JP2008277783A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008077627A JP2008277783A (ja) | 2007-03-30 | 2008-03-25 | エピタキシャル膜、圧電体素子、強誘電体素子、これらの製造方法及び液体吐出ヘッド |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007094116 | 2007-03-30 | ||
| JP2008077627A JP2008277783A (ja) | 2007-03-30 | 2008-03-25 | エピタキシャル膜、圧電体素子、強誘電体素子、これらの製造方法及び液体吐出ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008277783A JP2008277783A (ja) | 2008-11-13 |
| JP2008277783A5 true JP2008277783A5 (enExample) | 2011-02-03 |
Family
ID=39362721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008077627A Pending JP2008277783A (ja) | 2007-03-30 | 2008-03-25 | エピタキシャル膜、圧電体素子、強誘電体素子、これらの製造方法及び液体吐出ヘッド |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8198199B2 (enExample) |
| JP (1) | JP2008277783A (enExample) |
| CN (2) | CN101641806B (enExample) |
| WO (1) | WO2008126575A1 (enExample) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102823007B (zh) * | 2010-03-29 | 2014-04-09 | 日立金属株式会社 | 压电薄膜器件及其制造方法以及压电薄膜装置 |
| JP6920358B2 (ja) * | 2016-06-19 | 2021-08-18 | アイキューイー ピーエルシーIQE plc | RFフィルタ用途のためのエピタキシャルAlN/希土類酸化物構造 |
| CN108597875B (zh) * | 2018-04-03 | 2020-10-30 | 湘潭大学 | 一种透明柔性全氧化物异质外延铁电薄膜及其制备方法 |
| CN111682100B (zh) * | 2020-07-07 | 2022-05-13 | 中国科学技术大学 | 压电产生装置及其制作方法、微机电系统 |
| JP7533078B2 (ja) * | 2020-09-29 | 2024-08-14 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置、アクチュエーター |
| KR20250116437A (ko) | 2024-01-25 | 2025-08-01 | 케이랩 주식회사 | 분광광도계의 광경로 길이조절 장치 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0618174B2 (ja) * | 1986-07-08 | 1994-03-09 | シャープ株式会社 | 半導体基板 |
| JPH0282585A (ja) | 1988-09-19 | 1990-03-23 | Res Dev Corp Of Japan | 超電導配線 |
| JP3223233B2 (ja) * | 1994-08-17 | 2001-10-29 | ティーディーケイ株式会社 | 酸化物薄膜、電子デバイス用基板および酸化物薄膜の形成方法 |
| JP3346939B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2002-11-18 | ティーディーケイ株式会社 | Si基板およびその表面処理方法 |
| JPH08181289A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Yasuo Tarui | 強誘電体薄膜と基体との複合構造体およびその製造方法 |
| JP3310881B2 (ja) | 1995-08-04 | 2002-08-05 | ティーディーケイ株式会社 | 積層薄膜、電子デバイス用基板、電子デバイスおよび積層薄膜の製造方法 |
| US5753934A (en) * | 1995-08-04 | 1998-05-19 | Tok Corporation | Multilayer thin film, substrate for electronic device, electronic device, and preparation of multilayer oxide thin film |
| JP3286127B2 (ja) * | 1995-08-14 | 2002-05-27 | ティーディーケイ株式会社 | Soiデバイスおよびその製造方法 |
| DE19711137C1 (de) * | 1997-03-07 | 1998-08-13 | Siemens Ag | Verfahren zum Aufbringen texturierter YSZ-Schichten durch Sputter-Beschichten |
| JPH10265948A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-06 | Rohm Co Ltd | 半導体装置用基板およびその製法 |
| JP3833070B2 (ja) | 2001-02-09 | 2006-10-11 | キヤノン株式会社 | 液体噴射ヘッドおよび製造方法 |
| JP3907628B2 (ja) * | 2003-02-07 | 2007-04-18 | キヤノン株式会社 | 圧電アクチュエーターおよびその製造方法ならびに液体吐出ヘッド |
| CN100335415C (zh) * | 2003-02-28 | 2007-09-05 | 新加坡纳米材料科技有限公司 | 一种制备各种晶态钙钛矿类化合物粉体的方法 |
| US7262544B2 (en) | 2004-01-09 | 2007-08-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Dielectric element, piezoelectric element, ink jet head and method for producing the same head |
| JP4670495B2 (ja) * | 2004-09-06 | 2011-04-13 | Tdk株式会社 | 電子デバイス及びその製造方法 |
| US7998362B2 (en) * | 2005-08-23 | 2011-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric substance, piezoelectric element, liquid discharge head using piezoelectric element, liquid discharge apparatus, and production method of piezoelectric element |
| JP2007112069A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
-
2008
- 2008-03-05 CN CN2008800098021A patent/CN101641806B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-03-05 CN CN2011101486371A patent/CN102214788A/zh active Pending
- 2008-03-05 WO PCT/JP2008/054425 patent/WO2008126575A1/en not_active Ceased
- 2008-03-05 US US12/526,308 patent/US8198199B2/en active Active
- 2008-03-25 JP JP2008077627A patent/JP2008277783A/ja active Pending
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