JP2008531521A - キシリレンジアミンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、フタロジニトリルの不均一系触媒反応による水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法に関する。本発明によれば、ニッケル骨格触媒、水、アルカリ金属水酸化物および溶剤としてのエーテルの存在下に、1〜100バールの範囲の絶対圧力、40〜150℃の範囲の温度で、かつアンモニアを添加することなく水素化を実施する。
Description
本発明は、不均一系触媒反応によるフタロジニトリルの水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法に関する。
キシリレンジアミン(ビス(アミノメチル)ベンゼン)は、たとえばポリアミド、エポキシ硬化剤の合成のため、またはイソシアネートを製造するための中間体として有用な出発物質である。
「キシリレンジアミン」(XDA)という名称は、3つの異性体であるオルト−キシリレンジアミン、メタ−キシリレンジアミン(MXDA)およびパラ−キシリレンジアミンを包含する。
「フタロジニトリル」(PDN)という概念は、3つの異性体である1,2−ジシアンベンゼン=o−フタロジニトリル、1,3−ジシアンベンゼン=イソフタロジニトリル=IPDNおよび1,4−ジシアンベンゼン=テレフタロジニトリルを包含する。
フタロジニトリルは固体であり(たとえば、イソフタロジニトリル(IPDN)は161℃で溶融する)、かつ多くの有機溶剤中で比較的劣った溶解性を有する。
キシレンのアンモ酸化(Ammonoxidation)および得られたフタロジニトリルのその後の水素化により2段階でキシリレンジアミンを合成することは原則的に公知である。
US−A−4,482,741(UOP Inc.)は、アンモニア、担持されたCo/Ti触媒および溶剤としてのXDAの存在下でのPDNの水素化を記載している。
DE−A−2164169(三菱ガス化学株式会社)は、第6頁最後の段落に、Niおよび/またはCo触媒の存在下に、溶剤としてのアンモニア中でのIPDNからメタ−XDAへの水素化を記載している。
JP−B−46008283(東レ株式会社、ACSアブストラクト75:5222)は、アミノカプロニトリルのようなニトリルを、鉛含有ニッケルもしくはコバルト触媒の存在下で第1級アミンへと水素化することに関する。
US−B1−6,660,887(Solutia Inc.)は、N,N−ジメチルアミノプロピオニトリル(DMAPN)から、低圧でニッケル触媒の存在下に3−ジメチルアミノプロピルアミン(DMAPA)を製造することを記載している。
FR−A1−2722784(Rhone Poulenc)は、ジニトリル、たとえばアジポジニトリルを、Tiドープされたラネー・ニッケル触媒の存在下にジアミンへと水素化することを教示している。
US3,862,911(およびDE−A−2260978)(Rhone Poulenc)は、ニトリル、特にアジポニトリルを水素化するためのNi/Cr/Fe/Al触媒を記載している。例6Bによれば、IPDNからMXDAへの水素化は、エタノール中85℃および40バールで行ってわずか75%の収率が達成されるのみである。
ACSアブストラクト第139:381881(JP−A2−2003 327563)(三菱ガス)は、芳香族ジニトリルをアンモニアを含有する溶剤、たとえばm−キシレン中、「固定床の潅注液型の反応器(fixed bed irrigation liquid type reactor)」中で、ニッケルもしくはコバルト触媒の存在下に連続的に水素化する方法を開示している。
EP−A1−1449825(三菱ガス化学株式会社)は、芳香族ジニトリル、たとえばIPDNから、第1段階ではPd触媒の存在下に、および第2段階ではNiもしくはCo触媒の存在下に芳香族ジアミンを2段階で製造することを記載している。
US2,970,170およびGB−B−821404(California Research Corp.)は、相応するフタル酸から出発するキシリレンジアミンのための多段階の製造方法に関する。ジニトリルの水素化のために、たとえばコバルトもしくはニッケル触媒の存在下に、1500〜10000psig(103.4〜689.5バール)、特に2000〜5000psig(137.9〜344.7バール)の範囲の圧力および180〜400°F(82〜204℃)の範囲の温度が教示されている(US特許、第3欄第65〜71行目)。
EP−A1−1454895(三菱ガス化学株式会社)は、5〜300バール、特に10〜200バールの圧力で、担持された、もしくは担持されていないCo、Ni、Pd、RuもしくはRh触媒の存在下に、有利にはアンモニアの存在下に、および場合によりアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属水酸化物のような添加剤の存在下に、ジシアノベンゼンを水素化するための2段階の方法を記載している。
US−B1−6,476,267(相模化学研究センター)は、ニトリル、たとえばIPDNから、担持されたNi触媒および極性溶剤の存在下に、有利にはNH3の存在下に、0.1〜50kg/cm2G(0.1〜49バール)、たとえば19kg/cm2G(18.6バール)以下の圧力および200℃までの温度で芳香族第1級アミンを製造することに関する。Ni触媒の担体材料は、シリカ、アルミナまたは活性炭であり、有利にシリカである(全ての実施例)。例22によれば、IPDNの水素化はメタノール中NH3の存在下に、シリカに担持したNi触媒を用いて、170℃および15kg/cm2G(14.7バール)で行って79.5%の収率が達成されている。
GB−B−810530(P.B.Brindley等)は、イソフタロジニトリルまたはテレフタロジニトリルをアンモニア、ニッケルもしくはコバルト触媒および芳香族炭化水素、水、DMF、溶剤としてのメタノールまたはエタノールの存在下に水素化することを教示している。圧力は200気圧(203バール)である。
EP−A1−913388(Air Producrs)は、ニトリル、たとえばDMAPNを、ラネー・コバルト触媒、LiOHおよび水の存在下に、かつ有機溶剤の不存在下で、1〜300バール、特に5〜80バールの範囲の圧力で水素化することに関する。この場合、原料のニトリルを固体の場合に反応器に供給するコストにより、ひいては原料のニトリルおよび/または中間体、たとえばイミンが、生成物のアミンと高い度合いで不所望の副生成物を形成することによって欠点が生じる。
ACSアブストラクト第91:91334(JP−A2−54041804)(武田薬品工業)は、ニトリル、たとえばIPDNを、アルコールおよび環式炭化水素からなる溶剤混合物中で、ラネー・コバルトまたはラネー・ニッケル触媒を用いて、たとえば105〜115kg/cm2(103〜113バール)で水素化することに関する。
US−A−3,647,054(ACSアブストラクト第73:130762)(Japan Gas Chemical Comp.)は、液状のアンモニア中で、かつメタノールの存在下に、ラネー・ニッケルを用いて200気圧(203バール)でフタロニトリルを水素化し、かつ引き続き粗生成物を生成することを記載している。
ACSアブストラクト第74:31537(JP−B4−45030088)(東レ株式会社)は、アミノカプロニトリルを液状のアンモニア中で、変性されたラネー・コバルト触媒を使用して水素化することを教示している。
ACSアブストラクト第59:61849(JP38008719)(東邦レーヨン)は、テレフタロニトリルおよびイソフタロニトリルをメタノール中でラネー・Niを用いてKOHの存在下に30℃で水素化することに関する。
US−A−3,544,485(東邦レーヨン)およびACSアブストラクト第73:109473(JP−B4−45016098)(東レ株式会社)は、ラネー合金を活性化する方法を記載している。
DE−A1−10065031(Degussa AG)は、水素化法において中空成形体の形のラネー触媒の使用に関する。
2003年9月10日付の出願番号10341615.3、10341632.3、10341614.5、10341633.1、10341612.9および10341613.7を有する6件のドイツ国特許出願(BASF AG)および2004年9月2日付の出願番号102004042947.2および102004042954.5を有するドイツ国特許出願(BASF AG)は、それぞれXDAの製造方法に関する。
2005年1月24日付の出願番号102005003315.6を有するドイツ国特許出願(BASF AG)は、フタロジニトリルをコバルト骨格触媒の存在下で不均一系触媒反応によって水素化することによるキシリレンジアミンの製造方法を記載している。
本発明の根底には、キシリレンジアミンを製造するための、改善された経済的な方法を見いだすという課題が存在してた。この方法は、従来技術の方法の1もしくは複数の欠点を克服すべきである。キシリレンジアミン、特にMXDAはこの場合、高い収率で、特に空時収率、選択率、純度および/または色の品質で生じるべきである。
[空時収率は、「生成物量/(触媒体積×時間)」(kg/(I触媒×h))および/または「生成物量/(反応器体積×時間)」(kg/(I反応器×h)で記載される]。
これに応じて、不均一系触媒反応によるフタロジニトリルの水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法が判明し、この方法は、ニッケル骨格触媒、水、アルカリ金属水酸化物および溶剤としてのエーテルの存在下に、1〜100バールの範囲の絶対圧力、40〜150℃の範囲の温度で、かつアンモニアを添加することなく水素化を実施することを特徴とする。
有利には本発明による方法は、イソフタロジニトリル(IPDN)の水素化によりメタ−キシリレンジアミン(MXDA)を製造するために適用される。
本発明による方法の利点は特に、NH3を添加しない方法および低圧の方法によって条件付けられて、装置技術的なコストおよび安全技術的なコストが低く、ひいては固定費(投資)および変動費が低いことである。
さらに本発明による選択的な方法では、副生成物、たとえばキシリレンジアミンより高い沸点を有する生成物(同一の圧力で)およびアミジン、たとえば式Iのアミジン、ならびにその後の生成物(式IIのMXDAの二量体)が特に少量で生じる。
方法において原料として使用されるPDNは、先行する段階で相応するキシレン異性体のアンモ酸化によって合成することができる。このような合成法はたとえばBASFの特許出願EP−A−767165、EP−A−699476、EP−A−222249、DE−A−3540517およびDE−A−3700710、ならびに上記の2003年9月10日および2004年9月2日付のXDAを製造するための8件のBASFの特許出願に記載されている。
本発明による方法は以下のとおりに実施することができる:
使用物質であるPDNは、有利には90質量%以上の純度、特に98質量%以上、たとえば98.2〜99.9質量%の純度で使用する。このような純度はたとえば市販品を蒸留または精留することによって達成することができる。
使用物質であるPDNは、有利には90質量%以上の純度、特に98質量%以上、たとえば98.2〜99.9質量%の純度で使用する。このような純度はたとえば市販品を蒸留または精留することによって達成することができる。
本発明による水素化法は、そのつど使用されるPDNに対して、有利には0.5〜15質量%、特に2〜10質量%、特に有利には2.5〜7質量%、とりわけ3〜5質量%の水の存在下に実施する。
以下の式
によるフタロジニトリルから相応するキシリレンジアミン(o−、m−もしくはp−キシリレンジアミン)への水素化のために、PDNをエーテル中に溶解および/または懸濁させる。溶解の速度を高めるために、および/または溶解したPDNの量を高めるために、溶解工程はたとえば50〜145℃に高めた温度で行うことができる。
有利には本発明による方法で、溶剤または溶剤混合物中のPDN15〜75質量%、特に20〜50質量%の溶液および/または懸濁液を使用する。
溶剤および/または懸濁剤として、有利にはC4〜C12−ジアルキルエーテルおよび/またはC3〜C12−脂環式エーテル、特にC4〜C6−ジアルキルエーテルおよび/またはC4〜C6−脂環式エーテルを使用する。
このための例は、メチル−t−ブチルエーテル(MTBE)、ジエチルエーテル(DEE)、ジ−n−プロピル−エーテル、ジ−n−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチル−THF、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキセパン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサンおよび1,3−ジオキソランである。THFは特に有利である。
溶剤および/または懸濁剤として、2種類以上の前記の溶剤の混合物を使用することもできる。
水素化のための触媒として本発明によればニッケル骨格触媒を使用する。
このような触媒のための典型的な例は、ラネー(登録商標)ニッケル触媒である。この場合、「金属のスポンジ」としての活性な触媒は、ニッケルおよび場合により別の元素とたとえばアルミニウムとの二成分合金から、パートナー(相手)を酸またはアルカリで溶出することによって製造される。当初の合金相手の残りはしばしば相乗作用する。
本発明による方法で使用される触媒は、有利にはニッケルおよびアルカリ中で可溶性の別の合金成分からなる合金から出発して製造される。このような可溶性の合金成分の場合、有利にはアルミニウムを使用するが、しかしその他の成分、たとえば亜鉛およびケイ素またはこれらの成分からなる混合物を使用することもできる。
触媒を活性化するために、可溶性の合金成分を完全に、または部分的にアルカリで抽出するが、このためにたとえば水酸化ナトリウム水溶液を使用することができる。次いで該触媒をたとえば水または有機溶剤で洗浄する。
該触媒中で、単独の、または複数の別の元素が助触媒として存在していてもよい。助触媒のための例は、元素の周期律表の副族IB、VIBおよび/またはVIIIの金属、たとえばクロム、鉄、モリブデン、コバルト、銅などである。
触媒の活性化は、可溶性の成分(一般にアルミニウム)の浸出により、反応器自体中で、または反応器に充填する前に行うことができる。前活性化された触媒は、空気に敏感であり、かつ自然発火性であり、従って通常は、たとえば水、有機溶剤または本発明による反応の際に存在する物質(溶剤、原料、生成物)のような媒体中に保存し、かつ取り扱うか、または室温で固体の有機化合物中に埋め込む。
触媒は、懸濁水素化のためには粉末として、固定床反応器のためには顆粒として、またはタブレットまたは押出成形体のような固体として使用することができる。
有利には本発明によれば、Ni/Al合金から、アルカリ金属水酸化物の水溶液、たとえば水酸化ナトリウム溶液を用いた浸出、および水を用いたその後の洗浄によって得られ、かつ有利には助触媒として少なくとも1種の元素Fe、Crを含有するニッケル骨格触媒を使用する。
このような活性化された触媒は一般にニッケル以外にさらに、
Al1〜30質量%、特にAl2〜20質量%、特に有利にはAl5〜14質量%および
Cr0〜10質量%、特にCr0.1〜7質量%、特に有利にはCr1〜4質量%および/または
Fe0〜10質量%、特にFe0.1〜7質量%、特に有利にはFe1〜4質量%
を含有し、この場合、質量の記載は、そのつど触媒全質量に対する。
Al1〜30質量%、特にAl2〜20質量%、特に有利にはAl5〜14質量%および
Cr0〜10質量%、特にCr0.1〜7質量%、特に有利にはCr1〜4質量%および/または
Fe0〜10質量%、特にFe0.1〜7質量%、特に有利にはFe1〜4質量%
を含有し、この場合、質量の記載は、そのつど触媒全質量に対する。
本発明による方法における触媒として、たとえば有利にはJohnson Mattheyのニッケル骨格触媒A4000を使用することができる。この触媒は以下の組成を有する:
Al:14質量%以下、Ni:80質量%以上、Fe:1〜4質量%、Cr:1〜4質量%。
Al:14質量%以下、Ni:80質量%以上、Fe:1〜4質量%、Cr:1〜4質量%。
有利には使用されるニッケル骨格触媒は、鉛(Pb)および/またはコバルト(Co)を含有していないか、かつ/または副族IVBの金属を含有していない、つまりTi、Zrおよび/またはHfを含有していない。
PDNは、アルカリ金属水酸化物(MOH)の存在下に、特にそのつど使用されるPDNに対して、MOH0.001〜5モル%、特に有利にはMOH0.002〜1.5モル%、とりわけ有利にはMOH0.005〜1.2モル%、たとえばMOH1モル%の存在下に反応させる。
有利な実施態様では、MOHの相応する量を水溶液として、たとえば1〜25質量%の水溶液として使用する。
可能なアルカリ金属Mは、Li、Na、K、RbおよびCsである。有利にはM=KまたはNaである。特に有利にはM=Kである。
前記のアルカリ金属水酸化物(MOH)2種類以上からなる混合物もまた使用することができ、その際、上記のMOH量は、アルカリ金属水酸化物の合計に対するものである。たとえばNaOH−KOHの混合物を使用することができる。
有利な実施態様では、使用される触媒を予め、アルカリ金属水酸化物(M′OH)で、または2種類以上のアルカリ金属水酸化物M′OHからなる混合物、たとえばNaOHとKOHとからなる混合物で処理する。この処理は特に、装入された反応混合物中で、水素化をMOHの不存在下で実施する場合に有利である。
M′OHを用いた触媒のこのような処理は、当業者に公知の方法で、たとえば触媒をM′OHで、たとえば0.01〜5.0質量%のM′OH(担体材料に対する)飽和させることにより、適切な溶剤、たとえば水の存在下に行うことができる(EP−A1−913388、US6,429,338、US3,636,108)。
可能なアルカリ金属M′は、Li、Na、K、RbおよびCsである。有利にはM′=KまたはNaである。特に有利にはM′=Kである。
水素化はアンモニアを添加しないで実施する。
水素化の反応温度は、40〜150℃、有利には50〜120℃、特に60〜110℃、とりわけ有利には70〜105℃、たとえば80〜100℃の範囲である。
絶対圧力は、水素化の際に1〜100バール、有利には2〜80バール、特に5〜60バール、とりわけ有利には10〜50バール、たとえば20〜40バールの範囲である。
水素化は有利には1の反応段階で実施する。つまり有利にはたとえばEP−A1−1449825およびEP−A1−1454895に教示されているような複数の水素化段階は適用する必要がない。
本発明による方法のための反応器として、たとえば通常の高圧オートクレーブを使用することができる。
水素化のために、当業者にこの反応のために公知の反応器(たとえば固定床法または懸濁法)ならびに方法(連続式、半連続式(半バッチ式)、不連続式(バッチ式)を適用することができる。懸濁法の場合、連続的な方法または半バッチ式の方法が有利である。
触媒固定床の運転法の場合、塔底法もトリクル式の方法も可能である。トリクル式が有利である。
水素化反応器は直通式で運転することができる。あるいは、循環運転法も可能であるが、その場合、反応器搬出物の一部を反応器入口に返送し、有利には予め循環流の後処理を行わない。これにより反応溶液の最適な希釈を達成することができ、これは選択率に有利に作用する。特に循環流は、外部の熱伝達媒体により、容易かつ安価な方法で冷却し、ひいては反応熱を除去することができる。反応器はこのことにより断熱式で運転することができ、その際、反応溶液の温度上昇は、冷却された循環流によって限定することができる。反応器自体は、この場合、冷却する必要がないので、簡単かつ安価な構造が可能である。代替案は冷却される管束反応器である。
半バッチ式の有利な懸濁法では、有利にはニッケル骨格触媒、アルカリ金属水酸化物および水を反応器中に装入し、かつ引き続き調整した反応条件(圧力、温度)下に、溶剤中でフタロジニトリルを一定の時間にわたって(たとえば2〜8時間)供給する(半連続的な運転法)。
有利な実施態様では、特にこの運転法はさらに、使用されるPDNに相応するXDAを一緒に、たとえば使用されるPDNに対して、500〜1500質量%の量で装入する。使用されるPDNに相応するXDAは、オルト−ジニトリルの場合、オルト−XDA、メタ−ジニトリルの場合、MXDA、およびパラ−ジニトリルの場合、パラ−XDAである。
本発明による方法で達成可能なPDNの反応率は、95%以上の範囲、特に99%以上、たとえば96%以上99.9%であるか、または99.5〜100%であり、選択率(XDAの形成に関する)は、80%以上の範囲、特に85%以上、たとえば86〜99.5%または90〜99%である。
溶剤を除去した反応搬出物は、特に2質量%以下、特に有利には1質量%以下、たとえば0〜0.5質量%の式Iのアミジンおよび/またはXDAより沸点の高い生成物、たとえば相応する(ビスアミノアルキル)ジアリールアミンIIを含有する。
本発明による方法を実施した後で、XDAの単離を、たとえば蒸留または精留により行うことができる。
実施例
例1
磁気的に接続されたガス発生攪拌機、サンプル取り出し部、温度調節器および原料の連続的な供給のための入口を備えた300mlの高圧オートクレーブ中に、THF60g、水で湿った、ドープされていないラネー(登録商標)ニッケル1.19gおよび水1.73g中のKOH0.021gを一緒に添加した。
例1
磁気的に接続されたガス発生攪拌機、サンプル取り出し部、温度調節器および原料の連続的な供給のための入口を備えた300mlの高圧オートクレーブ中に、THF60g、水で湿った、ドープされていないラネー(登録商標)ニッケル1.19gおよび水1.73g中のKOH0.021gを一緒に添加した。
オートクレーブを閉じて、混合物を不活性化し、かつ10バールまで水素を圧入した。固有圧力および攪拌(500回転/分)下に、100℃に加熱した。この温度に達したら、36バールまで水素を圧入し、かつ攪拌機の回転数を1200回転/分に高めた。引き続き、5時間にわたってTHF83g中のIPDN7.2gの溶液をポンプで供給し、その際、連続的に水素を添加した(圧力を32〜36バールに維持)。
5時間後に、サンプルを取り出した。サンプルのGC分析によれば、反応率100%および選択率96.5%であることが判明した。高沸点物の形成は観察されなかった。供給の終了後に、混合物をさらに5時間、同一の条件下に維持し、その際、選択率は低下しなかった。
例2
逆混合式の方法のシミュレーション:
磁気的に接続されたガス発生攪拌機、サンプル取り出し部、温度調節器および原料の連続的な供給のための入口を備えた300mlの高圧オートクレーブ中に、MXDA60g、予めMXDAを用いて水不含に洗浄したJohnson Matthey社のラネー(登録商標)ニッケルA4000 5.95g、および水0.5g中のKOH0.1gを一緒に添加した。
逆混合式の方法のシミュレーション:
磁気的に接続されたガス発生攪拌機、サンプル取り出し部、温度調節器および原料の連続的な供給のための入口を備えた300mlの高圧オートクレーブ中に、MXDA60g、予めMXDAを用いて水不含に洗浄したJohnson Matthey社のラネー(登録商標)ニッケルA4000 5.95g、および水0.5g中のKOH0.1gを一緒に添加した。
オートクレーブを閉じて、混合物を不活性化し、かつ10バールまで水素を圧入した。固有圧力および攪拌(500回転/分)下に、100℃に加熱した。この温度に達したら、36バールまで水素を圧入し、かつ攪拌機の回転数を1200回転/分に高めた。引き続き、1時間にわたってTHF83g中のIPDN7.2gの溶液をポンプで供給し、その際、連続的に水素を添加した(圧力を32〜36バールに維持)。
1時間後に、サンプルを取り出した。サンプルのGC分析によれば、MXDAの含有率は99.1%であり、反応率100%であることが判明した。高沸点物の含有率は0.24%であった(GC面積%)。供給の終了後に、混合物をさらに2時間、同一の条件下に維持し、その際、選択率は低下しなかった。
Claims (20)
- 不均一系触媒反応によるフタロジニトリルの水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法において、ニッケル骨格触媒、水、アルカリ金属水酸化物および溶剤としてのエーテルの存在下に、1〜100バールの範囲の絶対圧力、40〜150℃の範囲の温度で、かつアンモニアを添加することなく水素化を実施することを特徴とする、キシリレンジアミンの製造方法。
- イソフタロジニトリル(IPDN)を水素化することによってメタ−キシリレンジアミン(MXDA)を製造することを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 1の反応段階で水素化を実施することを特徴とする、請求項1または2記載の方法。
- 5〜60バールの範囲の絶対圧力で水素化を実施することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 60〜120℃の範囲の温度で水素化を実施することを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- ニッケル骨格触媒が、Ni/Al合金からアルカリ金属水酸化物水溶液を用いた浸出および洗浄により得られたことを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- ニッケル骨格触媒が助触媒としてFeおよび/またはCrを含有することを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- ニッケル骨格触媒がニッケル以外にさらに、そのつど触媒の全質量に対して、Al1〜30質量%、およびCr0.1〜10質量%および/またはFe0.1〜10質量%を含有することを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 溶剤としてのC4〜C12−ジアルキルエーテルおよび/またはC3〜C12−脂環式エーテルの存在下で水素化を実施することを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 溶剤としてのテトラヒドロフラン(THF)の存在下で水素化を実施することを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 使用されるフタロジニトリルに対してアルカリ金属水酸化物0.001〜5モル%の存在下で水素化を実施することを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- アルカリ金属水酸化物を水溶液として使用することを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- アルカリ金属水酸化物として、水酸化カリウム(KOH)または水酸化ナトリウム(NaOH)を使用することを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- アルカリ金属水酸化物として、水酸化ナトリウムと水酸化カリウム(NaOHおよびKOH)とからなる混合物を使用することを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- 使用される不均一系触媒を予めアルカリ金属水酸化物またはアルカリ金属水酸化物の混合物で処理することを特徴とする、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
- 使用される不均一系触媒を予め水酸化カリウム(KOH)で処理することを特徴とする、請求項1から15までのいずれか1項記載の方法。
- 半バッチ式で実施し、かつバッチ式では実施しないことを特徴とする、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
- 連続式に実施し、かつ半バッチ式もしくはバッチ式で実施しないことを特徴とする、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
- 使用されるフタロジニトリルに相当する、添加されたキシリレンジアミンの存在下に水素化を実施することを特徴とする、請求項1から18までのいずれか1項記載の方法。
- 使用されるフタロジニトリルに対して、水0.5〜15質量%の存在下に水素化を実施することを特徴とする、請求項1から19までのいずれか1項記載の方法。
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WO2012105498A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
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Family Cites Families (14)
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BE792649A (fr) * | 1971-12-13 | 1973-06-12 | Rhone Poulenc Sa | Catalyseur a base de nickel raney au fer |
US4482741A (en) * | 1984-01-09 | 1984-11-13 | Uop Inc. | Preparation of xylylenediamine |
US5869653A (en) * | 1997-10-30 | 1999-02-09 | Air Products And Chemicals, Inc. | Hydrogenation of nitriles to produce amines |
US6544485B1 (en) * | 2001-01-29 | 2003-04-08 | Sharper Image Corporation | Electro-kinetic device with enhanced anti-microorganism capability |
WO2000046179A1 (fr) * | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Sagami Chemical Research Center | Procede de production d'amine primaire aromatique par hydrogenation a basse pression de nitrile aromatique |
WO2002051791A2 (de) * | 2000-12-23 | 2002-07-04 | Degussa Ag | Verfahren zur herstellung von primären und sekundären aminen durch hydrierung von nitrilen und iminen |
JP4304420B2 (ja) * | 2002-07-01 | 2009-07-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンおよび/またはシアノベンジルアミンの製造方法 |
US6660887B1 (en) * | 2002-12-23 | 2003-12-09 | Solutia Inc. | Low pressure process for manufacture of 3-dimethylaminopropylamine (DMAPA) |
DE602004019000D1 (de) * | 2003-02-20 | 2009-03-05 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Hoch-selektives Herstellungsverfahren von Di(aminomethyl)-substituierten aromatischen Verbindungen |
US6881864B2 (en) * | 2003-03-07 | 2005-04-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of xylylenediamine |
EP1663947B1 (de) * | 2003-09-10 | 2008-01-16 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung von xylylendiamin durch kontinuierliche hydrierung von flüssigem phthalodinitril |
DE102005003315A1 (de) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung eines Xylylendiamins |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010026920A1 (ja) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
CN102159532A (zh) * | 2008-09-08 | 2011-08-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 苯二甲胺的制备方法 |
US8759588B2 (en) | 2008-09-08 | 2014-06-24 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing xylylenediamine |
CN102159532B (zh) * | 2008-09-08 | 2014-09-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 苯二甲胺的制备方法 |
WO2012105498A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
US9024070B2 (en) | 2011-01-31 | 2015-05-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing xylylenediamine |
JP5884738B2 (ja) * | 2011-01-31 | 2016-03-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
WO2022019105A1 (ja) * | 2020-07-22 | 2022-01-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族アミノメチルの製造方法 |
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