JP2008266770A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008266770A5
JP2008266770A5 JP2007229787A JP2007229787A JP2008266770A5 JP 2008266770 A5 JP2008266770 A5 JP 2008266770A5 JP 2007229787 A JP2007229787 A JP 2007229787A JP 2007229787 A JP2007229787 A JP 2007229787A JP 2008266770 A5 JP2008266770 A5 JP 2008266770A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ferroelectric film
film
forming
ferroelectric
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007229787A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2008266770A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007229787A priority Critical patent/JP2008266770A/ja
Priority claimed from JP2007229787A external-priority patent/JP2008266770A/ja
Priority to EP08005206.1A priority patent/EP1973177B8/en
Priority to US12/052,547 priority patent/US8100513B2/en
Publication of JP2008266770A publication Critical patent/JP2008266770A/ja
Publication of JP2008266770A5 publication Critical patent/JP2008266770A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

JP2007229787A 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置 Withdrawn JP2008266770A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007229787A JP2008266770A (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
EP08005206.1A EP1973177B8 (en) 2007-03-22 2008-03-19 Ferroelectric film, process for producing the same, ferroelectric device, and liquid discharge device
US12/052,547 US8100513B2 (en) 2007-03-22 2008-03-20 Ferroelectric film, process for producing the same, ferroelectric device, and liquid discharge device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007074026 2007-03-22
JP2007229787A JP2008266770A (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008266770A JP2008266770A (ja) 2008-11-06
JP2008266770A5 true JP2008266770A5 (enExample) 2010-04-15

Family

ID=40046641

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007229788A Withdrawn JP2008266771A (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP2007229787A Withdrawn JP2008266770A (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP2007229789A Active JP4808689B2 (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP2007229786A Active JP5367242B2 (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007229788A Withdrawn JP2008266771A (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007229789A Active JP4808689B2 (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP2007229786A Active JP5367242B2 (ja) 2007-03-22 2007-09-05 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (4) JP2008266771A (enExample)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008266771A (ja) * 2007-03-22 2008-11-06 Fujifilm Corp 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP4438892B1 (ja) 2009-02-03 2010-03-24 富士フイルム株式会社 圧電体とその製造方法、圧電素子、及び液体吐出装置
JP5592104B2 (ja) 2009-02-17 2014-09-17 富士フイルム株式会社 圧電体膜並びにそれを備えた圧電素子及び液体吐出装置
US8540851B2 (en) * 2009-02-19 2013-09-24 Fujifilm Corporation Physical vapor deposition with impedance matching network
JP5435206B2 (ja) * 2009-02-25 2014-03-05 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
US8164234B2 (en) * 2009-02-26 2012-04-24 Fujifilm Corporation Sputtered piezoelectric material
JP2011029532A (ja) * 2009-07-29 2011-02-10 Fujitsu Ltd 強誘電体キャパシタ及び強誘電体メモリ装置
JP2011181828A (ja) * 2010-03-03 2011-09-15 Fujifilm Corp 圧電体膜とその製造方法、圧電素子および液体吐出装置
JP5555072B2 (ja) 2010-06-25 2014-07-23 富士フイルム株式会社 圧電体膜、圧電素子および液体吐出装置
JP5601899B2 (ja) * 2010-06-25 2014-10-08 富士フイルム株式会社 圧電体膜および圧電素子
JP5865601B2 (ja) 2011-04-28 2016-02-17 株式会社リコー 強誘電体膜の製造方法及び強誘電体膜の製造装置
KR20160015805A (ko) * 2014-07-31 2016-02-15 삼성전기주식회사 Pzt계 압전 세라믹 재료 및 이를 이용한 압전 소자
WO2016031134A1 (ja) 2014-08-29 2016-03-03 富士フイルム株式会社 圧電体膜とその製造方法、圧電素子、及び液体吐出装置
JP6284875B2 (ja) 2014-11-28 2018-02-28 富士フイルム株式会社 圧電体膜及びそれを備えた圧電素子、及び液体吐出装置
JP6699662B2 (ja) * 2015-05-25 2020-05-27 コニカミノルタ株式会社 圧電薄膜、圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、インクジェットプリンタおよび圧電アクチュエータの製造方法
JPWO2017018222A1 (ja) * 2015-07-24 2018-06-07 株式会社ユーテック 圧電体膜及びその製造方法、バイモルフ素子、圧電体素子及びその製造方法
JP6661771B2 (ja) * 2016-07-28 2020-03-11 富士フイルム株式会社 圧電体膜、圧電素子および圧電体膜の製造方法
DE112017003384B4 (de) 2016-08-31 2020-02-20 Fujifilm Corporation Piezoelektrischer Film und piezoelektrisches Element mit einem solchen Film
CN109983592B (zh) 2016-12-12 2023-05-12 松下知识产权经营株式会社 压电功能膜、致动器以及喷墨头
WO2018150844A1 (ja) 2017-02-16 2018-08-23 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 圧電素子、アクチュエータおよび液滴吐出ヘッド
JP7575472B2 (ja) 2020-09-30 2024-10-29 富士フイルム株式会社 圧電積層体及び圧電素子
EP4318619B1 (en) * 2021-03-25 2025-09-03 FUJIFILM Corporation Piezoelectric film, piezoelectric element and method for producing piezoelectric film

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5719607A (en) * 1994-08-25 1998-02-17 Seiko Epson Corporation Liquid jet head
JP3381473B2 (ja) * 1994-08-25 2003-02-24 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド
JP3487068B2 (ja) * 1995-04-03 2004-01-13 セイコーエプソン株式会社 圧電体薄膜およびその製造法ならびにそれを用いたインクジェット記録ヘッド
JP2000203990A (ja) * 1999-01-19 2000-07-25 Japan Science & Technology Corp プラズマスパッタリングによる結晶薄膜の低温成長法
JP4171908B2 (ja) * 2004-01-20 2008-10-29 セイコーエプソン株式会社 強誘電体膜、強誘電体メモリ、及び圧電素子
JP4450654B2 (ja) * 2004-03-25 2010-04-14 株式会社アルバック スパッタ源及び成膜装置
JP2007042818A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Fujitsu Ltd 成膜装置及び成膜方法
JP4396857B2 (ja) * 2005-08-30 2010-01-13 セイコーエプソン株式会社 絶縁性ターゲット材料の製造方法
JP4142705B2 (ja) * 2006-09-28 2008-09-03 富士フイルム株式会社 成膜方法、圧電膜、圧電素子、及び液体吐出装置
JP4142706B2 (ja) * 2006-09-28 2008-09-03 富士フイルム株式会社 成膜装置、成膜方法、絶縁膜、誘電体膜、圧電膜、強誘電体膜、圧電素子および液体吐出装置
JP2008266771A (ja) * 2007-03-22 2008-11-06 Fujifilm Corp 強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP4993294B2 (ja) * 2007-09-05 2012-08-08 富士フイルム株式会社 ペロブスカイト型酸化物、強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008266770A5 (enExample)
JP2008266771A5 (enExample)
JP2009062564A5 (enExample)
JP2008266772A5 (enExample)
JP2007300071A5 (enExample)
JP5790759B2 (ja) 強誘電体薄膜およびその製造方法
JP6176942B2 (ja) 圧電素子、液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置
US20130127298A1 (en) Piezoelectric material and devices using the same
JP2009062207A5 (enExample)
JP2007288123A5 (enExample)
JP2012519378A5 (enExample)
JP4452752B2 (ja) 鉛含有圧電膜およびその作製方法、鉛含有圧電膜を用いる圧電素子、ならびにこれを用いる液体吐出装置
JP4998652B2 (ja) 強誘電体薄膜、強誘電体薄膜の製造方法、圧電体素子の製造方法
CN104944942B (zh) 压电组合物和压电元件
JP2009062208A5 (enExample)
JPWO2012144185A1 (ja) 誘電体素子用基材とその製造方法、並びにこの誘電体素子用基材を用いた圧電体素子
CN107078206A (zh) 多层压电薄膜元件
JP2008277783A5 (enExample)
CN104628380B (zh) 压电组合物和压电元件
WO2012165110A1 (ja) 強誘電体膜およびそれを備えた圧電素子
JP2008305821A (ja) 圧電体薄膜素子、圧電体薄膜素子の製造方法、インクジェットヘッド、およびインクジェット式記録装置
WO2017002341A1 (ja) 積層薄膜構造体の製造方法、積層薄膜構造体及びそれを備えた圧電素子
JP2007088444A5 (enExample)
CN104817320B (zh) 压电组合物和压电元件
JP6499810B2 (ja) 圧電体膜及びそれを備えた圧電素子