JP2008283179A - 自己整列された電極を有する相転移メモリ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】自己整列された電極を有する相転移メモリ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上にコンタクトホールを有する層間絶縁膜を形成する。前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンを形成する。前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記層間絶縁膜上を横切るビットラインを形成する。前記ビット延長部は前記相転移パターン上の前記コンタクトホール内部に伸長される。前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触される。
【選択図】図11B
【解決手段】基板上にコンタクトホールを有する層間絶縁膜を形成する。前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンを形成する。前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記層間絶縁膜上を横切るビットラインを形成する。前記ビット延長部は前記相転移パターン上の前記コンタクトホール内部に伸長される。前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触される。
【選択図】図11B
Description
本発明は、半導体素子及びその製造方法に関し、特に、相転移パターンに自己整列された電極を有する相転移メモリ素子の製造方法、その素子及び電子システムに関するものである。
半導体メモリ素子は、揮発性メモリ素子及び不揮発性メモリ素子で区分される。前記不揮発性メモリ素子は、電源が切れてもその内部に保存されたデータが消滅しないという長所を有する。したがって、前記不揮発性メモリ素子は移動通信端末機、移動式メモリ装置、各種デジタル機器の補助記憶装置などに広く採用されている。
不揮発性記憶特性を有しながら集積度向上に効率的な構造を有する新しいメモリ素子を開発するために多くの努力がなされており、その結果として提示された代表的なものが相転移メモリ素子である。該相転移メモリ素子の単位セルは、アクセス素子及び該アクセス素子に直列接続されたデータ保存要素を含む。前記データ保存要素は、前記アクセス素子に電気的に接続される下部電極及び該下部電極に接触する相転移物質膜を備える。前記相転移物質膜は、提供された電流の大きさによって非晶質状態と結晶質状態との間、または前記結晶質状態での多様な比抵抗状態間において電気的に切換えられる(スイッチされる)物質膜である。
前記下部電極を介してプログラム電流が流れる場合に、前記相転移物質膜と前記下部電極との間の界面でジュール熱が生成される。このようなジュール熱は前記相転移物質膜の一部(以下、「転移領域」という)を非晶質状態、または結晶質状態に変換させる。前記非晶質状態を有する前記転移領域の比抵抗は、前記結晶質状態を有する前記転移領域の比抵抗よりも高い。したがって読み出しモードで前記転移領域を介して流れる電流を検知することで、前記相転移メモリ素子の前記相転移物質膜に保存された情報が論理「1」なのか、論理「0」なのかを判定することができる。
ここで、前記転移領域が大きいほど前記プログラム電流は比例して大きくならなければならない。この場合、前記アクセス素子は、前記プログラム電流を供給するに十分な電流駆動能力を有するように設計されなければならない。しかし、前記電流駆動能力を向上させるためには前記アクセス素子の占める面積が増加される。換言すれば、前記転移領域が小さいほど前記相転移メモリ素子の集積度の改善に有利である。
また、前記相転移物質膜上には上部電極が提供される。一般に、前記上部電極を形成する技術としてはフォト工程がある。ところが、前記フォト工程は通常の整列誤差を伴うものである。さらに、高集積化のために前記相転移物質膜及び前記上部電極を極限に縮小させようとする研究が進められている。例えば、前記相転移物質膜を層間絶縁膜が形成されたコンタクトホール内に形成させる方法が研究されている。この場合、前記上部電極を前記相転移物質膜上に整列することはますます困難となる。
前記上部電極は前記相転移物質膜上に導電膜を形成し、前記導電膜上にマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをエッチングマスクとして用いて前記導電膜を異方性エッチングして形成する方法がある。前記マスクパターンに整列誤差が発生した場合、前記上部電極の横に前記相転移物質膜が露出される。マイクロブリッジのような漏洩電流の原因を除去するために、前記導電膜をエッチングする工程は通常的にオーバーエッチ技術を用いる。このとき、前記露出された相転移物質膜は損傷される。前記相転移物質膜の損傷は前記相転移メモリ素子の電気的特性を低下させる。
前記整列誤差を考慮し、前記上部電極を充分大きく形成する方法がある。この場合、前記上部電極は前記相転移メモリ素子の高集積化を妨げる。
一方、相転移メモリ素子を実現する、他の技術が特許文献1に「マルチレベル相転移メモリ(Multi−level phase change memory)」という名称で「KUO」によって開示されている。
米国特許出願公開第2006/0257787号明細書
本発明が解決しようとする技術的課題は、上述の従来技術の問題点を改善するためのものとして、高集積化に有利で相転移パターンの損傷を防止することのできる相転移メモリ素子の製造方法を提供することにある。
本発明が解決しようとする他の技術的課題は、高集積化に有利で相転移パターンの損傷を防止するのに好適な相転移メモリ素子を提供することにある。
本発明が解決しようとする他の技術的課題は、高集積化に有利で相転移パターンの損傷を防止するのに好適な相転移メモリ素子を採用する電子システムを提供することにある。
前記技術的課題を達成するために本発明は、相転移メモリ素子の製造方法を提供する。この方法は基板上にコンタクトホールを有する層間絶縁膜を形成することを含む。前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンが形成される。前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記層間絶縁膜上を横切るビットラインを形成する。前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触される。
本発明のいくつかの実施の形態において、前記コンタクトホールを埋め込む相転移物質膜を形成することができる。前記相転移物質膜をエッチバックして前記層間絶縁膜の上部表面よりも下にリセスさせて前記相転移パターンを形成することができる。前記相転移パターンは、Te、Se、Ge、Sb、Bi、Pb、Sn、Ag、As、S、Si、P、O、及びCからなるグループから選択された二つ以上の化合物によって形成される。
他の実施の形態において、前記相転移パターン、前記コンタクトホールの側壁及び前記層間絶縁膜を覆うビット障壁金属膜を形成することができる。前記ビット障壁金属膜上に前記コンタクトホールを完全に埋め込んで前記層間絶縁膜を覆うビット導電膜を形成することができる。前記相転移パターン上の前記ビット導電膜は前記層間絶縁膜上の前記ビット導電膜よりも厚く形成することができる。前記ビット導電膜及び前記ビット障壁金属膜を部分的に除去して前記ビットラインを形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記相転移パターンを形成する前に前記層間絶縁膜をエッチングして前記コンタクトホールを拡張することができる。前記拡張されたコンタクトホールの側壁にキャッピングパターンを形成することができる。前記キャッピングパターンを形成する前に前記拡張されたコンタクトホールに界面膜(inter layer)を形成することができる。前記界面膜は、TiO、ZrO、及び導電性炭素群(conductive carbon group)膜からなるグループから選択された一つによって形成される。
さらに他の実施の形態において、前記相転移パターンを形成する前に前記相転移パターン下部の前記コンタクトホールに下部電極を形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記コンタクトホールの側壁及び底部を覆う下部導電膜を形成することができる。前記下部導電膜上に前記コンタクトホールを埋め込むコア膜を形成することができる。前記下部導電膜及び前記コア膜をエッチバックして前記下部電極を形成することができる。前記コア膜は前記下部導電膜よりも電気抵抗が高い物質膜で形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記下部電極を形成する前に前記コンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記下部電極を形成する前に前記基板上にワードラインを形成することができる。前記下部電極及び前記ワードライン間の前記コンタクトホール内にダイオードを形成することができる。前記ダイオード及び前記下部電極間にダイオード電極を形成することができる。前記ダイオード電極は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。
また、本発明は、相転移メモリ素子の他の製造方法を提供する。この方法は、基板上に中間コンタクトホールを有する中間絶縁膜を形成することを含む。前記中間コンタクトホールに下部電極を形成する。前記下部電極及び前記中間絶縁膜を覆う上部絶縁膜を形成する。前記下部電極上の前記上部絶縁膜を貫通する上部コンタクトホールを形成する。前記上部コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンを形成する。前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記上部絶縁膜上を横切るビットラインを形成する。前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触される。
いくつかの実施の形態において、前記中間コンタクトホールの側壁及び底部を覆って前記中間絶縁膜を覆う下部導電膜を形成することができる。前記下部導電膜上にコア膜を形成することができる。前記下部導電膜及び前記コア膜を平坦化して前記下部電極を形成することができる。前記下部電極を形成する前に前記中間コンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成することができる。
他の実施の形態において、前記上部絶縁膜を形成する前に前記下部電極上を覆う界面膜を形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記下部電極を形成する前に前記基板上にワードラインを形成することができる。前記ワードライン上にダイオードを形成することができる。前記ダイオード及び前記下部電極間にダイオード電極を形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記相転移パターンを形成する前に前記上部コンタクトホールの側壁にキャッピングパターンを形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記上部コンタクトホールを埋め込む相転移物質膜を形成することができる。前記相転移物質膜をエッチバックして前記上部絶縁膜の上部表面より下にリセスさせて前記相転移パターンを形成することができる。
さらに他の実施の形態において、前記相転移パターン、前記上部コンタクトホールの側壁及び前記上部絶縁膜を覆うビット障壁金属膜を形成することができる。前記ビット障壁金属膜上に前記上部コンタクトホールを完全に埋め込んで前記上部絶縁膜を覆うビット導電膜を形成することができる。前記相転移パターン上の前記ビット導電膜は前記上部絶縁膜上の前記ビット導電膜よりも厚く形成することができる。前記ビット導電膜及び前記ビット障壁金属膜を部分的に除去して前記ビットラインを形成することができる。
これに加えて、本発明は相転移メモリ素子を提供する。この素子は基板上に配置された層間絶縁膜を備える。前記層間絶縁膜にコンタクトホールが配置される。前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンが提供される。前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記層間絶縁膜上を横切るビットラインが提供される。前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触される。
いくつかの実施の形態において、前記ビット延長部は前記相転移パターン上の前記コンタクトホール内部に伸長することができる。前記相転移パターン上の前記ビットラインは前記層間絶縁膜上の前記ビットラインより厚くすることができる。前記相転移パターン及び前記層間絶縁膜間に配置され、前記ビット延長部及び前記層間絶縁膜間に延長されたキャッピングパターンが提供される。
他の実施の形態において、前記相転移パターン下部の前記コンタクトホールに下部電極が配置される。前記相転移パターンは前記下部電極上に自己整列される。
さらに他の実施の形態において、前記相転移パターン下部の前記コンタクトホールにコアパターンが提供される。この場合に、前記下部電極は前記コアパターンの側壁及び下端を囲むように配置される。前記下部電極及び前記層間絶縁膜間にコンタクトスペーサが配置される。
さらに他の実施の形態において、前記基板上にワードラインが提供される。前記ワードライン及び前記下部電極間にダイオードが配置される。前記ダイオード及び前記下部電極間に配置されたダイオード電極が配置される。前記下部電極は前記ダイオード上に自己整列される。
さらに他の実施の形態において、前記相転移パターン及び前記下部電極間に界面膜が配置される。
さらに、本発明は、相転移メモリ素子を採用する電子システムを提供する。前記電子システムは、マイクロプロセッサ、該マイクロプロセッサとデータ通信を行う入/出力装置及び前記マイクロプロセッサとデータ通信を行う相転移メモリ素子を備える。前記相転移メモリ素子は基板上に配置された層間絶縁膜を備える。前記層間絶縁膜にコンタクトホールが配置される。前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンが提供される。前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備え、前記層間絶縁膜上を横切るビットラインが提供される。前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触される。
本発明によれば、相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて層間絶縁膜上を横切るビットラインが提供される。前記相転移パターン及び前記ビット延長部は前記層間絶縁膜に形成されたコンタクトホール内部に順に積層される。前記相転移パターン上の前記ビットラインは前記層間絶縁膜上の前記ビットラインより著しく厚く形成される。これによって、前記ビットラインを形成する間にフォト工程により整列誤差が生じても前記相転移パターンの損傷を防止することができる。結論的に、高集積化に有利で相転移パターンの損傷を防止するのに好適な相転移メモリ素子を実現することができる。
以下、添付した図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態を詳しく説明する。しかしながら、本発明は、ここで説明する実施形態に限られず、他の形態で具体化されることもある。むしろ、ここで紹介される実施形態は開示された発明が完成されていることを示すと共に、当業者に本発明の思想を十分に伝えるために提供するものである。図面において、層及び領域の厚みは明確性をあたえるために誇張して図示されたものである。また、層が、他の層、または基板「上」にあると言われた場合、それは他の層、または基板上に直接形成することができるか、またはそれらの間に第3の層が介在されることもある。明細書全体にわたって同じ参照番号は、同様の構成要素を示す。
図1は本発明の第1ないし第4の実施の形態に係る相転移メモリ素子のセルアレイ領域の一部を示す等価回路図であり、図2は図1の等価回路図に相応する平面図である。
図1及び図2を参照すると、本発明の実施の形態に係る相転移メモリ素子は、列方向に互いに平行に配置されたビットラインBL、行方向に互いに平行に配置されたワードラインWL、多数の相転移パターンRp、及び多数のダイオードDを備える。
前記ビットラインBLは、前記ワードラインWLに交差するように配置される。前記相転移パターンRpのそれぞれは前記ビットラインBL及び前記ワードラインWLの交差点に配置される。前記ダイオードDのそれぞれは、前記相転移パターンRp中に対応する一つに直列接続される。また、前記相転移パターンRpのそれぞれは前記ビットラインBL中に対応する一つに接続される。前記ダイオードDのそれぞれは前記ワードラインWL中に対応する一つに接続される。前記ダイオードDはアクセス素子の役割をする。しかし、前記ダイオードDは省略することもできる。これとは異なって、前記アクセス素子はMOSトランジスタとすることができる。
次に、図2ないし図10を参照して本発明の第1の実施の形態に係る相転移メモリ素子の製造方法を説明する。
図2及び図3を参照すると、基板51の所定領域に活性領域52を画定する素子分離膜53を形成することができる。前記基板51は、シリコンウエハまたはSOI(silicon on insulator)ウエハのような半導体基板を用いることができる。前記基板51は第1の導電型の不純物イオンを有することができる。前記素子分離膜53は浅いトレンチ素子分離(shallow trench isolation;STI)技術を利用して形成することができる。前記素子分離膜53はシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。前記活性領域52はライン状に形成することができる。
前記活性領域52に、前記第1の導電型と異なる第2の導電型の不純物イオンを注入してワードライン55(WL)を形成することができる。以下においては、簡略な説明のために前記第1及び第2の導電型はそれぞれP型及びN型の場合について説明する。しかし、前記第1及び第2の導電型はそれぞれN型及びP型とすることができる。
図2及び図4を参照すると、前記ワードライン55(WL)及び前記素子分離膜53を有する前記基板51上に層間絶縁膜57を形成することができる。前記層間絶縁膜57はシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。前記層間絶縁膜57をパターニングして前記ワードライン55(WL)の所定領域を露出するコンタクトホール57Hを形成することができる。
前記コンタクトホール57H内に第1及び第2半導体パターン61、62を順に積層することができる。前記第1及び第2半導体パターン61、62は、エピタキシャル成長技術または化学気相蒸着(chemical vapor deposition;CVD)技術を利用して形成することができる。前記第1及び第2半導体パターン61、62はダイオード63(D)を構成することができる。
前記第1半導体パターン61は前記ワードライン55(WL)に接触される。前記第1半導体パターン61は前記第2の導電型の不純物イオンを有するように形成される。前記第2半導体パターン62は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルで形成される。すなわち、前記ダイオード63(D)は前記コンタクトホール57H内の下端領域に形成される。前記第2半導体パターン62は前記第1の導電型の不純物イオンを有するように形成される。一方、前記第1半導体パターン61は前記第1の導電型の不純物イオンを有するように形成することもでき、前記第2半導体パターン62は前記第2の導電型の不純物イオンを有するように形成することもできる。前記第2半導体パターン62上に金属シリサイド膜をさらに形成されるが、簡略な説明のためにその説明を省略する。
前記ダイオード63(D)上にダイオード電極67を形成することができる。前記ダイオード電極67は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。例えば、前記ダイオード電極67は、TiN膜65及びW膜66を順に積層して形成することができる。
前記ダイオード電極67は前記コンタクトホール57H内に形成される。また、前記ダイオード電極67は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルで形成される。この場合に、前記ダイオード電極67は前記ダイオード63(D)上に自己整列される。しかし、前記ダイオード電極67は省略することもできる。
図2及び図5を参照すると、前記コンタクトホール57Hの側壁にコンタクトスペーサ81を形成することができる。前記コンタクトスペーサ81は前記層間絶縁膜57に対してエッチング選択比を有する物質膜で形成することができる。前記コンタクトスペーサ81はシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。その結果、前記コンタクトホール57Hは前記コンタクトスペーサ81によって細くなる。前記コンタクトホール57H内に前記ダイオード電極67の上部表面が部分的に露出される。前記ダイオード電極67が省略された場合は前記コンタクトホール57H内に前記ダイオード63(D)の上部表面が部分的に露出される。しかし、前記コンタクトスペーサ81は省略することもできる。
前記基板51上の表面に沿って下部電極膜83を形成することができる。前記下部電極膜83は前記コンタクトホール57H内の前記ダイオード電極67を覆うことができ、前記下部電極膜83は前記コンタクトスペーサ81を覆って、前記層間絶縁膜57を覆うように形成される。
前記下部電極膜83は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。
前記下部電極膜83上に、前記コンタクトホール57Hを埋め込み、前記基板51上を覆うコア膜84を形成することができる。その結果、前記下部電極膜83は前記コア膜84の底表面を覆うように形成される。前記コア膜84は前記下部電極膜83よりも高い電気抵抗を有する物質膜で形成することができる。さらに、前記コア膜84は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜のような絶縁膜で形成することもできる。また、前記コア膜84は、前記層間絶縁膜57及び前記コンタクトスペーサ81に対してエッチング選択比を有する物質膜で形成することもできる。これに加えて、前記コア膜84は前記コンタクトスペーサ81と同じ物質膜で形成することもできる。
以下においては、説明の便宜のために、前記コア膜84及び前記コンタクトスペーサ81が同じ物質膜に形成された場合について説明する。
さらに他の実施の形態において、前記コア膜84は省略されることができる。この場合に、前記下部電極膜83は前記コンタクトホール57Hを完全に埋め込むように形成される。
図2及び図6を参照すると、前記コア膜84及び前記下部電極膜83を部分的に除去して前記ダイオード電極67上の前記コンタクトホール57H内に下部電極83’及びコアパターン84’を形成することができる。
詳しくは、前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を形成することはエッチバック工程を用いて行うことができる。また、前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を形成することは、化学機械的研磨(chemical mechanical polishing;CMP)工程及びエッチバック工程の組み合わせを用いて行うこともできる。
例えば、前記層間絶縁膜57を停止膜として採用する化学機械的研磨(CMP)工程を用いて前記コア膜84及び前記下部電極膜83を平坦化することができる。その結果、前記コア膜84及び前記下部電極膜83は前記コンタクトホール57H内に残存される。続いて、前記コンタクトホール57H内に残存する前記コア膜84及び前記下部電極膜83を等方性エッチング工程のようなエッチバック工程を用いて下にリセスさせる。
前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を形成する間に、前記コンタクトスペーサ81も一緒にエッチングされて下にリセスされる。この場合に、前記コンタクトスペーサ81は前記下部電極83’と前記層間絶縁膜57との間に残存される。
前記下部電極83’は前記コアパターン84’の側壁及び底部を覆うように形成される。前記下部電極83’は前記ダイオード電極67に接触される。前記ダイオード電極67が省略された場合、前記下部電極83’は前記ダイオード63(D)に接触される。前記下部電極83’の露出表面はリング状に形成される。前記下部電極83’及び前記ダイオード電極67の接触面は前記ダイオード電極67の上部表面よりも小さくしてもよい。
さらに他の実施の形態において、前記コア膜84を省略した場合に前記下部電極83’はピラー状に形成される。
その結果、前記下部電極83’は前記ダイオード電極67上に自己整列される。前記下部電極83’は前記層間絶縁膜57の上部表面よりも低いレベルで形成される。
前記コンタクトホール57Hに露出された前記層間絶縁膜57を等方性エッチングして前記下部電極83’上に拡張されたコンタクトホール76を形成することができる。前記拡張されたコンタクトホール76の直径は前記コンタクトホール57Hよりも大きくしてもよい。前記拡張されたコンタクトホール76は前記コンタクトホール57Hに自己整列される。
前記拡張されたコンタクトホール76内に前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81の上部表面が露出される。前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81の上部表面は同一平面上に露出される。これとは異なって、前記下部電極83’は前記コアパターン84’の上部表面よりも低いレベルに形成することもできる。さらに他の実施の形態において、前記コンタクトスペーサ81は前記下部電極83’の上部表面よりも低いレベルに形成することもできる。
図2及び図7を参照すると、前記拡張されたコンタクトホール76を有する前記基板51上に界面膜85を形成することができる。前記界面膜85は前記拡張されたコンタクトホール76の内壁及び前記層間絶縁膜57上を覆うように形成される。前記界面膜85は前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を覆うことができる。前記界面膜85は、TiO、ZrO、及び導電性炭素群膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。
前記拡張されたコンタクトホール76の側壁にキャッピングパターン88を形成することができる。前記キャッピングパターン88は、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン酸化膜、金属酸化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。例えば、前記キャッピングパターン88は順に積層されたアルミニウム酸化膜(ALO)及びシリコン窒化膜(SiN)で形成することができる。
前記キャッピングパターン88は前記界面膜85上にキャッピング膜を形成した後、前記拡張されたコンタクトホール76の底に前記界面膜85が露出されるまで前記キャッピング膜を異方性エッチングして形成することができる。
図2及び図8を参照すると、前記拡張されたコンタクトホール76の内部を埋め込み、前記基板51上を覆う相転移物質膜89を形成することができる。前記相転移物質膜89はカルコゲナイド物質膜で形成することができる。例えば、前記相転移物質膜89は、Te、Se、Ge、Sb、Bi、Pb、Sn、Ag、As、S、Si、P、O、及びCからなるグループから選択された二つ以上の化合物で形成される。前記相転移物質膜89と前記下部電極83’との間に前記界面膜85が介在される。
図2及び図9を参照すると、前記相転移物質膜89を部分的に除去して前記拡張されたコンタクトホール76内に相転移パターン89’(Rp)を形成することができる。
詳しくは、前記相転移パターン89’(Rp)の形成はエッチバック工程を用いて行うことができる。また、前記相転移パターン89’(Rp)を形成することは、化学機械的研磨(CMP)工程及びエッチバック工程の組み合わせを利用して行うこともできる。
例えば、前記層間絶縁膜57を停止膜として採用する化学機械的研磨(CMP)工程を用いて前記相転移物質膜89及び前記界面膜85を平坦化することができる。その結果、前記相転移物質膜89及び前記界面膜85は前記拡張されたコンタクトホール76内に残存することができる。続いて、前記拡張されたコンタクトホール76内に残存する前記相転移物質膜89を等方性エッチング工程のようなエッチバック工程を用いて下にリセスさせることができる。
その結果、前記相転移パターン89’(Rp)は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルで形成される。また、前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’上に自己整列される。
図2及び図10を参照すると、前記相転移パターン89’(Rp)と接触されたビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は前記層間絶縁膜57上に前記ワードライン55(WL)を横切るように形成される。
さらに詳しくは、前記相転移パターン89’(Rp)及び前記層間絶縁膜57上にビット障壁金属膜及びビット導電膜を順に積層することができる。前記ビット導電膜は前記拡張されたコンタクトホール76を完全に埋め込んで前記基板51上を覆うように形成される。これによって、前記相転移パターン89’(Rp)上の前記ビット導電膜厚さは前記層間絶縁膜57上の前記ビット導電膜よりも相対的に厚く形成される。前記ビット導電膜及び前記ビット障壁金属膜をパターニングしてビット導電パターン92及びビット障壁金属パターン91を形成することができる。前記ビット導電パターン92及び前記ビット障壁金属パターン91は前記ビットライン93(BL)を構成することができる。
前記ビット導電パターン92は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。前記ビット障壁金属パターン91は、Ti膜、TiN膜、Ta膜、TaN膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。しかし、前記ビット障壁金属パターン91は省略することができる。
その結果として、前記ビットライン93(BL)は前記拡張されたコンタクトホール76内で伸長することができる。すなわち、前記拡張されたコンタクトホール76内に前記ビットライン93(BL)に接続されたビット延長部93Eが形成される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
図に示すように、前記相転移パターン89’(Rp)上の前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93Eによって前記層間絶縁膜57上の前記ビットライン93(BL)より最も厚く形成される。これによって、前記ビットライン93(BL)を形成する間、フォト工程により整列誤差が生じても前記相転移パターン89’(Rp)の損傷を防止することができる。
次に、図1、図2、図11A及び図11Bを参照して本発明の第1の実施の形態に係る相転移メモリ素子及び前記相転移メモリ素子の動作を説明する。図11Aは本発明の第1の実施の形態に係る相転移メモリ素子を説明するための図2の切断線I−I’による断面図であり、図11Bは図2の切断線II−II’による断面図である。
図1、図2、図11A及び図11Bを参照すると、本発明の第1の実施の形態に係る相転移メモリ素子は基板51に配置されたワードライン55(WL)及び前記ワードライン55(WL)上を横切るビットライン93(BL)を備える。前記相転移メモリ素子については図1ないし図10で十分説明している。以下では、その重要部分だけを簡単に説明する。
前記ワードライン55(WL)は、前記基板51に配置されている素子分離膜53によって限定される。前記基板51は第1の導電型の不純物イオンを備える。前記ワードライン55(WL)は前記第1の導電型と異なる第2の導電型の不純物イオンを備える。
前記ワードライン55(WL)及び前記素子分離膜53を有する前記基板51は層間絶縁膜57で覆われる。前記層間絶縁膜57にコンタクトホール57H及び拡張されたコンタクトホール76が提供される。前記拡張されたコンタクトホール76は前記コンタクトホール57Hの上端に連通される。また、前記拡張されたコンタクトホール76は前記コンタクトホール57Hの上端に自己整列される。前記コンタクトホール57H及び前記拡張されたコンタクトホール76は前記層間絶縁膜57を貫通することができる。
前記コンタクトホール57H内に順に積層された第1及び第2半導体パターン61、62が配置される。前記第1及び第2半導体パターン61、62はダイオード63(D)を構成することができる。前記第1半導体パターン61は前記ワードライン55(WL)に接触される。前記第1半導体パターン61は前記第2の導電型の不純物イオンを備える。前記第2半導体パターン62は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルに配置される。すなわち、前記ダイオード63(D)は前記コンタクトホール57H内の下端領域に提供されることができる。前記第2半導体パターン62は前記第1の導電型の不純物イオンを備える。
前記ダイオード63(D)上にダイオード電極67が配置される。前記ダイオード電極67は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つとすることができる。例えば、前記ダイオード電極67は順に積層されたTiN膜65及びW膜66とすることができる。
前記ダイオード電極67は前記コンタクトホール57H内に配置される。また、前記ダイオード電極67は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルに提供されることができる。この場合、前記ダイオード電極67は前記ダイオード63(D)上に自己整列される。しかし、前記ダイオード電極67は省略することもできる。
前記コンタクトホール57H内に下部電極83’及びコアパターン84’が配置される。前記下部電極83’は前記コアパターン84’の側壁及び底部を覆うように配置される。前記下部電極83’の上部表面はリング状とすることができる。一方、前記コアパターン84’は省略することができる。この場合、前記下部電極83’はピラー状とすることができる。前記下部電極83’は前記ダイオード電極67の上部表面に接触される。前記ダイオード電極67が省略された場合、前記下部電極83’は前記ダイオード63(D)の上部表面に接触される。前記下部電極83’は前記ダイオード電極67上に自己整列される。前記下部電極83’は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルに提供される。
前記下部電極83’と前記層間絶縁膜57との間にコンタクトスペーサ81が介在されることができる。すなわち、前記コンタクトホール57Hの側壁上に前記コンタクトスペーサ81が配置される。前記下部電極83’及び前記ダイオード電極67の接触面は前記ダイオード電極67の上部表面より小さくしてもよい。
前記下部電極83’は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つとすることができる。前記コアパターン84’は前記下部電極83’より高い電気抵抗を有する物質膜とすることができる。さらに、前記コアパターン84’は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜のような絶縁膜とすることができる。また、前記コアパターン84’は前記層間絶縁膜57及び前記コンタクトスペーサ81に対してエッチング選択比を有する物質膜とすることができる。さらに、前記コアパターン84’は前記コンタクトスペーサ81と同一の物質膜とすることができる。
前記下部電極83’上の前記拡張されているコンタクトホール76内に相転移パターン89’(Rp)が配置される。前記相転移パターン89’(Rp)は前記層間絶縁膜57の上部表面より低いレベルに提供される。また、前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’上に自己整列される。前記相転移パターン89’(Rp)はカルコゲナイド物質膜とすることができる。例えば、前記相転移物質膜89は、Te、Se、Ge、Sb、Bi、Pb、Sn、Ag、As、S、Si、P、O、及びCからなるグループから選択された二つ以上の化合物とすることができる。
前記相転移パターン89’(Rp)と前記層間絶縁膜57との間にキャッピングパターン88が配置される。前記キャッピングパターン88は前記拡張されたコンタクトホール76の側壁を覆うことができる。前記キャッピングパターン88は、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン酸化膜、金属酸化膜、またはこれらの組み合わせ膜とすることができる。例えば、前記キャッピングパターン88は順に積層されたアルミニウム酸化膜(ALO)及びシリコン窒化膜(SiN)とすることができる。
前記相転移パターン89’(Rp)と前記下部電極83’との間に界面膜85が配置される。前記界面膜85は前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を覆うことができる。また、前記界面膜85は前記キャッピングパターン88と前記層間絶縁膜57との間に延長される。前記界面膜85は、TiO、ZrO、及び導電性炭素群膜からなるグループから選択された一つとすることができる。前記下部電極83’は前記界面膜85を介して前記相転移パターン89’(Rp)に電気的に接続される。しかし、前記界面膜85は省略することができる。この場合、前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’に接触される。
前記層間絶縁膜57上に前記ビットライン93(BL)が配置される。前記ビットライン93(BL)はビット延長部93Eを備える。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上の前記拡張されたコンタクトホール76内で伸長されることができる。これによって、前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
前記キャッピングパターン88は前記ビット延長部93Eと前記層間絶縁膜57との間にも提供することができる。前記キャッピングパターン88と前記層間絶縁膜57との間に前記界面膜85が残存されてもよい。
前記ビットライン93(BL)及び前記ビット延長部93Eは、順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92を備える。前記ビット導電パターン92は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つとすることができる。前記ビット障壁金属パターン91は、Ti膜、TiN膜、Ta膜、TaN膜、またはこれらの組み合わせ膜とすることができる。しかし、前記ビット障壁金属パターン91は省略することができる。
図に示すように、前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記界面膜85、前記下部電極83’、及び前記ダイオード電極67は前記ダイオード63(D)上に自己整列される。前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記界面膜85、前記下部電極83’、前記ダイオード電極67、及び前記ダイオード63(D)を介して前記ワードライン55(WL)に電気的に接続される。
前記ビットライン93(BL)及び前記ワードライン55(WL)が選択され、前記下部電極83’を介してプログラム電流が流れる場合に、前記相転移パターン89’(Rp)の一部(以下、「転移領域89T」という)を非晶質状態または結晶質状態に変換させることができる。前記非晶質状態を有する前記転移領域89Tの比抵抗は、前記結晶質状態を有する前記転移領域89Tの比抵抗よりも高い。したがって、読み出しモードで前記転移領域89Tを介して流れる電流を検知することによって、前記相転移パターン89’(Rp)に保存されている情報が論理「1」なのか、論理「0」なのかを判定することができる。
前記転移領域89Tは、前記下部電極83’の上端表面に対応する大きさ及び形態を示すことができる。前記下部電極83’の上端表面が前記リング状の場合は、前記転移領域89Tもリング状とすることができる。すなわち、前記転移領域89Tの体積を最小化とすることができる。したがって、小さなプログラム電流だけでも前記転移領域89Tを非晶質状態または結晶質状態に変換させることができる。
次に、図2、及び図12ないし図16を参照して本発明の第2の実施の形態に係る相転移メモリ素子の製造方法を説明する。
図2及び図12を参照すると、基板51の所定領域に活性領域52を画定する素子分離膜53を形成することができる。前記活性領域52はライン状に形成することができる。前記活性領域52にワードライン55(WL)を形成することができる。以下においては、本発明の第1の実施の形態との差だけを簡単に説明する。
前記ワードライン55(WL)及び前記素子分離膜53を有する前記基板51上に下部絶縁膜58を形成することができる。前記下部絶縁膜58は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。前記下部絶縁膜58をパターニングして前記ワードライン55(WL)の所定領域を露出する下部コンタクトホール58Hを形成することができる。
前記下部コンタクトホール58H内に第1及び第2半導体パターン61、62を順に積層することができる。前記第1及び第2半導体パターン61、62はダイオード63(D)を構成することができる。前記ダイオード63(D)は前記下部コンタクトホール58H内の下端領域に形成される。前記ダイオード63(D)上にダイオード電極67を形成することができる。前記ダイオード電極67は前記ダイオード63(D)上に自己整列される。前記ダイオード電極67及び前記下部絶縁膜58の上部表面は同一平面上に露出される。
しかし、前記ダイオード電極67は省略することができる。この場合に、前記第2半導体パターン62及び前記下部絶縁膜58の上部表面は同一平面上に露出される。
前記ダイオード電極67は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。例えば、前記ダイオード電極67は、TiN膜65及びW膜66を順に積層して形成することができる。
前記ダイオード電極67を有する前記基板51上に中間絶縁膜71を形成することができる。前記中間絶縁膜71は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。前記中間絶縁膜71をパターニングして前記ダイオード電極67を露出する中間コンタクトホール75’を形成することができる。
前記中間コンタクトホール75’の側壁にコンタクトスペーサ81を形成することができる。前記コンタクトスペーサ81は、前記中間絶縁膜71に対してエッチング選択比を有する物質膜で形成することができる。その結果、前記中間コンタクトホール75’は前記コンタクトスペーサ81によって狭くなる。前記中間コンタクトホール75’内に前記ダイオード電極67の上部表面が部分的に露出される。前記ダイオード電極67が省略された場合、前記中間コンタクトホール75’内に前記ダイオード63(D)の上部表面が部分的に露出される。
前記基板51上の表面に沿って下部電極膜83を形成することができる。前記下部電極膜83は前記中間コンタクトホール75’内の前記ダイオード電極67を覆い、前記下部電極膜83は前記コンタクトスペーサ81を覆い、前記中間絶縁膜71を覆うように形成することができる。
前記下部電極膜83は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。
前記下部電極膜83上に前記中間コンタクトホール75’を埋め込み、前記基板51上を覆うコア膜84を形成することができる。その結果、前記下部電極膜83は前記コア膜84の底表面を覆うように形成される。前記コア膜84は前記下部電極膜83よりも高い電気抵抗を有する物質膜で形成することができる。さらに、前記コア膜84は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜のような絶縁膜で形成することもできる。また、前記コア膜84は前記中間絶縁膜71及び前記コンタクトスペーサ81に対してエッチング選択比を有する物質膜で形成することもできる。さらに、前記コア膜84は前記コンタクトスペーサ81と同一の物質膜で形成することもできる。
以下においては、説明の便宜のために前記コア膜84及び前記コンタクトスペーサ81が同一の物質膜で形成された場合について説明する。
図2及び図13を参照すると、前記コア膜84及び前記下部電極膜83を平坦化して前記中間コンタクトホール75’内にコアパターン84’及び下部電極83’を形成することができる。前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を形成することは、化学機械的研磨(CMP)工程、エッチバック工程、またはこれらの組み合わせを用いて行うことができる。例えば、前記中間絶縁膜71を停止膜として採用する前記化学機械的研磨(CMP)工程を用いて前記コア膜84及び前記下部電極膜83を平坦化することができる。
前記下部電極83’は前記コアパターン84’の側壁及び底部を覆うように形成される。前記下部電極83’は前記ダイオード電極67に接触される。前記ダイオード電極67が省略された場合、前記下部電極83’は前記ダイオード63(D)に接触される。前記下部電極83’の露出表面はリング状で形成することができる。前記下部電極83’及び前記ダイオード電極67の接触面は前記ダイオード電極67の上部表面より小さくしてもよい。
前記コアパターン84’、前記下部電極83’、前記コンタクトスペーサ81及び前記中間絶縁膜71の上部表面は同一平面上に露出される。一方、前記下部電極83’は前記コアパターン84’の上部表面よりも低いレベルで形成される。
他の実施の形態において、前記コアパターン84’は省略することができる。この場合に、前記下部電極83’はピラー状で形成することができる。
図2及び図14を参照すると、前記中間絶縁膜71上に前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を覆う界面膜85Aを形成することができる。前記界面膜85Aは前記ワードライン55(WL)に平行にパターニングされる。すなわち、前記界面膜85Aの両側に前記中間絶縁膜71が露出される。前記界面膜85Aは、前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81を覆うことができる。前記界面膜85Aは、TiO、ZrO、及び導電性炭素群膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。しかし、前記界面膜85Aは省略することができる。
前記界面膜85Aを有する前記基板51上に上部絶縁膜72を形成することができる。前記上部絶縁膜72は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。前記上部絶縁膜72をパターニングして上部コンタクトホール76’を形成することができる。前記上部コンタクトホール76’によって前記下部電極83’及び前記コアパターン84’上の前記界面膜85Aが露出される。前記界面膜85Aが省略された場合、前記上部コンタクトホール76’の底に前記下部電極83’及び前記コアパターン84’が露出される。前記上部コンタクトホール76’の直径は前記中間コンタクトホール75’よりも大きく形成することができる。
前記上部コンタクトホール76’の側壁にキャッピングパターン88’を形成することができる。前記キャッピングパターン88’は、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン酸化膜、金属酸化膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。例えば、前記キャッピングパターン88’は順に積層されたアルミニウム酸化膜(ALO)86及びシリコン窒化膜(SiN)87で形成することができる。
前記キャッピングパターン88’は前記基板51の上部表面を覆うキャッピング膜を形成した後、前記上部コンタクトホール76’の底に前記界面膜85Aが露出するまで前記キャッピング膜を異方性エッチングして形成することができる。
図2及び図15を参照すると、前記上部コンタクトホール76’を部分的に埋め込む相転移パターン89’(Rp)を形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記上部絶縁膜72の上部表面よりも低いレベルで形成される。前記相転移パターン89’(Rp)はカルコゲナイド物質膜で形成することができる。例えば、前記相転移パターン89’(Rp)は、Te、Se、Ge、Sb、Bi、Pb、Sn、Ag、As、S、Si、P、O、及びCからなるグループから選択された二つ以上の化合物で形成される。前記相転移パターン89’(Rp)は前記界面膜85Aに接触される。
図2及び図16を参照すると、前記相転移パターン89’(Rp)と接触されたビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は前記上部絶縁膜72上に前記ワードライン55(WL)を横切るように形成される。前記ビットライン93(BL)は順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92で形成することができる。
前記ビット導電パターン92は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することができる。前記ビット障壁金属パターン91は、Ti膜、TiN膜、Ta膜、TaN膜、またはこれらの組み合わせ膜で形成することができる。しかし、前記ビット障壁金属パターン91は省略することができる。
前記ビットライン93(BL)は前記上部コンタクトホール76’内で伸長することができる。すなわち、前記上部コンタクトホール76’内に前記ビットライン93(BL)に接続されたビット延長部93Eが形成される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
図に示すように、前記相転移パターン89’(Rp)上の前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93Eによって前記上部絶縁膜72上の前記ビットライン93(BL)より最も厚く形成される。これによって、前記ビットライン93(BL)を形成する間、フォト工程により整列誤差が生じても前記相転移パターン89’(Rp)の損傷を防止することができる。
次に、図1、図2、図17A及び図17Bを参照して本発明の第2の実施の形態に係る相転移メモリ素子及び前記相転移メモリ素子の動作を説明する。図17Aは本発明の第2の実施の形態に係る相転移メモリ素子を説明するための図2の切断線I−I’による断面図であって、図17Bは図2の切断線II−II’による断面図である。
図1、図2、図17A及び図17Bを参照すると、本発明の第2の実施の形態に係る相転移メモリ素子は、図12ないし図16を介して説明してあるので省略する。図に示すように、前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記界面膜85A、前記下部電極83’、前記ダイオード電極67、及び前記ダイオード63(D)を介して前記ワードライン55(WL)に電気的に接続される。
前記ビットライン93(BL)及び前記ワードライン55(WL)が選択され、前記下部電極83’を介してプログラム電流が流れる場合、前記相転移パターン89’(Rp)の一部(以下、「転移領域89T」という)を非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。前記非晶質状態を有する前記転移領域89Tの比抵抗は、前記結晶質状態を有する前記転移領域89Tの比抵抗よりも高い。したがって、読み出しモードで前記転移領域89Tを介して流れる電流を検知することによって、前記相転移パターン89’(Rp)に保存されている情報が論理「1」なのか論理「0」なのかを判定することができる。
前記転移領域89Tは、前記下部電極83’の上端表面に対応する大きさ及び形態を示すことができる。前記下部電極83’の上端表面が前記リング状の場合は、前記転移領域89Tもリング状とすることができる。すなわち、前記転移領域89Tの体積を最小化することができる。したがって、小さいプログラム電流だけで前記転移領域89Tを非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。
図2及び図18を参照して本発明の第3の実施の形態に係る相転移メモリ素子の製造方法及びその相転移メモリ素子を説明する。
図2及び図18を参照すると、本発明の第3の実施の形態に係る相転移メモリ素子は図12で説明したような方法で形成された基板51、素子分離膜53、ワードライン55(WL)、下部絶縁膜58、下部コンタクトホール58H、ダイオード63(D)、及びダイオード電極67を備える。しかし、前記ダイオード電極67は省略することができる。この場合に、前記ダイオード63(D)及び前記下部絶縁膜58の上部表面は同一平面上に露出される。
前記ダイオード電極67を有する前記基板51上に上部絶縁膜73を形成することができる。前記上部絶縁膜73をパターニングして前記ダイオード電極67を露出する上部コンタクトホール75を形成することができる。前記上部コンタクトホール75の側壁にコンタクトスペーサ81’を形成することができる。
前記上部コンタクトホール75内に下部電極83’及びコアパターン84’を形成することができる。前記下部電極83’は前記コアパターン84’の側壁及び底表面を覆うように形成される。前記下部電極83’は前記ダイオード電極67に接触される。前記下部電極83’の上端表面はリング状で形成することができる。前記下部電極83’は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。前記下部電極83’上に前記上部コンタクトホール75を部分的に埋め込む相転移パターン89’(Rp)を形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。前記相転移パターン89’(Rp)はカルコゲナイド物質膜で形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’及び前記コアパターン84’に接触される。前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’上に自己整列される。
続いて、等方性エッチング工程を用いて前記コンタクトスペーサ81’を部分的に除去することができる。この場合に、前記コンタクトスペーサ81’は前記相転移パターン89’(Rp)の上部表面と同一であるか、または低いレベルで残存することができる。
続いて、前記相転移パターン89’(Rp)と接触されているビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92で形成することができる。
続いて、前記相転移パターン89’(Rp)と接触されているビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92で形成することができる。
前記ビットライン93(BL)は前記上部コンタクトホール75内で伸長することができる。すなわち、前記上部コンタクトホール75内に前記ビットライン93(BL)に接続されたビット延長部93Eが形成される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
図に示すように、前記相転移パターン89’(Rp)上の前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93Eによって前記上部絶縁膜73上の前記ビットライン93(BL)より最も厚く形成される。これによって、前記ビットライン93(BL)を形成する間にフォト工程により整列誤差が生じても前記相転移パターン89’(Rp)の損傷を防止することができる。
上述のように、前記下部電極83’上に前記相転移パターン89’(Rp)及び前記ビット延長部93Eが自己整列される。前記ビットライン93(BL)は前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記下部電極83’、前記ダイオード電極67、及び前記ダイオード63(D)を介して前記ワードライン55(WL)に電気的に接続される。
前記ビットライン93(BL)及び前記ワードライン55(WL)が選択され、前記下部電極83’を介してプログラム電流が流れる場合、前記相転移パターン89’(Rp)の一部(以下、「転移領域89T」という)を非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。前記転移領域89Tは、前記下部電極83’の上端表面に対応する大きさ及び形態を示すことができる。前記下部電極83’の上端表面が前記リング状の場合、前記転移領域89Tもリング状とすることができる。すなわち、前記転移領域89Tの体積を最小化することができる。したがって、小さいプログラム電流だけで前記転移領域89Tを非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。
図2及び図19を参照して本発明の第4の実施の形態に係る相転移メモリ素子の製造方法及びその相転移メモリ素子を説明する。
図2及び図19を参照すると、本発明の第4の実施の形態に係る相転移メモリ素子は図12で説明したような方法で形成された基板51、素子分離膜53、ワードライン55(WL)、下部絶縁膜58、下部コンタクトホール58H、ダイオード63(D)、及びダイオード電極67を備える。
前記ダイオード電極67を有する前記基板51上に上部絶縁膜73を形成することができる。前記上部絶縁膜73をパターニングして前記ダイオード電極67を露出する上部コンタクトホール75を形成することができる。前記上部コンタクトホール75の側壁にコンタクトスペーサ81を形成することができる。前記上部コンタクトホール75を部分的に埋め込む下部電極83Pを形成することができる。前記下部電極83Pは前記ダイオード電極67に接触される。前記下部電極83Pはピラー状で形成することができる。前記下部電極83Pは前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。
前記下部電極83P上に前記上部コンタクトホール75を部分的に埋め込む相転移パターン89’(Rp)を形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。前記相転移パターン89’(Rp)はカルコゲナイド物質膜で形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83Pに接触される。
続いて、等方性エッチング工程を用いて前記コンタクトスペーサ81を部分的に除去することができる。この場合に、前記コンタクトスペーサ81は前記相転移パターン89’(Rp)の上部表面と等しいか、または低いレベルで残存することができる。
続いて、前記相転移パターン89’(Rp)と接触されているビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92で形成することができる。
前記ビットライン93(BL)は前記上部コンタクトホール75内で伸長することができる。すなわち、前記上部コンタクトホール75内で前記ビットライン93(BL)と接続されたビット延長部93Eが形成されることができる。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
図に示すように、前記相転移パターン89’(Rp)上の前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93Eによって前記上部絶縁膜73上の前記ビットライン93(BL)よりも最も厚く形成される。これによって、前記ビットライン93(BL)を形成する間にフォト工程により整列誤差が生じても前記相転移パターン89’(Rp)の損傷を防止することができる。
上述のように、前記下部電極83P上に前記相転移パターン89’(Rp)及び前記ビット延長部93Eが自己整列される。前記ビットライン93(BL)は、前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記下部電極83P、前記ダイオード電極67、及び前記ダイオード63(D)を介して前記ワードライン55(WL)に電気的に接続される。
前記ビットライン93(BL)及び前記ワードライン55(WL)が選択され、前記下部電極83Pを介してプログラム電流が流れる場合に、前記相転移パターン89’(Rp)の一部(以下、「転移領域89T」という)を非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。前記転移領域89Tは前記下部電極83Pの上端表面に対応する大きさ及び形態を示すことができる。
図20は本発明の第5の実施の形態に係る相転移メモリ素子のセルアレイ領域の一部を示す等価回路図であり、図21は本発明の第5の実施の形態に係る相転移メモリ素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
図20を参照すると、本発明の第5の実施の形態に係る相転移メモリ素子は、列方向に互いに平行に配置されたビットラインBL、行方向に互いに平行に配置されたワードラインWL、多数の相転移パターンRp、及び多数のトランジスタTaを備える。
前記ビットラインBLは前記ワードラインWLに交差するように配置される。前記相転移パターンRpのそれぞれは前記ビットラインBL及び前記ワードラインWLの交差点に配置される。前記相転移パターンRpのそれぞれは前記トランジスタTa中に対応する一つのソース/ドレイン領域に直列接続される。また、前記相転移パターンRpのそれぞれは前記ビットラインBL中に対応する一つに接続される。前記トランジスタTaのそれぞれは前記ワードラインWL中に対応する一つに接続される。前記トランジスタTaはアクセス素子の役割をする。しかし、前記トランジスタTaは省略することができる。一方、前記アクセス素子はダイオードとすることもできる。
図21を参照すると、基板51上に活性領域52を画定する素子分離膜53を形成することができる。前記活性領域52上にワードライン59(WL)を形成することができる。前記ワードライン59(WL)の両側に隣接している前記活性領域52内にソース/ドレイン領域156を形成することができる。前記ワードライン59(WL)を有する前記基板51上を覆う下部絶縁膜157を形成することができる。前記ワードライン59(WL)、前記活性領域52及び前記ソース/ドレイン領域156はトランジスタ図20のTaを構成することができる。
前記下部絶縁膜157内に第1プラグ161及び第2プラグ165を形成することができる。前記第1プラグ161上にドレインパッド163及び前記第2プラグ165上にソースライン167を形成することができる。前記下部絶縁膜157、前記ドレインパッド163及び前記ソースライン167の上部表面は同一平面上に露出される。前記ドレインパッド163は、前記下部絶縁膜157を貫通する前記第1プラグ161によって前記ソース/ドレイン領域156から選択された一つに電気的に接続される。前記ソースライン167は、前記下部絶縁膜157を貫通する前記第2プラグ165によって前記ソース/ドレイン領域156から選択された他の一つに電気的に接続される。
前記下部絶縁膜157上に上部絶縁膜73を形成することができる。前記上部絶縁膜73をパターニングして前記ドレインパッド163を露出するコンタクトホール75を形成することができる。前記コンタクトホール75の側壁にコンタクトスペーサ81を形成することができる。前記コンタクトホール75内に下部電極83’及びコアパターン84’を形成することができる。前記下部電極83’は前記コアパターン84’の側壁及び底表面を覆うように形成される。前記下部電極83’は前記ドレインパッド163に接触される。前記下部電極83’の上端表面はリング状に形成することができる。前記下部電極83’は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。
前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を形成する間、前記コンタクトスペーサ81も一緒にエッチングされて下にリセスされる。この場合に、前記コンタクトスペーサ81は前記下部電極83’と前記層間絶縁膜57との間に残存することができる。
前記コンタクトホール75に露出した前記上部絶縁膜73を等方性エッチングして前記下部電極83’上に拡張されるコンタクトホール76を形成することができる。前記拡張されたコンタクトホール76の直径は、前記コンタクトホール75よりも大きくすることができる。前記拡張されたコンタクトホール76は前記コンタクトホール75に自己整列される。前記拡張されたコンタクトホール76内に前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81の上部表面が露出される。前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81の上部表面は同一平面上に露出される。
前記拡張されたコンタクトホール76を有する前記基板51上に界面膜85を形成することができる。前記界面膜85は前記拡張されたコンタクトホール76の内壁を覆うように形成される。前記界面膜85は前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を覆うことができる。前記拡張されたコンタクトホール76の側壁に前記界面膜85を覆うキャッピングパターン88を形成することができる。
前記下部電極83’上に前記拡張されたコンタクトホール76を部分的に埋め込む相転移パターン89’(Rp)を形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。前記相転移パターン89’(Rp)はカルコゲナイド物質膜で形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記界面膜85に接触される。前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’上に自己整列される。
前記相転移パターン89’(Rp)と接触されているビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は、順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92で形成することができる。しかし、前記ビット障壁金属パターン91は省略することができる。
前記ビットライン93(BL)は前記拡張されたコンタクトホール76内で伸長することができる。すなわち、前記拡張されたコンタクトホール76内に前記ビットライン93(BL)に接続されたビット延長部93Eが形成されることができる。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
上述のように、前記下部電極83’上に前記相転移パターン89’(Rp)及び前記ビット延長部93Eが自己整列される。前記ビットライン93(BL)は前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記界面膜85、前記下部電極83’、前記ドレインパッド163、及び前記第1プラグ161を介して前記ソース/ドレイン領域156から選択された一つに電気的に接続される。
前記ビットライン93(BL)及び前記ワードライン159(WL)が選択され、前記下部電極83’を介してプログラム電流が流れる場合に、前記相転移パターン89’(Rp)の一部(以下、「転移領域89T」という)を非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。前記転移領域89Tは前記下部電極83’の上端表面に対応する大きさ及び形態を示すことができる。
図22は本発明の第6の実施の形態に係る相転移メモリ素子のセルアレイ領域の一部を示す等価回路図であり、図23は本発明の第6の実施の形態に係る相転移メモリ素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
図22を参照すると、本発明の第6の実施の形態に係る相転移メモリ素子は、列方向に互いに平行に配置されたビットラインBL、行方向に互いに平行に配置されたワードラインWL、及び多数の相転移パターンRpを備える。
前記ビットラインBLは前記ワードラインWLに交差するように配置される。前記相転移パターンRpのそれぞれは前記ビットラインBL及び前記ワードラインWLの交差点に配置される。前記相転移パターンRpの一端は前記ビットラインBLに対応する一つに接続される。前記相転移パターンRpの他端は前記ワードラインWLに対応する一つに接続される。
図23を参照すると、基板51上に下部絶縁膜57を形成することができる。前記下部絶縁膜57内にワードライン266(WL)を形成することができる。前記ワードライン255(WL)は導電性配線に形成することができる。前記ワードライン255(WL)及び前記下部絶縁膜57の上部表面は同一平面上に露出される。
前記下部絶縁膜57及び前記ワードライン255(WL)を覆う上部絶縁膜73を形成することができる。前記上部絶縁膜73をパターニングして前記ワードライン255(WL)を部分的に露出するコンタクトホール75を形成することができる。前記コンタクトホール75の側壁にコンタクトスペーサ81を形成することができる。
前記コンタクトホール75内に下部電極83’及びコアパターン84’を形成することができる。前記下部電極83’は前記コアパターン84’の側壁及び下端を覆うように形成される。前記下部電極83’は前記ワードライン255(WL)に接触される。前記下部電極83’の上端表面はリング状に形成することができる。前記下部電極83’は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。
前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を形成する間、前記コンタクトスペーサ81も一緒にエッチングされて下にリセスされる。この場合に、前記コンタクトスペーサ81は前記下部電極83’と前記層間絶縁膜57との間に残存することができる。
前記コンタクトホール75に露出した前記上部絶縁膜73を等方性エッチングして前記下部電極83’上に拡張されたコンタクトホール76を形成することができる。前記拡張されたコンタクトホール76の直径は前記コンタクトホール75よりも大きくすることができる。前記拡張されたコンタクトホール76は前記コンタクトホール75に自己整列される。前記拡張されたコンタクトホール76内に前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81の上部表面が露出される。前記コアパターン84’、前記下部電極83’及び前記コンタクトスペーサ81の上部表面は同一平面上に露出される。
前記拡張されたコンタクトホール76を有する前記基板51上に界面膜85を形成することができる。前記界面膜85は前記拡張されたコンタクトホール76の内壁を覆うように形成される。前記界面膜85は前記下部電極83’及び前記コアパターン84’を覆うことができる。前記拡張されたコンタクトホール76の側壁に前記界面膜85を覆うキャッピングパターン88を形成することができる。
前記下部電極83’上に前記拡張されたコンタクトホール76を部分的に埋め込む相転移パターン89’(Rp)を形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記上部絶縁膜73の上部表面よりも低いレベルで形成される。前記相転移パターン89’(Rp)はカルコゲナイド物質膜で形成することができる。前記相転移パターン89’(Rp)は前記界面膜85に接触される。前記相転移パターン89’(Rp)は前記下部電極83’上に自己整列される。
前記相転移パターン89’(Rp)と接触されているビットライン93(BL)を形成することができる。前記ビットライン93(BL)は順に積層されたビット障壁金属パターン91及びビット導電パターン92で形成することができる。しかし、前記ビット障壁金属パターン91は省略することができる。
前記ビットライン93(BL)は前記拡張されたコンタクトホール76内で伸長することができる。すなわち、前記拡張されたコンタクトホール76内で前記ビットライン93(BL)と接続されたビット延長部93Eが形成される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)に接触される。前記ビット延長部93Eは前記相転移パターン89’(Rp)上に自己整列される。前記ビット延長部93Eは上部電極の役割をする。
上述のように、前記下部電極83’上に前記相転移パターン89’(Rp)及び前記ビット延長部93Eが自己整列される。前記ビットライン93(BL)は前記ビット延長部93E、前記相転移パターン89’(Rp)、前記界面膜85、及び前記下部電極83’を介して前記ワードライン255(WL)に電気的に接続される。
前記ビットライン93(BL)及び前記ワードライン255(WL)が選択され、前記下部電極83’を介してプログラム電流が流れる場合に、前記相転移パターン89’(Rp)の一部(以下、「転移領域89T」という)を非晶質状態または結晶質状態に変換することができる。前記転移領域89Tは前記下部電極83’の上端表面に対応する大きさ及び形態を示すことができる。
図24は本発明の実施の形態に係る相転移メモリ素子を採用する電子システム300の概略的なブロック図である。
図24を参照すると、前記電子システム300は、相転移メモリ素子303及び前記相転移メモリ素子303に電気的に接続されたマイクロプロセッサ305を含むことができる。ここで、前記相転移メモリ素子303は、図1ないし図23を参照して説明した前記相転移メモリ素子を含むことができる。
前記電子システム300は、ノートパソコン、デジタルカメラあるいは携帯電話機の一部に相当する。この場合に、前記マイクロプロセッサ305及び前記相転移メモリ素子303はボード上に設置されることができ、前記相転移メモリ素子303は前記マイクロプロセッサ305の実行のためのデータ保存媒体の役割をする。
前記電子システム300は、入/出力装置307を介してパソコンまたはコンピュータのネットワークのような他の電子システムとデータを交換することができる。前記入/出力装置307は、コンピュータの周辺バスライン、高速デジタル送信ライン、または無線送/受信用アンテナにデータを提供することができる。前記マイクロプロセッサ305と前記相転移メモリ素子303との間のデータ通信とともに、前記マイクロプロセッサ305と前記入/出力装置307との間のデータ通信は、通常のバス構造体を用いて行うことができる。
51 前記基板
53 素子分離膜
55(WL) ワードライン
57 層間絶縁膜
57H コンタクトホール
61、62 第1及び第2半導体パターン
63(D) ダイオード
67 ダイオード電極
76 コンタクトホール
81 コンタクトスペーサ
83’ 下部電極
84’ コアパターン
85 界面膜
88 キャッピングパターン
89’(Rp) 相転移パターン
91 ビット障壁金属パターン
92 ビット導電パターン
93(BL) ビットライン
93E ビット延長部
53 素子分離膜
55(WL) ワードライン
57 層間絶縁膜
57H コンタクトホール
61、62 第1及び第2半導体パターン
63(D) ダイオード
67 ダイオード電極
76 コンタクトホール
81 コンタクトスペーサ
83’ 下部電極
84’ コアパターン
85 界面膜
88 キャッピングパターン
89’(Rp) 相転移パターン
91 ビット障壁金属パターン
92 ビット導電パターン
93(BL) ビットライン
93E ビット延長部
Claims (23)
- 基板上にコンタクトホールを有する層間絶縁膜を形成するステップと、
前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンを形成するステップと、
前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記層間絶縁膜上を横切るビットラインを形成するステップと、を含み、前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触されることを特徴とする相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記相転移パターンを形成するステップは、
前記コンタクトホールを埋め込む相転移物質膜を形成するステップと、
前記相転移物質膜をエッチバックして前記層間絶縁膜の上部表面より下にリセスするステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記相転移パターンは、Te、Se、Ge、Sb、Bi、Pb、Sn、Ag、As、S、Si、P、O、及びCからなるグループから選択された二つ以上の化合物で形成することを特徴とする請求項2に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
- 前記ビットラインを形成するステップは、
前記相転移パターン、前記コンタクトホールの側壁及び前記層間絶縁膜を覆うビット障壁金属膜を形成するステップと、
前記ビット障壁金属膜上に前記コンタクトホールを完全に埋め込んで前記層間絶縁膜を覆うビット導電膜を形成するステップであって、前記相転移パターン上の前記ビット導電膜が前記層間絶縁膜上の前記ビット導電膜よりも厚いところのステップと、
前記ビット導電膜及び前記ビット障壁金属膜を部分的に除去するステップと、
を含むことを特徴とする請求項2に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記相転移パターンを形成するステップの前に、
前記層間絶縁膜をエッチングして前記コンタクトホールを拡張するステップと、
前記拡張されたコンタクトホールの側壁にキャッピングパターンを形成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記キャッピングパターンを形成するステップの前に、
前記拡張されたコンタクトホールに界面膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記界面膜は、TiO、ZrO、及び導電性炭素群膜からなるグループから選択された一つで形成することを特徴とする請求項6に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
- 前記相転移パターンを形成するステップの前に、
前記相転移パターン下部の前記コンタクトホールに下部電極を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記下部電極を形成するステップは、
前記コンタクトホールの側壁及び底部を覆う下部導電膜を形成するステップと、
前記下部導電膜上に前記コンタクトホールを埋め込むコア膜を形成するステップと、
前記下部導電膜及び前記コア膜をエッチバックするステップと、
を含むことを特徴とする請求項8に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記コア膜は、前記下部導電膜よりも電気抵抗が高い物質膜で形成することを特徴とする請求項9に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
- 前記下部電極を形成するステップの前に、
前記コンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記下部電極を形成するステップの前に、
前記基板上にワードラインを形成するステップと、
前記下部電極及び前記ワードライン間の前記コンタクトホール内にダイオードを形成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記ダイオード及び前記下部電極間にダイオード電極を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
- 前記ダイオード電極は、Ti膜、TiSi膜、TiN膜、TiON膜、TiW膜、TiAlN膜、TiAlON膜、TiSiN膜、TiBN膜、W膜、WN膜、WON膜、WSiN膜、WBN膜、WCN膜、Si膜、Ta膜、TaSi膜、TaN膜、TaON膜、TaAlN膜、TaSiN膜、TaCN膜、Mo膜、MoN膜、MoSiN膜、MoAlN膜、NbN膜、ZrSiN膜、ZrAlN膜、Ru膜、CoSi膜、NiSi膜、導電性炭素群膜、Cu膜、及びこれらの組み合わせ膜からなるグループから選択された一つで形成することを特徴とする請求項13に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
- 基板上に中間コンタクトホールを有する中間絶縁膜を形成するステップと、
前記中間コンタクトホールに下部電極を形成するステップと、
前記下部電極及び前記中間絶縁膜を覆う上部絶縁膜を形成するステップと、
前記下部電極上の前記上部絶縁膜を貫通する上部コンタクトホールを形成するステップと、
前記上部コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンを形成するステップと、
前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記上部絶縁膜上を横切るビットラインを形成するステップと、を含み、前記ビット延長部は前記相転移パターンに接触されることを特徴とする相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記下部電極を形成するステップは、
前記中間コンタクトホールの側壁及び底部を覆って前記中間絶縁膜を覆う下部導電膜を形成するステップと、
前記下部導電膜上にコア膜を形成するステップと、
前記下部導電膜及び前記コア膜を平坦化するステップと、
を含むことを特徴とする請求項15に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記下部電極を形成するステップの前に、
前記中間コンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記上部絶縁膜を形成するステップの前に、
前記下部電極上を覆う界面膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記下部電極を形成するステップの前に、
前記基板上にワードラインを形成するステップと、
前記ワードライン上にダイオードを形成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記ダイオード及び前記下部電極間にダイオード電極を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
- 前記相転移パターンを形成するステップの前に、
前記上部コンタクトホールの側壁にキャッピングパターンを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記相転移パターンを形成するステップは、
前記上部コンタクトホールを埋め込む相転移物質膜を形成するステップと、
前記相転移物質膜をエッチバックして前記上部絶縁膜の上部表面より下にリセスするステップと、
を含むことを特徴とする請求項15に記載の相転移メモリ素子の製造方法。 - 前記ビットラインを形成するステップは、
前記相転移パターン、前記上部コンタクトホールの側壁及び前記上部絶縁膜を覆うビット障壁金属膜を形成するステップと、
前記ビット障壁金属膜上に前記上部コンタクトホールを完全に埋め込んで前記上部絶縁膜を覆うビット導電膜を形成するステップであって、前記相転移パターン上の前記ビット導電膜が前記上部絶縁膜上の前記ビット導電膜よりも厚いところのステップと、
前記ビット導電膜及び前記ビット障壁金属膜を部分的に除去するステップと、
を含むことを特徴とする請求項22に記載の相転移メモリ素子の製造方法。
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