JPS60146885A - フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法 - Google Patents

フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法

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JPS60146885A
JPS60146885A JP59000581A JP58184A JPS60146885A JP S60146885 A JPS60146885 A JP S60146885A JP 59000581 A JP59000581 A JP 59000581A JP 58184 A JP58184 A JP 58184A JP S60146885 A JPS60146885 A JP S60146885A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフ
ルフリルアミンの製造法に関するものでちる。
本発明の方法によれば、フルフリルアミン(FAMと略
記することがある)及び/又はテトラヒドロフルフリル
アミン(4HFAMと略記することがある)を収率よく
製造することができる。
フルフリルアミン及びテトラヒドロフルフリルアミンは
、医薬、農薬、繊維等の中間原料として有用な化合物で
ある。
フルフリルアミンの製法は、フルフラールフェニルヒト
ララン、フルフラールオキシム、フルフリルアジド又は
フロニトリル等を水素化する方法、フルフラールをアン
モニアの存在下直接水素化する方法等が知られている。
しかしながら、フルフラールの上記誘導体を用いこれを
水素化する方法は、該誘導体製造に高価な試薬を要し、
反応工程が複雑でかつ取扱い困難なものが殆どであシ、
工業的製法とはなシ難いものである。
フルフラールの直接加アンモニア水素化は、フルフラー
ルを別途誘導体化することなしに実施する方法であり、
工業的に安価なFAMの製法となシ得る可能性を有して
いるがその収率は高くない。
例えば、米国特許第2,109,159号明細書によれ
ば、アンモニア飽和冷エタノールの存在下、フルフラー
ルを直接ラネーNi触媒で水素化し、FAMを製造する
方法が示されているが、その収率は80%以下であシ、
多量のジフルフリルアミンが副生じている。
又、工業化学雑誌、lユ、24(1950)によれば、
上記米国特許とほぼ類似の方法で、FAMを最高収率8
0%で得ているが、10%以上の高沸点物が副生じてい
る。本文献によれば、反応は次の式の様に進行すると推
定されている。
ここでフルフラールは、アンモニアと容易に反応し、m
、pH7℃のフルフルアミドを生成する。
この為、フルフラール−アンモニア系の水素化反応にお
いては、生成するフルフルアミドを溶解するために、大
量の溶媒の存在が必要である。更に、米国特許第2,1
12,715号明細書によれば、このフルフルアミドは
、その融点のところで異性体のフルフリン、 に異性化するとされておシ、このフルフリンは、水素化
してもFAMを生成しないと記されている。
従って、反応温度的に117℃以上の高温は、選択率の
低下が容易に想定される。
このことは、1段で4HFAMの製造を狙った場合、テ
トラヒドロ7ラン環への水添が、この様な温度域では進
行しにくいことを示している。
上述の米国特許第2.112,715号明細書には、フ
ルフリルアミンそのものをアンモニア−水−メタノール
系で水素化し、FAM製造を行っているが、その収率は
60%と低い。
以上の先行技術から、フルフラールを出発原料とし、F
AM及び/又は4HFAMを製造する方法としくは、フ
ルフラール−アンモニア系の水素化は非常に興味ある方
法であるが、しかしながらフルフルアミドを経由して進
行するので、(1)、高沸点物の副生、 (2)、大量の溶媒の必要性、 (3)0反応温度上限の制約による直接4HFAM生成
の困難な事、 等の欠点があり、工業的製法としては不充分なものであ
った。
本発明者らは、FAM及び/又は4HFAMの製法とし
て、フルフラールを出発原料とし、先に述べた高価な試
薬や取扱い困難な或はその製造自身困難な誇導体を経ず
、かつフルフラールの直接加アンモニア水素化での欠点
を克服することを鋭意検討し本発明に到達したものであ
る。
即ち、本発明は、フルフラールと第一級アミンとの混合
物をアンモニアの存在下液相接触水素化してフルフリル
アミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンを製造
する方法において、第一級アミンがフルフラールアミン
及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンでありかつ触
媒がコバルト系触媒及びニッケル系触媒からなる群から
選ばれたものであることを特徴とするフルフリルアミン
及 。
び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法を提供
するものである。
本発明の方法によれば、はぼ定量的にFAMが製造、で
き、更に反応条件を適当に選択する事により、4HFA
Mが直接一段でかつ高収率で製造することができ、しか
もそれらの生成速度も速いなど従来技術の欠点を解消で
きる。
これは以下に述べるごとく、従来の常識からは極めて推
定困難なととである。即ち、一般にニトリルの水添に於
いて、第二級アミンの副生は、下に示す様に考えられて
いる。
(以下余白) RCH=NH+RCH2NH2−シRCH−NH2I ■ 一方、アルデヒド化合物と第一級アミンは容易に反応し
て、アゾメチン化合物(シック塩基)を生成する事は広
く知られている。
RCHO+ RNH2−〉RCH=N−R十H20従っ
て、前記米国特許第2,109,159号明細書及び工
業化学雑誌に開示されている通シ、フルフラールのアン
モニア存在下の水素化において、第二級アミンであるジ
フルフリルアミンが副生じているのは上述の反応を経て
いることを示唆している。
この様な知見の下で本発明の方法であるフルフラールと
第一級アミンとの混合物をアンモニアの存在下液相接触
水素化してFAM及び/又は4HFAMを高収率かつ高
選択率で製造できることは全く推測できないことである
又、特公昭58−26.902号公報には、炭素数4〜
18を有する脂肪族又は脂環式ジアミンの製法に於いて
、脂肪族、又は脂環式ジアルデヒl’を、まずモノアミ
ンと反応させジアゾメチンとし、次いでこれをアンモニ
アの存在下水添してジアミンとする方法が開示されてい
る。乙の方法は、モノアミンとして炭素数3〜18を有
する直鎖又は分枝脂肪族モノアミンを使用する点に特徴
がある。
しかしながら、上記方法を本発明の方法に適用した場合
、即ち、第一級アミンとして脂肪族アミンを使用してフ
ルフラールと第一級アミンの混合物をアンモニアの存在
下液相接触水素化すると、第二級アミンであるフルフリ
ルアルキルアミンの副生が大となる(比較例−8参照)
。従って、FAM及び/又は4HFAMの収率が極めて
優れる本発明の方法に比較し、上記特公昭58−269
02号公報に開示された方法は劣ったものである。
本発明の方法に使用される触媒は、パラジウム等の貴金
属触媒等の一般的な水素化触媒を使用できるが、好まし
い触媒はコバルト系触媒及びニッケル系触媒からなる群
から選ばれたものである。
コバルト系触媒及びニッケル系触媒とは、例、えばラネ
ー触媒(鉄、クロム、マンガン、銅、モリブデン、タン
グステン、レニウム等の助触媒を含んでいるものも含む
)、還元触媒(コバルト或はニッケルの塩基性炭酸塩、
水酸化物、硝酸塩など或いは酸化物を水素で還元して得
られる触媒、この際担体に担持した形態及び/又は前述
の如き助触媒を含んでいるものをも包含する)などがあ
げられる。
本発明は、第一級アミンとしてフルフリルアミン及び/
又はテトラヒドロフルフリルアミンを用いこれとフルフ
ラールとを混合した後、この混合物をアンモニアの存在
下上述した触媒を用いて液相接触水素化する必要がある
。この場合、フルフラールとFAM及び/又は4HFA
Mとの混合の割合は、フルフラールに対しFAM及び/
又は4HFAMが等モル以上であシ、好ましくは1〜1
0倍モルである。FAM及び/又は4HFAMの量がこ
れよシ多くなると対装置収率が低下する。
反応温度はθ℃〜300℃、好ましくは20〜200℃
程度である。
アンモニアの使用量は、フルフラールに対し1□〜20
倍モル、好ましくは1〜10倍モルである。
反応圧力はアンモニアの使用量、反応温度でアンモニア
の蒸気圧が大きく異なるので示しにくいが、5〜300
気圧、好ましくは10〜150気圧である。
本発明の方法によれば、4HFAMが直接1段で製造す
ることができるが、この場合まずアンモニア/フルフラ
ールが2〜10倍モル及び反応温度が20〜100℃の
条件で反応させてFAM生成を行わせ、次いで水素圧及
び反応温度を上昇させて水素分圧をsb/cd以上の条
件及び反応温度が70〜160℃なる反応条件として4
HF’AMを生成させるとよシ良好な結果を与える。
触媒の使用量は、フルフラールに対し重量で0.1−1
−1oo*、好ましくは0.5〜50 wt%である。
反応は、連続式でも回分式でも実施する事が出来る。連
続式としては懸濁床、固定床いずれも採用出来る。
触媒調製例−1 硝酸コバルト(Co(NO3)z・6H20) 15ν
を175m1の蒸留水に溶かした水溶液に、重炭酸アン
モニウム(NH4HCO3) 141 tを650ゴの
蒸留水に溶かした水溶液を20〜22℃に保ちながら2
時間にわたって攪拌状態で滴下し、得られる塩基性炭酸
コバルトの沈殿を濾過し、蒸留水で充分洗浄して塩基性
炭酸コバルト塩ケーキ(Co含有率9.09重量%)を
得る。このケーキ1657(Coとして152を含む)
に、過レニウム酸アンモニウム(N&Re04) 1.
96 fとモリブデン酸アンモニウム((NH4)6M
O7024) 6.7 fを水溶液の形態で加え充分に
混練した後、80℃前後に加温しながら混線乾燥する。
得られた粉末を100〜110℃でさらに12時間乾燥
し、450℃で1時間空気気流中で処理した後、300
℃で2時間水素気流中で還元処理を行なってコバルト−
レニウム−モリブデン触媒(Co : Re 二Mo 
= 1 : 0.03: 0.015原子比)を得る。
触媒調製例−2 ラネーコバルト−マンガン合金(Co : Mn : 
Al= 30 ・3.5 : 66.5 ) 17 y
を2s%NaOH水溶液851P中に攪拌しながら室温
下で著しい発熱がみられないように徐々に加えた後、攪
拌状態で50℃に加熱し、1時間後にデカンテーション
を行ない、更に200dの温水でデカンテーション洗浄
を10回くシかえし、続いてジオキサン200m1で5
回洗浄しラネーコバルト−マンガン触媒を得た。
触媒調製例−3 ラネーニッケル合金(Ni :At=1 : 1 )を
102.25%NaOH水溶液を50?使用すること以
触媒を得た。
実施例−1 触媒調製例−1の触媒を0.2 f、溶媒としてジオキ
サン17.2 f、原料としてフルフラール1.92?
、アミンとして)i’AM1.94fを50CCの攪拌
機付オートクレーブに仕込み、更に液体アンモニア2.
729を加えた後水素を導入して、反応温度75℃、反
応圧力90 Kflal、攪拌速度1000、rpmで
3時間反応を行なった。オートクレーブを冷却後、反応
物を触媒と炉別してガスクロマトグラフで分析した。そ
の結果を表−1に示す。
実施例−2 触媒量を0.5r、ジオキ茗ンを9.69. フルフラ
ールを4.809XFAMを4.85 f、液体アンモ
ニアを3.42とし、反応圧力を60Ky/cflにす
ること以外は実施例−1と同一条件下で反応を行なって
表−1に示す結果を得た。
実施例−3 触媒量を1.Or、ジオキサンを5.01F、フルフラ
ールを4.80 f、アミンとして4HFAMを10.
12 F、液体アンモニアを1.1tとし、反応温度を
100℃、反応圧力をaoKg/cdl、反応時間を5
時間とすること以外は実施例−1と同一条件下で反応を
行なって表−1に示す結果を得だ。
比較例−1 アミンを使用しないこと以外は実施例−1と同一条件下
で反応を行なって表−1に示す結果を得た。
比較例−2 アミンを使用せず、ジオキサンを15.Ofとすること
以外は実施例−2と同一条件下で反応を行なって表−1
に示す結果を得た。
比較例−3 溶媒としてエチルアルコールを使用し、液体アンモニア
を2.55 ?使用すること以外は比較例−2と同一条
件下で反応を行なって表−1に示す結果を得た。
比較例−4 触媒調製例−3の触媒を使用すること以外は比較例−3
と同一条件下で反応を行なって表−1に示す結果を得た
比較例−5 触媒調製例−2の触媒を使用すること以外は比較例−1
と同一条件下で反応を行なって表−1に示す結果を得た
(以下余白) 上記実験結果から本発明の方法は、フルフラールの直接
加アンモニア水素化法よシもはるかに収率が高い。また
本発明の方法はほとんど化学量論量のアンモニアおよび
少量の溶媒使用でも極めて高い収率を示し、本発明の方
法の優れていることが明らかでちる。
実施例−4 液体アンモニアを1.12とし反応温度を150℃、反
応圧力をs o K9 / cl %反応時間を8時間
とすること以外は実施例−2と同一条件下で反応を行な
って表−2に示す結果を得た。
実施例−5 触媒調製例−3の触媒を0.52使用し、反応温度を1
50℃、反応時間を6時間とすること以外は実施例−3
と同一条件下で反応を行なって表−2に示す結果を得た
実施例−6 触媒調製例−2の触媒を使用し、反応圧力を40に7 
/ cl、反応時間を4時間とすること以外は実施例−
5と同一条件下で反応を行なって表−2に示す結果を得
た。
比較例−6 アミンを使用せず、触媒量を1.Of、フルフラールを
9.69、ジオキサンを14.49、液体アンモニアを
2.2f使用し、反応時間を4時間とすること以外は実
施例−4と同一条件下で反応を行なって表−2に示す結
果を得た。
ルアルコールを使用すること以外は比較例−6と同一条
件下で反応を行なって表−2に示す結果を得だ。
(以下余白) 4HFAM生成においても、本発明は高い収率を示すが
、フルフラールの直接加アンモニア水素化法は高沸点物
副生のため選択率が悪く、このためと考えられるが、フ
ラン環の水添も抑制され、非常に低収率しか示さない。
実施例−7 反応温度100℃、反応圧力2oKy/crjで5時間
反応させた後、反応温度150℃、反応圧力50Ky 
/ cdで6時間反応させること以外は実施例−3と同
一条件下で反応を行なった。オートクレーブを冷却後、
反応物を触媒と戸別してガスクロマトグラフ5で分析し
た。その結果、仕込みフルフラールあたりの収率は、F
AMO%、4HFAM93%であった。
実施例−8 触媒調製例−1の触媒を帆52、溶媒としてジオキサン
5.Of、原料フルフラール4.82.4HFAMI 
O−12f (フルフラール/4HFAM−1/2(モ
ル比)〕、液体アンモニア1.1 y (アンモニア/
フルフラール=1.3(モル比)〕、反応温度100℃
、反応圧力20 Kg / d−、反応時間5時間とし
た以外は実施例−1と同様に反応を行い、反応物を分析
した。その結果仕込みフルフラール当シの収率でFAM
収率87%、4HFAM収率9%、ジフルフリルアミン
収率2%であった。
比較例−8 4HFAMI O,j2rの代りにn−7ミルアミン8
.71 t Cフルフラール当n−アミルアミン=1/
/!(モル比)〕とした以外は実施例−8と同様に反応
を行い、反応物を分析した。その結果、仕込みフルフラ
ール当りの収率でFAM収率60%4HFAM収率0%
、ジフルフリルアミン収率6%、n−アミル−フルフリ
ルアミン収率33%であった。
特許出願人 三菱油化株式会社 代理人 弁理士 古 川 秀 利 代理人 弁理士 長 谷 正 久

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) フルフラールと第一級アミンとの混合物をアン
    モニアの存在下液相接触水素化してフルフリルアミン及
    び/又はテトラヒドロフルフリルアミンを製造する方法
    において、第一級アミンがフルフリルアミン及び/又は
    テトラヒドロフルフリルアミンでアシかつ触媒がコバル
    ト系触媒及びニッケル系触媒からなる群から選ばれたも
    のであることを特徴とするフルフリルアミン及び/又は
    テトラヒドロフルフリルアミンの製造法。
JP59000581A 1984-01-06 1984-01-06 フルフリルアミン及び/又はテトラヒドロフルフリルアミンの製造法 Granted JPS60146885A (ja)

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