JPH0449549B2 - - Google Patents
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Description
本発明、フルフリルアミン及び/又はテトラヒ
ドロフルフリルアミンの製造法に関するものであ
る。 本発明の方法によれば、フルフリルアミン
(FAMと略記することがある)及び/又はテトラ
ヒドロフルフリルアミン(4HFAMと略記するこ
とがある)を収率よく製造することができる。 フルフリルアミン及びテトラヒドロフルフリル
アミンは、医薬、農薬、繊維等の中間原料として
有用な化合物である。 フルフリルアミンの製法は、フルフラールフエ
ニルヒドラジン、フルフラールオキシム、フルフ
リルアジド又はフロニトリル等を水素化する方
法、フルフラールをアンモニアの存在下直接水素
化する方法等が知られている。 しかしながら、フルフラールの上記誘導体を用
いこれを水素化する方法は、該誘導体製造に高価
な試薬を要し、反応工程が複雑でかつ取扱い困難
なものが殆どであり、工業的製法とはなり難いも
のである。 フルフラールの直接加アンモニア水素化は、フ
ルフラールを別途誘導体化することなしに実施す
る方法であり、工業的に安価なFAMの製法とな
り得る可能性を有しているがその収率は高くな
い。 例えば、米国特許第2109159号明細書によれば、
アンモニア飽和冷エタノールの存在下、フルフラ
ールを直接ラネーNi触媒で水素化し、FAMを製
造する方法が示されているが、その収率は80%以
下であり、多量のジフルフリルアミンが副生して
いる。 又、工業化学雑誌、53,24(1950)によれば、
上記米国特許とほぼ類似の方法で、FAMを最高
収率80%で得ているが、10%以上の高沸点物が副
生している。本文献によれば、反応は次の式の様
に進行すると推定されている。 ここでフルフラールは、アンモニアと容易に反
応し、m.p117℃のフルフリルアミドを生成する。
この為、フルフラール−アンモニア系の水素化反
応においては、生成するフルフルアミドを溶解す
るために、大量の溶媒の存在が必要である。更
に、米国特許第2112715号明細書によれば、この
フルフルアミドは、その融点のところで異性体の
フルフリン、 に異性化するとされており、このフルフリンは、
水素化してもFAMを生成しないと記されている。
従つて、反応温度的に117℃以上の高温は、選択
率の低下が容易に想定される。 このことは、1段で4HFAMの製造を狙つた場
合、テトラヒドロフラン環への水添が、この様な
温度域では進行しにくいことを示している。 上述の米国特許第2112715号明細書には、フル
フルアミドそのものをアンモニア−水−メタノー
ル系で水素化し、FAM製造を行つているが、そ
の収率は60%と低い。 以上の先行技術から、フルフラールを出発原料
とし、FAM及び/又は4HFAMを製造する方法
としては、フルフラール−アンモニア系の水素化
は非常に興味ある方法であるが、しかしながらフ
ルフルアミドを経由して進行するので、 (1) 高沸点物の副生、 (2) 大量の溶媒の必要性、 (3) 反応温度上限の制約によるる直接4HFAM生
成の困難な事、 等の欠点があり、工業的製法としては不充分なも
のであつた。 本発明者らは、FAM及び/又は4HFAMの製
法として、フルフラールを出発原料とし、先に述
べた高価な試薬や取扱い困難な或はその製造自身
困難な誘導体を経ず、かつフルフラールの直接加
アンモニア水素化での欠点を克服することを鋭意
検討し本発明に到達したものである。 即ち、本発明は、フルフラールと第一級アミン
との混合物をアンモニアの存在下液相触媒水素化
してフルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフ
ルフリルアミンを製造する方法において、第一級
アミンがフルフリルアミン及び/又はテトラヒド
ロフルフリルアミンでありかつ触媒がコバルト系
触媒及びニツケル系触媒からなる群から選ばれた
ものであることを特徴とするフルフリルアミン及
び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法
を提供するものである。 本発明の方法によれば、ほぼ定量的にFAMが
製造でき、更に反応条件を適当に選択する事によ
り、4HFAMが直接一段でかつ高収率で製造する
ことができ、しかもそれらの生成速度も速いなど
従来技術の欠点に解消できる。 これは以下に述べるごとく、従来の常識からは
極めて推定困難なことである。即ち、一般にニト
リルの水添に於いて、第二級アミンの副生は、下
に示す様に考えられている。 一方、アルデヒド化合物と第一級アミンは容易
に反応して、アゾメチン化合物(シツフ塩基)を
生成する事は広く知られている。 RCHO+R′NH2→RCH=N−R′+H2O 従つて、前記米国特許第2109159号明細書及び
工業化学雑誌に開示されている通り、フルフラー
ルのアンモニア存在下の水素化において、第二級
アミンであるジフルフリルアミンが副生している
のは上述の反応を経ていることを示唆している。 この様な知見の下で本発明の方法であるフルフ
ラールと第一級アミンとの混合物をアンモニアの
存在下液相接触水素化してFAM及び/又は
4HFAMを高収率かつ高選択率で製造できること
は全く推測できないことである。 又、特公昭58−26902号公報には、炭素数4〜
18を有する脂肪族又は脂環式ジアミンの製法に於
いて、脂肪族、又は脂環式ジアルデヒドを、まず
モノアミンと反応させジアゾメチンとし次いでこ
れをアンモニアの存在下水添してジアミンとする
方法が開示されている。この方法は、モノアミン
として炭素数3〜18を有する直鎖又は分枝脂肪族
モノアミンを使用する点に特徴がある。 しかしながら、上記方法を本発明の方法に適用
した場合、即ち、第一級アミンとして脂肪族アミ
ンを使用してフルフラールと第一級アミンの混合
物をアンモニアの存在下液相接触水素化すると、
第二級アミンであるフルフリルアルキルアミンの
副生が大となる(比較例−8参照)。従つて、
FAM及び/又は4HFAMの収率が極めて優れる
本発明の方法に比較し、上記特特公昭58−26902
号公報に開示された方法は劣つたものである。 本発明の方法に使用される触媒は、パラジウム
等の貴金属触媒等の一般的な水素化触媒を使用で
きるが、好ましい触媒はコバルト系触媒及びニツ
ケル系触媒からなる群から選ばれたものである。
コバルト系触媒及びニツケル系触媒とは、例えば
ラネー触媒(鉄、クロム、マンガン、銅、モリブ
デン、タングステン、レニウム等の助触媒を含ん
でいるものも含む)、還元触媒(コバルト或はニ
ツケルの塩基性炭酸塩、水酸化物、硝酸塩など或
いは酸化物を水素で還元して得られる触媒、この
際担体に担持した形態及び/又は前述の如き助触
媒を含んでいるものをも包含する)などがあげら
れる。 本発明は、第一級アミンとしてフルフリルアミ
ン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンを用
いこれとフルフラールとを混合した後、この混合
物をアンモニアの存在下上述した触媒を用いて液
相接触水素化する必要がある。この場合、フルフ
ラールとFAM及び/又は4HFAMとの混合の割
合は、フルフラールに対しFAM及び/又は
4HFAMが等モル以上であり、好ましくは1〜10
倍モルである。FAM及び/又は4HFAMの量が
これより多くなると対装置収率が低下する。 反応温度は0℃〜300℃、好ましくは20〜200℃
程度である。 アンモニアの使用量は、フルフラールに対し1
〜20倍モル、好ましくは1〜10倍である。 反応圧力はアンモニアの使用量、反応温度でア
ンモニアの蒸気圧が大きく異なるので示しにくい
が、5〜300気圧、好ましくは10〜15気圧である。 本発明の方法によれば、4HFAMが直接1段で
製造することができるが、この場合まずアンモニ
ア/フルフラールが2〜10倍モル及び反応温度が
20〜100℃の条件で反応させてFAM生成を行わ
せ、次いで水素圧及び反応温度を上昇させて水素
分圧を5Kg/cm2以上の条件及び反応温度が70〜
160℃になる反応条件として4HFAMを生成させ
るとより良好な結果を与える。 触媒の使用量は、フルフラールに対し重量で
0.1〜100wt%、好ましくは0.5〜50wt%である。 反応は、連続式でも回分式でも実施する事が出
来る。連続式としては懸濁床、固定床いずれも採
用出来る。 触媒調製例 1 硝酸コバルト(Co(NO3)2・6H2O)150gを
175mlの蒸留水に溶かした水溶液に、重炭酸アン
モニウム(NH4HCO3)141gを650mlの蒸留水に
溶かした水溶液を20〜22℃に保ちながら2時間に
わたつて撹拌状態で滴下し、得られる塩基性炭酸
コバルトの沈殿を過し、蒸留水で充分洗浄して
塩基性炭酸コバルト塩ケーキ(Co含有率9.09重量
%)を得る。このケーキ165g(Coとして15gを
含む)に、過レニウム酸アンモニウム
(NH4REO4)1.96gとモリブデン酸アンモニウム
((NH4)6Mo7O24)6.7gを水溶液の形態で加え充
分に混練した後、80℃前後に加温しながら混練乾
燥する。得られた粉末を100〜110℃でさらに12時
間乾燥し、450℃で1時間空気気流中で処理した
後、300℃で2時間水素気流中で還元処理を行な
つてコバルト−レニウム−モリブデン触媒
(Co:Re:Mo=1:0.03:0.015原子比)を得
る。 触媒調製例 2 ラネ−コバルト−マンガン合金(Co:Mn:Al
=30:3.5:66.5)17gを25%NaOH水溶液85g
中に撹拌しながら室温下で著しい発熱がみられな
いように徐々に加えた後、撹拌状態で50℃に加熱
し、1時間後にデカンテーシヨンを行ない、更に
200mlの温水でデカンテーシヨン洗浄を10回くり
かえし、続いてジオキサン200mlで5回洗浄しラ
ネ−コバルト−マンガン触媒を得た。 触媒調製例 3 ラネ−ニツケル合金(Ni:Al=1:1)を10
g、25%NaOH水溶液を50g使用すること以外
は触媒調製例2と同様に操作してラネ−ニツケル
触媒を得た。 実施例 1 触媒調製例1の触媒を0.2g、溶媒としてジオ
キサン17.2g、原料としてフルフラール1.92g、
アミンとしてFAM1.94gを50c.c.の撹拌機付オー
トクレーブに仕込み、に液体アンモニア2.72gを
加えた後水素を導入して、反応温度75℃、反応圧
力90Kg/cm2、撹拌速度1000rpmで3時間反応を行
なつた。オートクレーブを冷却後、反応物を触媒
と別してガスクロマトグラフで分析した。その
結果を表−1に示す。 実施例 2 触媒量を0.5g、ジオキサンを9.6g、フルフラ
ールを4.80g、FAMを4.85g、液体アンモニア
を3.4gとし、反応圧力を60Kg/cm2にすること以
外は実施例1と同一条件下で反応を行なつて表−
1に示す結果を得た。 実施例 3 触媒量を1.0g、ジオキサンを5.0g、フルフラ
ールを4.80g、アミンとして4HFAMを10.12g、
液体アンモニアを1.1gとし、反応温度を100℃、
反応圧力を30Kg/cm2、反応時間を5時間とするこ
と以外は実施例1と同一条件下で反応を行なつて
表−1に示す結果を得た。 比較例 1 アミンを使しないこと以外は実施例1と同一条
件下で反応を行なつて表−1に示む結果を得た。 比較例 2 アミンを使用せず、ジオキサンを15.0gとする
こと以外は実施例2と同一条件下で反応を行なつ
て表−1に示す結果を得た。 比較例 3 溶媒としてエチルアルコールを使用し、液体ア
ンモニアを2.55g使用すること以外は比較例2と
同一条件下で反応を行なつて表−1に示す結果を
得た。 比較例 4 触媒調製例 3の触媒を使用するこを以外は比
較例3と同一条件下で反応を行なつて表−1に示
す結果を得た。 比較例 5 触媒調製例2の触媒を使用すること以外は比較
例1と同一条件下で反応を行なつ表−1に示す結
果を得た。
ドロフルフリルアミンの製造法に関するものであ
る。 本発明の方法によれば、フルフリルアミン
(FAMと略記することがある)及び/又はテトラ
ヒドロフルフリルアミン(4HFAMと略記するこ
とがある)を収率よく製造することができる。 フルフリルアミン及びテトラヒドロフルフリル
アミンは、医薬、農薬、繊維等の中間原料として
有用な化合物である。 フルフリルアミンの製法は、フルフラールフエ
ニルヒドラジン、フルフラールオキシム、フルフ
リルアジド又はフロニトリル等を水素化する方
法、フルフラールをアンモニアの存在下直接水素
化する方法等が知られている。 しかしながら、フルフラールの上記誘導体を用
いこれを水素化する方法は、該誘導体製造に高価
な試薬を要し、反応工程が複雑でかつ取扱い困難
なものが殆どであり、工業的製法とはなり難いも
のである。 フルフラールの直接加アンモニア水素化は、フ
ルフラールを別途誘導体化することなしに実施す
る方法であり、工業的に安価なFAMの製法とな
り得る可能性を有しているがその収率は高くな
い。 例えば、米国特許第2109159号明細書によれば、
アンモニア飽和冷エタノールの存在下、フルフラ
ールを直接ラネーNi触媒で水素化し、FAMを製
造する方法が示されているが、その収率は80%以
下であり、多量のジフルフリルアミンが副生して
いる。 又、工業化学雑誌、53,24(1950)によれば、
上記米国特許とほぼ類似の方法で、FAMを最高
収率80%で得ているが、10%以上の高沸点物が副
生している。本文献によれば、反応は次の式の様
に進行すると推定されている。 ここでフルフラールは、アンモニアと容易に反
応し、m.p117℃のフルフリルアミドを生成する。
この為、フルフラール−アンモニア系の水素化反
応においては、生成するフルフルアミドを溶解す
るために、大量の溶媒の存在が必要である。更
に、米国特許第2112715号明細書によれば、この
フルフルアミドは、その融点のところで異性体の
フルフリン、 に異性化するとされており、このフルフリンは、
水素化してもFAMを生成しないと記されている。
従つて、反応温度的に117℃以上の高温は、選択
率の低下が容易に想定される。 このことは、1段で4HFAMの製造を狙つた場
合、テトラヒドロフラン環への水添が、この様な
温度域では進行しにくいことを示している。 上述の米国特許第2112715号明細書には、フル
フルアミドそのものをアンモニア−水−メタノー
ル系で水素化し、FAM製造を行つているが、そ
の収率は60%と低い。 以上の先行技術から、フルフラールを出発原料
とし、FAM及び/又は4HFAMを製造する方法
としては、フルフラール−アンモニア系の水素化
は非常に興味ある方法であるが、しかしながらフ
ルフルアミドを経由して進行するので、 (1) 高沸点物の副生、 (2) 大量の溶媒の必要性、 (3) 反応温度上限の制約によるる直接4HFAM生
成の困難な事、 等の欠点があり、工業的製法としては不充分なも
のであつた。 本発明者らは、FAM及び/又は4HFAMの製
法として、フルフラールを出発原料とし、先に述
べた高価な試薬や取扱い困難な或はその製造自身
困難な誘導体を経ず、かつフルフラールの直接加
アンモニア水素化での欠点を克服することを鋭意
検討し本発明に到達したものである。 即ち、本発明は、フルフラールと第一級アミン
との混合物をアンモニアの存在下液相触媒水素化
してフルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフ
ルフリルアミンを製造する方法において、第一級
アミンがフルフリルアミン及び/又はテトラヒド
ロフルフリルアミンでありかつ触媒がコバルト系
触媒及びニツケル系触媒からなる群から選ばれた
ものであることを特徴とするフルフリルアミン及
び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法
を提供するものである。 本発明の方法によれば、ほぼ定量的にFAMが
製造でき、更に反応条件を適当に選択する事によ
り、4HFAMが直接一段でかつ高収率で製造する
ことができ、しかもそれらの生成速度も速いなど
従来技術の欠点に解消できる。 これは以下に述べるごとく、従来の常識からは
極めて推定困難なことである。即ち、一般にニト
リルの水添に於いて、第二級アミンの副生は、下
に示す様に考えられている。 一方、アルデヒド化合物と第一級アミンは容易
に反応して、アゾメチン化合物(シツフ塩基)を
生成する事は広く知られている。 RCHO+R′NH2→RCH=N−R′+H2O 従つて、前記米国特許第2109159号明細書及び
工業化学雑誌に開示されている通り、フルフラー
ルのアンモニア存在下の水素化において、第二級
アミンであるジフルフリルアミンが副生している
のは上述の反応を経ていることを示唆している。 この様な知見の下で本発明の方法であるフルフ
ラールと第一級アミンとの混合物をアンモニアの
存在下液相接触水素化してFAM及び/又は
4HFAMを高収率かつ高選択率で製造できること
は全く推測できないことである。 又、特公昭58−26902号公報には、炭素数4〜
18を有する脂肪族又は脂環式ジアミンの製法に於
いて、脂肪族、又は脂環式ジアルデヒドを、まず
モノアミンと反応させジアゾメチンとし次いでこ
れをアンモニアの存在下水添してジアミンとする
方法が開示されている。この方法は、モノアミン
として炭素数3〜18を有する直鎖又は分枝脂肪族
モノアミンを使用する点に特徴がある。 しかしながら、上記方法を本発明の方法に適用
した場合、即ち、第一級アミンとして脂肪族アミ
ンを使用してフルフラールと第一級アミンの混合
物をアンモニアの存在下液相接触水素化すると、
第二級アミンであるフルフリルアルキルアミンの
副生が大となる(比較例−8参照)。従つて、
FAM及び/又は4HFAMの収率が極めて優れる
本発明の方法に比較し、上記特特公昭58−26902
号公報に開示された方法は劣つたものである。 本発明の方法に使用される触媒は、パラジウム
等の貴金属触媒等の一般的な水素化触媒を使用で
きるが、好ましい触媒はコバルト系触媒及びニツ
ケル系触媒からなる群から選ばれたものである。
コバルト系触媒及びニツケル系触媒とは、例えば
ラネー触媒(鉄、クロム、マンガン、銅、モリブ
デン、タングステン、レニウム等の助触媒を含ん
でいるものも含む)、還元触媒(コバルト或はニ
ツケルの塩基性炭酸塩、水酸化物、硝酸塩など或
いは酸化物を水素で還元して得られる触媒、この
際担体に担持した形態及び/又は前述の如き助触
媒を含んでいるものをも包含する)などがあげら
れる。 本発明は、第一級アミンとしてフルフリルアミ
ン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンを用
いこれとフルフラールとを混合した後、この混合
物をアンモニアの存在下上述した触媒を用いて液
相接触水素化する必要がある。この場合、フルフ
ラールとFAM及び/又は4HFAMとの混合の割
合は、フルフラールに対しFAM及び/又は
4HFAMが等モル以上であり、好ましくは1〜10
倍モルである。FAM及び/又は4HFAMの量が
これより多くなると対装置収率が低下する。 反応温度は0℃〜300℃、好ましくは20〜200℃
程度である。 アンモニアの使用量は、フルフラールに対し1
〜20倍モル、好ましくは1〜10倍である。 反応圧力はアンモニアの使用量、反応温度でア
ンモニアの蒸気圧が大きく異なるので示しにくい
が、5〜300気圧、好ましくは10〜15気圧である。 本発明の方法によれば、4HFAMが直接1段で
製造することができるが、この場合まずアンモニ
ア/フルフラールが2〜10倍モル及び反応温度が
20〜100℃の条件で反応させてFAM生成を行わ
せ、次いで水素圧及び反応温度を上昇させて水素
分圧を5Kg/cm2以上の条件及び反応温度が70〜
160℃になる反応条件として4HFAMを生成させ
るとより良好な結果を与える。 触媒の使用量は、フルフラールに対し重量で
0.1〜100wt%、好ましくは0.5〜50wt%である。 反応は、連続式でも回分式でも実施する事が出
来る。連続式としては懸濁床、固定床いずれも採
用出来る。 触媒調製例 1 硝酸コバルト(Co(NO3)2・6H2O)150gを
175mlの蒸留水に溶かした水溶液に、重炭酸アン
モニウム(NH4HCO3)141gを650mlの蒸留水に
溶かした水溶液を20〜22℃に保ちながら2時間に
わたつて撹拌状態で滴下し、得られる塩基性炭酸
コバルトの沈殿を過し、蒸留水で充分洗浄して
塩基性炭酸コバルト塩ケーキ(Co含有率9.09重量
%)を得る。このケーキ165g(Coとして15gを
含む)に、過レニウム酸アンモニウム
(NH4REO4)1.96gとモリブデン酸アンモニウム
((NH4)6Mo7O24)6.7gを水溶液の形態で加え充
分に混練した後、80℃前後に加温しながら混練乾
燥する。得られた粉末を100〜110℃でさらに12時
間乾燥し、450℃で1時間空気気流中で処理した
後、300℃で2時間水素気流中で還元処理を行な
つてコバルト−レニウム−モリブデン触媒
(Co:Re:Mo=1:0.03:0.015原子比)を得
る。 触媒調製例 2 ラネ−コバルト−マンガン合金(Co:Mn:Al
=30:3.5:66.5)17gを25%NaOH水溶液85g
中に撹拌しながら室温下で著しい発熱がみられな
いように徐々に加えた後、撹拌状態で50℃に加熱
し、1時間後にデカンテーシヨンを行ない、更に
200mlの温水でデカンテーシヨン洗浄を10回くり
かえし、続いてジオキサン200mlで5回洗浄しラ
ネ−コバルト−マンガン触媒を得た。 触媒調製例 3 ラネ−ニツケル合金(Ni:Al=1:1)を10
g、25%NaOH水溶液を50g使用すること以外
は触媒調製例2と同様に操作してラネ−ニツケル
触媒を得た。 実施例 1 触媒調製例1の触媒を0.2g、溶媒としてジオ
キサン17.2g、原料としてフルフラール1.92g、
アミンとしてFAM1.94gを50c.c.の撹拌機付オー
トクレーブに仕込み、に液体アンモニア2.72gを
加えた後水素を導入して、反応温度75℃、反応圧
力90Kg/cm2、撹拌速度1000rpmで3時間反応を行
なつた。オートクレーブを冷却後、反応物を触媒
と別してガスクロマトグラフで分析した。その
結果を表−1に示す。 実施例 2 触媒量を0.5g、ジオキサンを9.6g、フルフラ
ールを4.80g、FAMを4.85g、液体アンモニア
を3.4gとし、反応圧力を60Kg/cm2にすること以
外は実施例1と同一条件下で反応を行なつて表−
1に示す結果を得た。 実施例 3 触媒量を1.0g、ジオキサンを5.0g、フルフラ
ールを4.80g、アミンとして4HFAMを10.12g、
液体アンモニアを1.1gとし、反応温度を100℃、
反応圧力を30Kg/cm2、反応時間を5時間とするこ
と以外は実施例1と同一条件下で反応を行なつて
表−1に示す結果を得た。 比較例 1 アミンを使しないこと以外は実施例1と同一条
件下で反応を行なつて表−1に示む結果を得た。 比較例 2 アミンを使用せず、ジオキサンを15.0gとする
こと以外は実施例2と同一条件下で反応を行なつ
て表−1に示す結果を得た。 比較例 3 溶媒としてエチルアルコールを使用し、液体ア
ンモニアを2.55g使用すること以外は比較例2と
同一条件下で反応を行なつて表−1に示す結果を
得た。 比較例 4 触媒調製例 3の触媒を使用するこを以外は比
較例3と同一条件下で反応を行なつて表−1に示
す結果を得た。 比較例 5 触媒調製例2の触媒を使用すること以外は比較
例1と同一条件下で反応を行なつ表−1に示す結
果を得た。
【表】
上記実験結果から本発明の方法は、フルフラー
ルの直接アンモニア水素化法よりもはるかに収率
が高い。また本発明の方法はほとんど化学量論量
のアンモニアおよび少量の溶媒使用でも極めて高
い収率を示し、本発明の方法の優れていることが
明らかである。 実施例 4 液体アンモニアを1.1gとし反応温度を150℃、
反応圧力を80Kg/cm2、反応時間を8時間とするこ
と以外は実施例2と同一条件下で反応を行なつて
表−2に示す結果を得た。 実施例 5 触媒調製例3の触媒を0.5g使用し、反応温度
を150℃、反応時間を6時間とすること以外は実
施例3と同一条件下で反応を行なつて表−2に示
す結果を得た。 実施例 6 触媒調製例2の触媒を使用し、反応圧力を40
Kg/cm2、反応時間を4時間とすること以外は実施
例5と同一条件下で反応を行なつて表−2に示す
結果を得た。 比較例 6 アミンを使用せず、触媒量を1.0g、フルフラ
ールを9.6g、ジオキサンを14.4g、液体アンモ
ニアを2.2g使用し、反応時間を4時間とするこ
と以外は実施例4と同一条件下で反応を行なつて
表−2に示す結果を得た。 比較例 7 触媒として触媒調製例3の触媒、溶媒としてエ
チルアルコールを使用すること以外は比較例6と
同一条件下で反応を行なつて表−2に示す結果を
得た。
ルの直接アンモニア水素化法よりもはるかに収率
が高い。また本発明の方法はほとんど化学量論量
のアンモニアおよび少量の溶媒使用でも極めて高
い収率を示し、本発明の方法の優れていることが
明らかである。 実施例 4 液体アンモニアを1.1gとし反応温度を150℃、
反応圧力を80Kg/cm2、反応時間を8時間とするこ
と以外は実施例2と同一条件下で反応を行なつて
表−2に示す結果を得た。 実施例 5 触媒調製例3の触媒を0.5g使用し、反応温度
を150℃、反応時間を6時間とすること以外は実
施例3と同一条件下で反応を行なつて表−2に示
す結果を得た。 実施例 6 触媒調製例2の触媒を使用し、反応圧力を40
Kg/cm2、反応時間を4時間とすること以外は実施
例5と同一条件下で反応を行なつて表−2に示す
結果を得た。 比較例 6 アミンを使用せず、触媒量を1.0g、フルフラ
ールを9.6g、ジオキサンを14.4g、液体アンモ
ニアを2.2g使用し、反応時間を4時間とするこ
と以外は実施例4と同一条件下で反応を行なつて
表−2に示す結果を得た。 比較例 7 触媒として触媒調製例3の触媒、溶媒としてエ
チルアルコールを使用すること以外は比較例6と
同一条件下で反応を行なつて表−2に示す結果を
得た。
【表】
4HFAM生成においても、本発明は高い収率を
示すが、フルフラールの直接加アンモニア水素化
法は高沸点物副生のため選択率が悪く、このため
と考えられるが、フラン環の水添も抑制され、非
常に低収率しか示さない。 実施例 7 反応温度100℃、反応圧力20Kg/cm2で5時間反
応させた後、反応温度150℃、反応圧力50Kg/cm2
で6時間反応させること以外は実施例3と同一条
件下で反応を行なつた。オートクレーブを冷却
後、反応物を触媒と別してガスクロマトグラフ
で分析した。その結果、仕込みフルフラールあた
りの収率は、FAM0%、4HFAM93%であつた。 実施例 8 触媒調製例1の触媒を0.5g、溶媒としてジオ
キサン5.0g、原料フルフラール4.8g、
4HFAM10.12g〔フルフラール/4HFAM=1/2
(モル比)〕、液体アンモニア1.1g〔アンモニア/
フルフラール=1.3(モル比)〕、反応温度100℃、
反応圧力20Kg/cm2、反応時間5時間とした以外は
実施例1と同様に反応を行い、反応物を分析し
た。その結果仕込みフルフラール当りの収率で
FAM収率80%、4HFAM収率9%、ジフルフリ
ルアミン収率2%であつた。 比較例 8 4HFAM0.12gの代りにn−アミルアミン8.71
g〔フルフラール/n−アミルアミン=1/2(モ
ル比)〕とした以外は実施例8と同様に反応を行
い、反応物を分析した。その結果、仕込みフルフ
ラール当りの収率でFAM収率60%、4HFAM収
率0%、ジフルフリルアミン収率6%、n−アミ
ル−フルフリルアミン収率33%であつた。
示すが、フルフラールの直接加アンモニア水素化
法は高沸点物副生のため選択率が悪く、このため
と考えられるが、フラン環の水添も抑制され、非
常に低収率しか示さない。 実施例 7 反応温度100℃、反応圧力20Kg/cm2で5時間反
応させた後、反応温度150℃、反応圧力50Kg/cm2
で6時間反応させること以外は実施例3と同一条
件下で反応を行なつた。オートクレーブを冷却
後、反応物を触媒と別してガスクロマトグラフ
で分析した。その結果、仕込みフルフラールあた
りの収率は、FAM0%、4HFAM93%であつた。 実施例 8 触媒調製例1の触媒を0.5g、溶媒としてジオ
キサン5.0g、原料フルフラール4.8g、
4HFAM10.12g〔フルフラール/4HFAM=1/2
(モル比)〕、液体アンモニア1.1g〔アンモニア/
フルフラール=1.3(モル比)〕、反応温度100℃、
反応圧力20Kg/cm2、反応時間5時間とした以外は
実施例1と同様に反応を行い、反応物を分析し
た。その結果仕込みフルフラール当りの収率で
FAM収率80%、4HFAM収率9%、ジフルフリ
ルアミン収率2%であつた。 比較例 8 4HFAM0.12gの代りにn−アミルアミン8.71
g〔フルフラール/n−アミルアミン=1/2(モ
ル比)〕とした以外は実施例8と同様に反応を行
い、反応物を分析した。その結果、仕込みフルフ
ラール当りの収率でFAM収率60%、4HFAM収
率0%、ジフルフリルアミン収率6%、n−アミ
ル−フルフリルアミン収率33%であつた。
Claims (1)
- 1 フルフラールと第一級アミンとの混合物をア
ンモニアの存在下液相接触水素化してフルフリル
アミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミン
を製造する方法において、第一級アミンがフルフ
リルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルア
ミンでありかつ触媒がコバルト系触媒及びニツケ
ル系触媒からなる群から選ばれたものであること
を特徴とするフルフリルアミン及び/又はテトラ
ヒドロフルフリルアミンの製造法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59000581A JPS60146885A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法 |
US06/686,903 US4598159A (en) | 1984-01-06 | 1984-12-27 | Process for producing furfurylamine and/or tetrahydrofurfurylamine |
CN 85102112 CN1014892B (zh) | 1984-01-06 | 1985-04-01 | 生产哌啶的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59000581A JPS60146885A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60146885A JPS60146885A (ja) | 1985-08-02 |
JPH0449549B2 true JPH0449549B2 (ja) | 1992-08-11 |
Family
ID=11477677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59000581A Granted JPS60146885A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4598159A (ja) |
JP (1) | JPS60146885A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4937237A (en) * | 1988-12-23 | 1990-06-26 | Smithkline Beckman Corporation | Phosphinic acid substituted aromatic steroids as inhibitors of steroid 5-60 -reductase |
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