N5、マイカ+TiO2+Ta3N5+TiO2、マイカ+TiO2+TiO2+SiO2+Ta3N5、マイカ+TiO2+Zr2ON2+SiO2+TiO2、マイカ+TiO2+TiON+Zr2ON2、マイカ+TiO2+TiO2+Zr2ON2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+TaxOyNz、マイカ+TiO2+SiO2+SiO2+TiO2+ZrxOyNz、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+VをドープしたZrxOyNz、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+LaTaON2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+PrをドープしたZrxOyNz、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+CaTaO2N、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+SrTaO2N、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+Zr2ON2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+Zr7O8N4、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+Ta3N5、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+TaON、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+ZrV2O4N2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+ZrPr6O10N2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+TiON+Ta3N5、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+Ta3N5+TiO2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+TiO2+SiO2+Ta3N5、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+Zr2ON2+TiO2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+TiON+Zr2ON2、マイカ+TiO2+SiO2+TiO2+TiO2+Zr2ON2、
(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス(A、C、EおよびBとラベルされたいくつかのタイプのガラスがあり;各々は、ある特定量のSiO2、Al2O3、CaO、MgO、B2O3、Na2+K2O、ZnOおよびFeO/Fe2O3を含み;好ましいガラスは、種々の成分の相対的な濃度を変更する必要がある場合においても、軟化点>600℃であるもの)、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、および
(b)基体上の高屈折率の金属酸化物、例えば、ZrO2、Fe2O3、またはTiO2の層;および場合によりさらなる層、または
(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、および
(b)反射層、特に、反射性金属層もしくは半透明層、特に半透明金属層、および場合によりさらなる層、
を含む、フレークである。
STLは、半透明層、例えば、Cu、Ag、Cr、もしくはSnの半透明金属層、または半透明炭素、またはTiO亜酸化物もしくはSiO亜酸化物層である。
SiO亜酸化物は、<4のSiの酸化状態を意味する。
二酸化チタン小板状物に適用される他の金属酸化物の層は、5〜300nm、好ましくは5〜150nmの厚さを有する。
(b)屈折率nが1.8以下の無色のコーティング、および
(c)屈折率が2.0以上の無色のコーティング
を含む、少なくとも1層のパケットを含む多層にコーティングされた酸化鉄小板状物に基づくものである。
(a)金属の小板状の基体、例えばチタン、銀、アルミニウム、銅、クロム、鉄、ゲルマニウム、モリブデン、タンタル、またはニッケル、および
(b)基体上の、低屈折率の金属酸化物、例えばSiO2、SiOz(ここで、0.70≦z≦2.0、好ましくは1.0≦z≦2.0、最も好ましくは1.4≦z≦2.0)、もしくはAl2O3または高屈折率のもの、例えばZrO2、TiO亜酸化物、もしくはTiO2の層
を含む。
(A)(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、
(b)基体上のアナターゼ変性の酸化チタンの層、および(c)場合により、基体(a)と層(b)との間の酸化スズ層;または場合により酸化スズを含むアナターゼ変性の小板状の酸化チタン、
を含む小板状の粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却して固体粒子を形成し;ついで
(E)(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、
(b)基体上のルチル変性の酸化チタンの層、および場合により、
(c)基体(a)と層(b)との間の酸化スズ層;場合により酸化スズを含むルチル変性の小板状の酸化チタン、
を含む小板状の粒子を回収する、
工程を含む、粒子の処理方法に関する。
(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、
(b)二酸化チタン層、
(c)水和酸化アルミニウムの層、水和酸化ジルコニウムの層、次亜リン酸塩の存在下に加水分解により得られる水和酸化ジルコニウムおよび水和金属酸化物または水和セリウムおよびアルミニウム酸化物の組み合わせを含む最上層、(本発明の方法により処理される)、ポリシロキサンおよび希土類金属化合物を含む層(トップコート)、
を含む。
それは、例えば、US−A−5,091,011に記載されており、その開示を、参照としてここに組み入れる。簡潔には、顔料を撹拌して水に分散し、次いで、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウムまたは硫酸アルミニウムカリウムのようなアルミニウム化合物および水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアまたは尿素のような中和剤を同時に水溶液として加える。生じる加水分解により、水和酸化物は基体上に沈着される。アルミニウム化合物は、平滑で、連続的な層を小板状物上に生成させるために十分にゆっくりと加える必要があり、その速度は、約0.03〜0.1mgAl/分/g顔料、好ましくは約0.005〜0.07mgAl/分/g顔料の範囲内である必要がある。アルミニウム化合物溶液の量は、顔料の全重量に対して、約0.05〜1.2%のアルミニウム、好ましくは約0.1〜0.8%のアルミニウムを含む水和酸化アルミニウムを生成するように使用される。コーティングの沈着後、生成物を濾過し、水洗し、乾燥する。
(A)層状のシリケートフレーク、特に小板状のマイカ粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却して固体粒子を形成し;ついで
(E)層状のシリケートフレーク、特に小板状のマイカ粒子を回収する
工程を含む、粒子の処理方法を提供する。
X0.5Y2−3Z4O10(F5OH)2 (1)
(式中、Xは、配位数12を占める層間イオンであり、K+、Na+、Li+、Rb+、Cs+、Tl+、Ca2+、Sr2+、およびBa2+を表す。
Yは、配位数6を占める八面体イオンであり、Mg2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Mn2+、Li+、Ti2+、Zn2+、Cu2+、Al3+、Ti3+、Cr3+、Fe3+、およびMn3+を表す。
Zは、配位数4を占める四面体イオンであり、Si4+、Al3+、B3+、Fe3+、Mn3+、Be2+、Zn2+、およびGe4+を表す)
で表される。
−皮膚ケア調製物、例えば錠剤形態のまたは液体石鹸の形態の皮膚洗浄用およびクレンジング用調製物、無石鹸洗浄剤、または洗浄ペースト、
−浴用調製物、例えば液体(フォームバス、乳液、シャワー調製物)または固体浴用調製物、例えば浴用キューブおよび浴用塩;
−皮膚ケア製品、例えば皮膚エマルジョン、マルチエマルジョン、またはスキンオイル;ボディオイル、ボディローション、ボディジェル;皮膚保護軟膏;
−化粧用個人用ケア調製物、例えばデイクリームまたはパウダークリームの形態の顔用メークアップ、顔用パウダー(ルーズまたは固形)、紅またはクリームメークアップ、アイケア調製物、例えばアイシャドウ調製物、マスカラ、アイライナー、アイクリーム、または眼固定クリーム;唇ケア調製物、例えば口紅、唇光沢剤、唇輪郭鉛筆、爪ケア調製物、例えばマニキュア液、マニキュア除去剤、爪硬化剤、またはあま皮除去剤;
−足ケア調製物、例えば足浴剤、足パウダー、足クリーム、または足バルサム、特殊脱臭剤および発汗抑制剤、またはたこ除去用調製物;
−光保護調製物、例えばサンミルク、ローション、クリームもしくはオイル、日光ブロックもしくはトロピカル、日焼け前用の調製物、または日焼け後用の調製物;
−皮膚日焼け調製物、例えば自己日焼けクリーム;
−脱色調製物、例えば皮膚漂白用調製物または皮膚明化調製物;
−虫よけ、例えば虫よけオイル、ローション、スプレー、またはスティク;
−脱臭剤、例えば脱臭スプレー、ポンプ連射式スプレー、脱臭ジェル、スティック、またはロールオン;
−発汗抑制剤、例えば発汗抑制スティック、クリーム、またはロールオン;
−汚れた皮膚の洗浄および手入れ用調製物、例えば合成洗剤(固形または液状)、引き剥がしもしくは擦り洗い用調製物、または引き剥がしマスク;
−化学品形態の脱毛用調製物(脱毛剤)、例えば脱毛パウダー、液体脱毛調製物、クリームもしくはペースト状の脱毛調製物、ゲル状のまたはエアゾールフォームの脱毛調製物;
−シェービング調製物、例えばシェービング石鹸、発泡シェービングクリーム、非発泡シェービングクリーム、フォームおよびジェル、乾燥シェービング用の髭剃り前調製物、アフターシェーブ、またはアフターシェーブローション;
−芳香剤調製物、例えば調製物を含む芳香剤および芳しい物質(香水、オーデコロン、オードトワレ、オーデパルファム、パルファムドトワレ、香料)、香油、または芳香クリーム;
−化粧用毛髪処理調製物、例えばシャンプーおよびコンディショナーの形態の染髪調製物、ヘアケア調製物、例えば前処理調製物、ヘアートニック、整髪クリーム、整髪ジェル、ポマード、ヘアーリンス、トリートメントパック、集中ヘアートリートメント、毛髪構造化調製物、例えばパーマネントウエーブのための毛髪ウエーブ用調製物(ホットウエーブ、マイルドウエーブ、コールドウエーブ)、毛髪ストレート化調製物、液体毛髪セット用調製物、ヘアーフォーム、ヘアースプレー、漂白用調製物、例えば過酸化水素液、明化シャンプー、漂白クリーム、漂白パウダー、漂白ペーストもしくはオイル、一時的、半永久的もしくは永久毛髪着色剤、自己酸化染料を含む調製物、または天然毛髪着色剤、例えばヘンナもしくはカモミール;
−装飾調製物、特に口紅、マニキュア液、アイシャドウ、マスカラ、乾燥および湿潤メークアップ、紅、パウダー、脱毛剤、および日焼け止めローション
−活性成分を含有する化粧調合物、特に、ホルモン調製物、ビタミン調製物、植物抽出調製物、および抗菌調製物。
−W/O、O/W、O/W/O、W/O/WまたはPITエマルジョンとしての液体調製物およびすべての種類のミクロエマルジョンの形態、
−ジェルの形態、
−オイル、クリーム、乳液、またはローションの形態、
−スティックの形態、
−スプレー(噴射気体入りスプレーまたはポンプ連射式スプレー)またはエアゾールの形態、
−フォームの形態、
−ペーストの形態、
で存在することができる。
(A)(a)基体および
(b)基体上の少なくとも1層
を含む粒子;または
粒子、特に小板状の粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却し;ついで
(E)その粒子を回収する
工程を含む方法に関する。
(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、および
(b)基体上の高屈折率の金属酸化物、例えば、ZrO2、Fe2O3、またはTiO2;または
(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、および
(b)反射層、特に、反射性金属層もしくは半透明層、特に半透明金属層;または
(a)小板状の形状の二酸化チタン基体、
(b)Fe2O3、Fe3O4、FeOOH、Cr2O3、CuO、Ce2O3、Al2O3、SiO2、BiVO4、NiTiO3、CoTiO3、およびアンチモンをドープした、フッ素をドープした、もしくはインジウムをドープした酸化スズの層;または
(a)小板状の形状の酸化鉄基体、
(b)屈折率nが1.8以下の無色のコーティング、および
(c)屈折率が2.0以上の無色のコーティング
を含むフレークであることを特徴とする。
STLは、半透明層、例えば、Cu、Ag、Cr、もしくはSnの半透明金属層、または半透明SiO亜酸化物、TIO亜酸化物もしくは炭素層である。
(A)(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、
(b)基体上のアナターゼ変性の酸化チタンの層、および(c)場合により、基体(a)と層(b)との間に酸化スズ層;
を含む小板状の粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却して固体粒子を形成し;ついで
(E)(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、
(b)基体上のルチル変性の酸化チタンの層、および場合により、
(c)基体(a)と層(b)との間に酸化スズ層、
を含む小板状の粒子を回収する、
工程を含む。
(a)金属の小板状の基体、例えばチタン、銀、アルミニウム、銅、クロム、鉄、ゲルマニウム、モリブデン、タンタル、またはニッケル、および
(b)基体上の、低屈折率の金属酸化物、例えばSiO2、もしくはAl2O3または高屈折率のもの、例えばZrO2もしくはTiO2の層、
(c)半透明金属酸化物、例えばSiOz、SiO2/SiOz、TiO亜酸化物、TiO2/TiO亜酸化物(0.70≦z≦2.0、特に1.4≦z≦2.0)を含む場合による層、
を含むフレークである。
(a)低屈折率を有する透明基体、特に、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz、特にSiO2、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、またはSi/SiOz(0.70≦z≦2.0、特に1.40≦z≦2.0)、
(b)二酸化チタン層、
(c)水和酸化アルミニウムの層、水和酸化ジルコニウムの層、次亜リン酸塩の存在下に加水分解により得られる水和酸化ジルコニウムおよび水和金属酸化物または水和セリウムおよびアルミニウム酸化物の組み合わせを含む最上層、(本発明の方法により処理される)、ポリシロキサンおよび希土類金属化合物を含む層(トップコート)、
を含むフレークである。
(A)小板状のマイカ粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却して固体粒子を形成し;ついで
(E)小板状のマイカ粒子を回収する
工程を含む。
(a)コアと、
(b)フレークの表面に、窒素原子と炭素原子を含むポリマーコーティング
を含む小板状の粒子であることを特徴とする。
(a)基体と、
(b)金属窒化物/オキシ窒化物、TiO亜酸化物SiOzまたはSiO2/SiOz(ここで、0.70≦z≦2.0、特に1.4≦z≦2.0)の層、
を含むことを特徴とする。
SbをドープしたSnO2でコーティングされたマイカフレークの試料を、一定のpH1.6で、塩酸中のSnCl4とSbCl3をマイカフレークの水溶液に加えることにより調製した。得られた材料を、水洗し、乾燥した。これらのコーティングされたフレークを、アルゴン気流中で流動化し、40g/分の速度で、65kWのパワーで運転されているTeknaPL−70プラズマトーチを有するプラズマ反応器に供給した。シース(鞘)気体は、166slpm[分あたりの標準リットル;slpmの計算用の標準条件は、Tn 0℃(32°F)、Pn=1.01bara(14.72psia)として定義される]のアルゴンと酸素の混合物であり、また中心気体は、40slpmのアルゴンである。運転圧力は、360torrに維持した。反応器中の温度は、フレークの構造を固体に維持し、コーティングの外表面のみを加熱するように調節した。処理されたフレークは、熱交換ゾーンを通過したのちに、回収した。回収したコーティングされたフレークは、改善された電気伝導度を示した。
アナターゼ相を有し、ルチルテンプレート層(つまり、酸化スズ)を有しない、TiO2の層でコーティングされたマイカフレークの試料を、標準的な湿式化学法により調製した。得られた材料を、アルゴン気流中で流動化し、2.6kg/時間の速度で、30kWのパワーで運転されているTeknaPL−70プラズマトーチを有するプラズマ反応器に供給した。シース気体は、150slpmのアルゴンと10slpmの水素の混合物[slpm=分あたりの標準リットル;slpmの計算用の標準条件は、Tn 0℃(32°F)、Pn=1.01bara(14.72psia)として定義される]であり、また中心気体は、40slpmのアルゴンである。運転圧力は、大気圧よりやや低い圧力に維持した。TiO2でコーティングされたマイカフレークが受ける温度は、フレークの構造を固体に維持しながら、コーティングの外表面のみを加熱するために最適化した。処理されたフレークは、熱交換ゾーンを通過したのちに、回収した。回収したコーティングされたフレークは、粉末XRDおよびラマン分光法により特徴付けられるようなルチル結晶変性を有するTiO2層を示した。図1参照。
TiO2材料のアナターゼ層でコーティングされた、市販の完全にか焼されたマイカの試料を、同じく、プラズマ反応器中で上記と同じ条件に付した。回収したコーティングされたフレークもまた、粉末XRDおよびラマン分光法により特徴付けられるようなルチル結晶変性を有するTiO2層を示した。
酸化スズ層材料の最上部にTiO2のルチル層でコーティングされた、市販の完全にか焼されたマイカの試料を、同じく、プラズマ反応器中で上記(実施例3)と同じ条件に付した。フレークは、粉末XRDおよびラマン分光法により特徴付けられるようなルチル結晶を有するTiO2層を保持していた。TiO2はまた、実施例3と同様に、TlO2の相変換を誘起する必要がない酸化条件下に処理することができる。しかしながら、プラズマ条件を変えることにより、顔料の色合いを、酸素の化学量論を調節することで本質的に変化させることができる。
酸化スズとTiO2層状顔料組成物でコーティングされ、実施例4と同様に処理されたマイカ0.800gを、ポリ塩化ビニル(PVC Evipol(登録商標)SH7020、EVC GmbH、フランクフルトa.M)26.6gおよび:
92.21重量%のフタル酸ジイソデシル(Vestinol(登録商標)、Huels Chemie)
3.60重量%の炭酸バリウム亜鉛に基づく熱安定剤(Irgastab(登録商標)BZ561、Ciba Specialty Chemicals Inc.)および
4.19%のエポキシ化大豆油(Rheoplast(登録商標)39、Ciba Specialty Chemicals Inc.)
よりなるマスターバッチ14.6mlと混合した。
30分の湿潤時間の後、混合物を、160℃のロール温度で8分間ロールミルで加工して、薄い強靭な金属様フィルムとした。
プラズマ処理したチタニアコーティングされたフレーク対未処理フレーク(双方ともルチル状態)の光触媒活性にアクセスするための試験方法は、プローブ分子としてメチレンブルー(MB)を使用して行った。チタニアでコーティングされたフレーク50mgを、水5gに加えた。H2/Ar、100%Arおよび空気/Arプラズマ下に処理された、チタニアでコーティングされたフレークを、プラズマ処理前のフレークと比較した。MB法の第一工程は、暗所で撹拌しながら、水溶液中のMBとチタニアコーティングの表面に吸収されたMBとの間の平衡状態を達成することに依存している。平衡状態を達成すると、プラズマ処理粉末についての1ppmに対して、MBが約15ppm、未処理粉末の表面に吸着した。この効果は、プラズマプロセス中に熱的に脱離されるチタニアコーティング上の表面ヒドロキシル基の減少による。ヒドロキシル基の脱離は、表面電子顕微鏡SEMで観察されるように、チタニアコーティングの表面積と多孔度の全体としての減少と組み合わされて生じると考えられる。3ppmMBの標準溶液に対してすべての試料の溶液中のMB吸光度を正規化するために、合計18ppmのMBをプラズマ前の試料に加え、4ppmをプラズマ処理した試料に加えた(図3a参照)。溶液中のMBの光分解は、UV−可視分光法で、650nmでの吸光度の減少を追うことによりモニターした。
TiO2でコーティングされたマイカフレークの最表面を比較する、倍率70000倍での表面電子顕微鏡(SEM)画像。左図:空気中で650℃でか焼。中央図:プラズマ処理、100%アルゴン。右図:プラズマ処理、10slpm H2/250slpm Ar。左および中央の画像は、アナターゼTiO2である。右の画像は、ルチルTiO2である。これらの画像は、プラズマ処理されたフレークが、か焼により得られるものに比べて、より緻密で、細孔の少ないTiO2コーティングを有することおよび気体組成、滞留時間、およびクエンチ速度のようなプラズマ条件が、粒径および結晶化度の点でTiO2表面形態に影響を与えることができることを明示している。
ルチルTiO2でコーティングされた(酸化スズ層)マイカ顔料を、本発明に従ってプラズマ処理した。この化合物の未処理および処理形態を、パーソナルケアおよび化粧品調合物におけるそれらの特性について試験した。
未処理または処理マイカ顔料を、それぞれ5%、非着色ベースマニキュア液に加えた。
得られた着色マニキュア液調合物のドローダウンを、白黒のLenetaドローダウンカード上に調製した。
目視評価により、プラズマ処理製品は、はるかに暗く見え、金属様の銀白色の色合いを示し、一方、未処理TiO2マイカでコーティングされた製品は、より白色で、非金属様の色合いを示すことが明らかとなった。
未処理または処理マイカ顔料を、それぞれ、皮膚に直接適用し、粉末組成物(例えば、アイシャドウ)の高い色負荷を模倣した。
皮膚上に残された色効果より、プラズマ処理したTiO2はより強力なようであり、より良好な被覆率を示すことが明らかとなった。色合いの印象は、未処理のTiO2に比べて、よりシルバーメタリックであった。
処理または未処理化合物を、それぞれ5%、非着色シャンプー調合物に加えた。処理粒子は、白い色合いを示した未処理粒子に比べて、より暗く、より銀灰色となった。
Claims (10)
- 粒子の処理方法であって、
(A)(a)基体および
(b)基体上の少なくとも1層
を含む粒子;または
粒子、特に小板状の粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却し;ついで
(E)その粒子を回収する
工程を含む方法。 - 層(b)が、湿式化学法により沈着されたものである、請求項1記載の方法。
- プラズマトーチが、誘導プラズマトーチである、請求項1記載の方法。
- 層(b)が、ドープした金属酸化物、好ましくは0.1〜30重量%のアンチモン、リン、またはフッ素をドープした酸化スズ、0.01〜5重量%のテルルをドープした酸化スズ、0.1〜20重量%のスズをドープした酸化インジウム、CdSnO3、Cd2SnO4、In2TeO6、CdIn2O4、CdIn(2−x)SnxO4(式中、x=0.001〜0.2)、Cd2Sn(1−y)SbyO4(式中、y=0.001〜0.1)、またはIn2Te0.98Re0.02O6を含む導電性層である、請求項1〜3のいずれか記載の方法。
- 粒子が、
(a)透明基体、好ましくは、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz(0.70≦z≦2.0)、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、およびSi/SiOz(0.70≦z≦2.0)よりなる群から選択されるもの;および
(b)基体上の高屈折率の金属酸化物、好ましくは、ZrO2、Fe2O3、およびTiO2よりなる群から選択されるものの層;または
(a)透明基体、好ましくは、天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Al2O3、SiOz(0.70≦z≦2.0)、SiO2/SiOx/SiO2(0.03≦x≦0.95)、SiO1.40−2.0/SiO0.70−0.99/SiO1.40−2.0、およびSi/SiOz(0.70≦z≦2.0)よりなる群から選択されるもの;および
(b)反射層、好ましくは、反射性金属層もしくは半透明層;または
(a)小板状の形状の二酸化チタン基体、
(b)Fe2O3、Fe3O4、FeOOH、Cr2O3、CuO、Ce2O3、Al2O3、SiO2、BiVO4、NiTiO3、CoTiO3、およびアンチモンをドープした、フッ素をドープしたもしくはインジウムをドープした酸化スズよりなる群から選択される層;または
(a)小板状の形状の酸化鉄基体、
(b)屈折率nが1.8以下の無色のコーティング、および
(c)屈折率が2.0以上の無色のコーティング
を含むフレークである、請求項1〜3のいずれか記載の方法。 - (A)小板状のマイカ粒子を用意し、
(B)その粒子をプラズマトーチへ輸送するために気体の流れに随伴させ;
(C)その気体の流れの中でプラズマを発生させて、粒子の外表面を加熱し;
(D)その粒子を冷却して固体粒子を形成し;ついで
(E)小板状のマイカ粒子を回収する
工程を含む、請求項1記載の方法。 - 工程(A)で用意される粒子が、
(a)コアと、
(b)フレークの表面に、窒素原子および炭素原子を含むポリマーコーティングと、
を含む小板状の粒子である、請求項1記載の方法。 - 請求項1〜7のいずれかの方法により得ることができる生成物。
- 請求項1〜7のいずれかの方法により得ることができる粒子を組み込んでいる、コーティング、プラスチック、塗料、印刷インク、セラミックもしくはガラス、またはパーソナルケア製品。
- コーティング、プラスチック、塗料、印刷インク、セラミックもしくはガラス、またはパーソナルケア製品の製造のための、請求項8記載の生成物の使用。
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