JP2008504579A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008504579A5
JP2008504579A5 JP2007518496A JP2007518496A JP2008504579A5 JP 2008504579 A5 JP2008504579 A5 JP 2008504579A5 JP 2007518496 A JP2007518496 A JP 2007518496A JP 2007518496 A JP2007518496 A JP 2007518496A JP 2008504579 A5 JP2008504579 A5 JP 2008504579A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
axis
leaf spring
optical element
adjusting
joints
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007518496A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2008504579A (ja
JP4532545B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/EP2005/006583 external-priority patent/WO2006000352A1/de
Publication of JP2008504579A publication Critical patent/JP2008504579A/ja
Publication of JP2008504579A5 publication Critical patent/JP2008504579A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4532545B2 publication Critical patent/JP4532545B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2007518496A 2004-06-29 2005-06-18 光学素子のための位置決めユニット及び調節デバイス Expired - Fee Related JP4532545B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US58409504P 2004-06-29 2004-06-29
PCT/EP2005/006583 WO2006000352A1 (de) 2004-06-29 2005-06-18 Positioniereinheit und vorrichtung zur justage für ein optisches element

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010076382A Division JP4851608B2 (ja) 2004-06-29 2010-03-29 光学素子の位置決めユニット

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008504579A JP2008504579A (ja) 2008-02-14
JP2008504579A5 true JP2008504579A5 (enExample) 2008-09-11
JP4532545B2 JP4532545B2 (ja) 2010-08-25

Family

ID=34970274

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007518496A Expired - Fee Related JP4532545B2 (ja) 2004-06-29 2005-06-18 光学素子のための位置決めユニット及び調節デバイス
JP2010076382A Expired - Fee Related JP4851608B2 (ja) 2004-06-29 2010-03-29 光学素子の位置決めユニット

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010076382A Expired - Fee Related JP4851608B2 (ja) 2004-06-29 2010-03-29 光学素子の位置決めユニット

Country Status (3)

Country Link
US (8) US7738193B2 (enExample)
JP (2) JP4532545B2 (enExample)
WO (1) WO2006000352A1 (enExample)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006000352A1 (de) 2004-06-29 2006-01-05 Carl Zeiss Smt Ag Positioniereinheit und vorrichtung zur justage für ein optisches element
EP1643283A1 (en) * 2004-10-01 2006-04-05 Paul Scherrer Institut A gimbal mount device for supporting a functional element
US20090002670A1 (en) * 2005-03-04 2009-01-01 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for the manipulation and/or adjustment of an optical element
JP4773756B2 (ja) * 2005-07-07 2011-09-14 富士フイルム株式会社 鏡枠、鏡枠の製造方法、鏡枠成形用金型およびレンズの位置決め方法
JP5043468B2 (ja) 2007-02-23 2012-10-10 キヤノン株式会社 保持装置
TW200900835A (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Delta Electronics Inc Aligning structure of optical actuator
JP5588358B2 (ja) * 2008-02-29 2014-09-10 コーニング インコーポレイテッド キネマティック光学マウント
JP5127515B2 (ja) * 2008-03-12 2013-01-23 キヤノン株式会社 光学素子保持装置
NL1036701A1 (nl) * 2008-04-15 2009-10-19 Asml Holding Nv Apparatus for supporting an optical element, and method of making same.
WO2010098474A1 (ja) * 2009-02-27 2010-09-02 株式会社 ニコン 光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法及び光学素子の交換方法
DE102009013720A1 (de) * 2009-03-20 2010-09-23 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Ausrichtung von Referenzkomponenten von Projektionsobjektiven, Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie und Hilfselement
FR2945638B1 (fr) * 2009-05-14 2012-01-06 Commissariat Energie Atomique Dispositif de maintien avec precision d'un composant, notamment optique, et montage comprenant au moins un tel dispositif
DE102009037135B4 (de) * 2009-07-31 2013-07-04 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Haltevorrichtung für ein optisches Element
DE102009037133B4 (de) * 2009-07-31 2013-01-31 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Haltevorrichtung für ein optisches Element
JP5306393B2 (ja) * 2011-03-04 2013-10-02 三菱電機株式会社 鏡支持機構
CN102508347B (zh) * 2011-11-09 2014-06-18 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于运动学平衡的光学望远镜主镜被动式径向支撑机构
CN103309166B (zh) * 2012-03-09 2016-03-30 上海微电子装备有限公司 可动镜片调整装置及应用其的可调式光学系统
DE102012102566B4 (de) * 2012-03-26 2019-02-21 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Übertragungselement für eine Stellbewegung eines optischen Elementes, Positioniereinrichtung sowie Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsmaschine
US9733698B1 (en) * 2012-03-30 2017-08-15 Wayin, Inc. System and method for enabling a user to create and post polls on a microblogging website that can be answered on the microblogging website
US20140133897A1 (en) * 2012-11-12 2014-05-15 Micheal Brendan O Ceallaigh Flexurally mounted kinematic coupling with improved repeatability
JP6052124B2 (ja) * 2013-09-24 2016-12-27 株式会社Ｊｖｃケンウッド アオリ調整装置
NL1040605C2 (en) * 2014-01-15 2015-07-16 Janssen Prec Engineering Electromagnetically actuated hexapod for nanometric positioning.
EP2942654B1 (en) * 2014-05-08 2018-10-10 Airbus Defence and Space GmbH Detector plane alignment adjusting device
DE102014215452A1 (de) * 2014-08-05 2016-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Verkippen eines optischen Elements
US9523634B1 (en) * 2015-05-27 2016-12-20 Trutag Technologies, Inc. Centering holder for optical interrogation
DE102017112517B3 (de) 2017-06-07 2018-12-06 Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg Stellvorrichtung
CN107145040B (zh) * 2017-06-30 2019-04-02 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光学元件运动学支撑装置、投影物镜和光刻机
DE102018200178A1 (de) 2018-01-08 2019-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit reduzierter parasitärer Deformation von Komponenten
DE102018200181A1 (de) * 2018-01-08 2019-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit reduzierter parasitärer Deformation von Komponenten
DE102018216344A1 (de) * 2018-09-25 2020-03-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Abstützung eines optischen elements
WO2023095943A1 (ko) * 2021-11-24 2023-06-01 나자경 변형거울용 플랫폼
CN113983308B (zh) * 2021-12-27 2022-04-01 中国工程物理研究院应用电子学研究所 多自由度可调的光学减振平台
DE102024203031A1 (de) 2024-04-02 2025-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung, Halteeinrichtung, Anordnung, System und Verfahren zur Halterung eines optischen Elements; Lithografiesystem
KR102805130B1 (ko) * 2024-07-29 2025-05-13 엘아이지넥스원 주식회사 구동 장치 및 이를 포함하는 압전형 조종거울 시스템
DE102024209248A1 (de) * 2024-09-25 2026-03-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung, Halteeinrichtung, Anordnung, System und Verfahren zur Halterung eines optischen Elements; Lithografiesystem

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD221563A1 (de) 1983-09-14 1985-04-24 Mikroelektronik Zt Forsch Tech Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur
JPS637175A (ja) * 1986-06-27 1988-01-13 Toshiba Corp 微少変位テ−ブル装置
JPS6454392A (en) * 1987-08-26 1989-03-01 Nec Corp Flap stage
JP2690510B2 (ja) 1988-07-29 1997-12-10 日本電気株式会社 あおりステージ
NZ252209A (en) * 1992-05-12 1995-09-26 Moet & Chandon Stabilised culture of proembryogenic cellular aggregates for use in vine regeneration techniques
JP2753930B2 (ja) 1992-11-27 1998-05-20 キヤノン株式会社 液浸式投影露光装置
JP3713337B2 (ja) 1996-08-09 2005-11-09 臼井国際産業株式会社 プラスチックファン
JP3612920B2 (ja) 1997-02-14 2005-01-26 ソニー株式会社 光学記録媒体の原盤作製用露光装置
AU2747999A (en) 1998-03-26 1999-10-18 Nikon Corporation Projection exposure method and system
US5986827A (en) * 1998-06-17 1999-11-16 The Regents Of The University Of California Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint
DE19910947A1 (de) 1999-03-12 2000-09-14 Zeiss Carl Fa Vorrichtung zum Verschieben eines optischen Elementes entlang der optischen Achse
DE69930398T2 (de) 1999-09-20 2006-10-19 Nikon Corp. Belichtungssystem mit einem parallelen Verbindungsmechanismus und Belichtungsverfahren
JP2002083766A (ja) 2000-06-19 2002-03-22 Nikon Corp 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置
JP4770090B2 (ja) * 2000-08-18 2011-09-07 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
WO2002016993A1 (en) 2000-08-18 2002-02-28 Nikon Corporation Optical element holding device
JP4945864B2 (ja) 2000-08-18 2012-06-06 株式会社ニコン 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
DE10051706A1 (de) * 2000-10-18 2002-05-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10053899A1 (de) 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
JP2002170765A (ja) 2000-12-04 2002-06-14 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
DE10062786A1 (de) 2000-12-15 2002-06-20 Zeiss Carl System zur Dämpfung von Schwingungen
US20020080339A1 (en) 2000-12-25 2002-06-27 Nikon Corporation Stage apparatus, vibration control method and exposure apparatus
DE10106605A1 (de) 2001-02-13 2002-08-22 Zeiss Carl System zur Beseitigung oder wenigstens Dämpfung von Schwingungen
DE10115914A1 (de) 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
DE10140608A1 (de) * 2001-08-18 2003-03-06 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements
DE10225266A1 (de) 2001-12-19 2003-07-03 Zeiss Carl Smt Ag Abbildungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage
EP1321822A1 (en) 2001-12-21 2003-06-25 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE10212547A1 (de) * 2002-03-21 2003-10-02 Zeiss Carl Smt Ag Vorrichtung zur Manipulation der Winkellage eines Gegenstands gegenüber einer festen Struktur
US20050110447A1 (en) 2002-03-21 2005-05-26 Ulrich Weber Device for manipulating the angular position of an object relative to a fixed structure
EP1369745B1 (en) 2002-06-07 2013-02-27 ASML Netherlands B.V. Lihographic apparatus and device manufaturing method
DE10226655A1 (de) * 2002-06-14 2004-01-08 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur Positionierung eines optischen Elements in einer Struktur
JP4565261B2 (ja) * 2002-06-24 2010-10-20 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
US6922293B2 (en) * 2002-07-02 2005-07-26 Nikon Corporation Kinematic optical mounting assembly with flexures
EP1420302A1 (en) 2002-11-18 2004-05-19 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2004271782A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Alps Electric Co Ltd ホルダ付光学素子
DE10324477A1 (de) 2003-05-30 2004-12-30 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2005006417A1 (ja) 2003-07-09 2005-01-20 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
DE602004030247D1 (de) 2003-07-09 2011-01-05 Nippon Kogaku Kk Belichtungsvorrichtung und verfahren zur bauelementherstellung
KR101129119B1 (ko) 2003-09-12 2012-03-26 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 요소의 조작을 위한 장치
DE10344178B4 (de) 2003-09-24 2006-08-10 Carl Zeiss Smt Ag Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element
WO2006000352A1 (de) 2004-06-29 2006-01-05 Carl Zeiss Smt Ag Positioniereinheit und vorrichtung zur justage für ein optisches element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4532545B2 (ja) 光学素子のための位置決めユニット及び調節デバイス
JP5086309B2 (ja) 支持すべき部材を固定及び調節する装置
US8988654B2 (en) Support elements for an optical element
JP2005250495A (ja) 少なくとも１つの光学エレメントを備える対物レンズ
WO2007026438A1 (ja) 産業用ロボット
KR20020077338A (ko) 미세가공 투영 시스템에서 변형가능한 미러를 형상화하기위한 공압식 조절 시스템 및 방법
JP2004525780A (ja) 超精密位置決めシステム
US6967792B2 (en) Apparatus for positioning an optical element in a structure
JP4465194B2 (ja) 固定構造体に対する物体の角方向位置を操るための装置
RU2338231C1 (ru) Двухкоординатный оптический дефлектор
US11106005B2 (en) Prism rotation adjustment mechanism, stepper exposure system, and stepper
JP3993761B2 (ja) 電気式操作装置
JPH06795Y2 (ja) 微動回転ステージ
JP2019529902A5 (enExample)
JP7428457B1 (ja) マニピュレータアーム
CN121568811A (zh) 抛光工具及相关方法
JP2004230521A (ja) 微小変位支持装置
KR20050016557A (ko) 구조내의 광학소자 위치 설정 장치