JP2008227169A - 半導体レーザ素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来の半導体レーザ構造では、共振器端面の反射率が高い場合には、高いCOD光出力を実現することが困難であった。
【解決手段】本発明は、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、各層の光路長が(2m−1)・λ/4 (λ:発振波長、m:正の整数)であり、かつ半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。
【選択図】図1
【解決手段】本発明は、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、各層の光路長が(2m−1)・λ/4 (λ:発振波長、m:正の整数)であり、かつ半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。
【選択図】図1
Description
本発明は、端面破壊が少なく、静電破壊耐性の高い高信頼性の半導体レーザ素子に関する。
半導体レーザは、小型で高効率動作が可能なため、光通信、光ディスク、及び計測用途の光源として幅広く活用されている。半導体レーザでは、低い発振しきい値と所望のスロープ効率を得るため、共振器端面の反射率を制御する必要がある。共振器端面の反射率の制御は、非特許文献1(APPLIED PHYSICS LETTERS,VOL.32,NO.11,pp725−726、1978)のFig.2に示されているような多層膜を用いるのが一般的である。非特許文献1では、各共振器端面に光路長λ/4(発振波長:λ)のAl2O3膜とアモルファスSi膜から成る多層膜を形成して、所望の反射率を得ている。半導体と接する第1層は、半導体とコーティング膜との屈折率差を大きくし、少ない層数で高い反射率を得るため、低屈折率のAl2O3膜としている。
一方、半導体レーザの光出力特性は、端面光学損傷(COD)によって制限されることが知られている。COD現象は、ある臨界光出力で端面が溶融する現象であり、端面の表面準位に起因している。特に表面酸化層が形成されやすいAlを構成元素に含む半導体レーザで問題となりやすい。CODは不可逆な破壊現象であるため、半導体レーザの信頼性を左右する重要な要素である。このCOD光出力は、端面の反射率を低減することで改善可能である。CODの生じる臨界光強度は材料固有の一定値であるため、端面反射率を低減し光の取り出し効率を高めれば、COD発生時の外部光出力を高めることができる。高出力が要求される用途では、前面反射率を10%以下程度に低め、COD光出力を向上させている。
しかし、半導体レーザに要求される性能によっては端面反射率を高める必要があり、そのような用途には低反射率によるCOD改善は適用できない。高反射率が必要な用途としては、非特許文献2(JAPANEASE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,VOL.34,pp6385−6390 PART1,NO.12A,1995)のFig.1に記載されているプリンター用光源が挙げられる。プリンター用光源には、パルス駆動での立ち上がり時と一定時間経過後との光出力変動、いわゆるドループ特性の小さいことが要求される。このドループ特性は、端面反射率を高くして光の取り出し効率を低下させ、活性層温度変動に伴う光出力変動を抑えることで低減できる。
高い端面反射率が必要な他の用途としては、非特許文献3(JOURNAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY,VOL.23,NO.12,pp3997−4003、2005)のFig.1に記載されている1.3〜1.6μm帯のAlGaInAs/InP系半導体レーザが挙げられる。1.3〜1.6μm帯AlGaInAs/InP系半導体レーザは伝導体の電子障壁が高いため、高温特性に優れており、温度調節不要な超高速光源として需要が広がっている。光通信用途では、しきい値利得を低減して微分利得を増大させ、高い緩和振動周波数を得ることが必要である。この目的には、活性層への光閉じ込め率を高め、かつ両端面の反射率を高めることが有効である。1.3〜1.6μmではフォトンエネルギーが小さいため、CODの発生する臨界光密度は短波長帯LDに比べて高い。
端面反射率に依らずCOD光出力を改善する方法として、特許文献1(特開平11−238940号公報)に記載されているような半導体レーザが報告されている(図12参照)。この構造では、コーティング膜の屈折率n1を下記の式で定まる値に設定している。
ここで、neffは、半導体導波路の等価屈折率、R1は出射端面反射率である。
ここで、neffは、半導体導波路の等価屈折率、R1は出射端面反射率である。
特許文献1に記載された構造では、半導体から端面に入射する電界とコーティング膜から反射する電界が端面で逆位相となり、打ち消し合うようになる。この結果、端面の電界強度が低減し、COD光出力が向上する。端面反射率R1に応じて、最適な屈折率を持つコーティング膜を適用すれば、幅広い端面反射率に対してもCOD光出力を高めることが可能となる。
非特許文献1の構造での課題は、半導体レーザに要求される特性とCOD光出力がトレードオフとなることである。プリンター用光源のドループ特性や光通信用光源の高速動作を追求すると、COD光出力が低下し、信頼性やESD耐性が問題となる。逆に、端面反射率を低減してCOD光出力を向上させると、各用途に必要な特性が得られなくなる。こうした、設計上のトレードオフが非特許文献1での問題点である。
また、非特許文献2で示されたような、端面反射率を高めた半導体レーザにおいては、前面、裏面とも50%以上の高反射率が必要となり、COD光出力とのトレードオフが問題となる。
また、非特許文献3の場合でも、構成元素にAlを含んでいるため、表面準位密度は高く、CODが問題となりやすい。また、COD破壊電流は順方向の静電破壊(ESD)レベルと相関するため、ESD耐性も低くなる。すなわち本用途では、高速動作とCOD破壊、ESD耐性とのトレードオフが問題となる。
これに対し、特許文献1に記載された半導体レーザの構造では、反射率とCOD光出力の1対1対応が解消され、設計自由度は拡大する。しかしながら、特許文献1の構造にはいくつかの問題がある。
第1の問題点は、特許文献1の構造は基本的に単層膜で構成していることである。単層膜の場合、最大反射率は単層コーティング膜の屈折率で決定される。30%以上の反射率を得るには、半導体導波路の等価屈折率より高いコーティング膜が必要となる。候補となる材料は、特許文献1に記載された範囲ではGaAs、GaP、BPのみとなる。これらの材料は、発振光の吸収が問題となる場合があり、かつ通常のスパッタ法やプラズマCVD法では成膜が難しい。従って、30%以上の高反射率が必要な用途には適用困難である。
第2の問題点は、所望の反射率特性に応じて最適な材料を選定しなければならないという点である。コーティング材料は、屈折率だけでなく、光透過特性、化学的安定性、耐熱性、耐酸性、及び成膜の容易さ等、種々の要因を考慮する必要があり、所望の反射率特性に応じた材料を選定するのは容易ではない。
こうした反射率設計の制限、及び材料選択の困難さが、特許文献1の構造での問題点であった。
こうした反射率設計の制限、及び材料選択の困難さが、特許文献1の構造での問題点であった。
本発明の目的は、より広い範囲の端面反射率に対してCOD光出力が高く、高信頼性の半導体レーザ素子を提供することにある。
本発明は、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、レーザ出射光の位相と該反射多層膜からの反射光の位相との位相差が、レーザ出射端面で(1±0.45)πである、半導体レーザ素子である。
すなわち1つの視点において、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、反射多層膜の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)であり、かつ半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。なお、各層ごとにmの値が同じでも良く、異なっても良い。以下同様である。また、各層は半導体に接する側から順に第1層、第2層、・・・とし、半導体から最も離れた層を最終層という。以下同様である。
また、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、反射多層膜の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)の±20%以内であり、かつ半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。
他の視点において、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、反射多層膜の第2層以降の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)であり、かつ半導体と接する第1層の光路長がn・λ/2(λ:発振波長、n:正の整数)であり、第1層から順に低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。なお、mとnの値は同じでも良く、異なっても良い。以下同様である。
また、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、反射多層膜の第2層以降の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)の±20%以内であり、かつ半導体と接する第1層の光路長がn・λ/2(λ:発振波長、n:正の整数)の±20%以内であり、第1層から順に低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。
さらに他の視点において、共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、半導体と接する第1層の屈折率をn1、層厚をd1とした時、最終層以外で第2層以降の各層の光路長がλ/4−r・n1・d1(λ:発振波長、r:補正項=0.5〜2.5)であり、かつ第1層から順に低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、半導体レーザ素子である。
また、上記半導体レーザ素子において、半導体と接する第1層の層厚d1が1〜60nmであることを特徴とする。
さらに他の視点において、上記いずれかの半導体レーザ素子において、反射多層膜の最終層に光路長がm・λ/2(λ:発振波長、m:正の整数)の保護膜を形成したことを特徴とする。
さらに他の視点において、上記いずれかの半導体レーザ素子において、半導体材料が1.3μm〜1.6μm帯のAlGaInAs/InP系であることを特徴とする。
本発明の構造では、端面部の電界強度を大幅に低減可能となり、高いCOD光出力を実現することができる。高いCOD光出力は、高信頼動作とともに、順方向のESD破壊レベルの改善をもたらす。更に本発明では、光透過性が高く、かつ成膜が容易なAl2O3、SiO2、アモルファスSi(a−Si)等のコーティング材料を用いて、30%以上の反射率を容易に形成することができる。以上、本発明の構造を用いることで、より広い範囲の端面反射率に対して、高いCOD光出力、高信頼特性、及び高いESD耐性を有する各種の半導体レーザを提供することができる。
本発明の基本原理を図1、図2を用いて詳しく説明する。図2は、非特許文献1に記載された従来の半導体レーザの構造を示している。半導体レーザ端面の少なくとも一方には、光路長λ/4(λ:発振波長)から成る多層膜(図2では2層膜)が形成されている。各界面での屈折率差を大きくし、少ない層数で高い反射率を得るため、半導体側から順に低屈折率λ/4膜1、高屈折率λ/4膜2を形成している。
半導体から多層膜への入射電界Ei、反射電界Er、及び透過電界Etとすると、反射電界Erは第1界面からの反射電界Er0、第2界面からの反射電界Er1、第3界面からの反射電界Er2、等の総和で表される。入射電界Eiと各反射電界Er0、Er1、Er2の端面での位相差は、それぞれ以下のようになる。
EiとEr0との位相差:半導体/第1層界面での反射による位相反転=0
EiとEr1との位相差:第1層中の位相変化量+第1層/第2層界面での反射に よる位相反転=λ/4×2+λ/2=λ
EiとEr2との位相差:第1、第2層中の位相変化量+第2層/Air界面での 反射による位相反転=λ/4×4+0=λ
EiとEr0との位相差:半導体/第1層界面での反射による位相反転=0
EiとEr1との位相差:第1層中の位相変化量+第1層/第2層界面での反射に よる位相反転=λ/4×2+λ/2=λ
EiとEr2との位相差:第1、第2層中の位相変化量+第2層/Air界面での 反射による位相反転=λ/4×4+0=λ
反射電界Erは各反射電界Er0、Er1、Er2等の総和となるため、入射電界Eiと反射電界Erとの位相差は、端面でλ/2の偶数倍、すなわち同位相となる。共振器内の電界強度は、入射電界Eiと反射電界Erの和(Ei+Er)2で表わされるため、端面では両者は強め合い高い値を持つ。
また、従来構造での各反射電界Er0、Er1、Er2同士の位相差は、それぞれ以下のようになる。
Er0とEr1との位相差:第1層中の位相変化量+第1層/第2層界面での反射によ る位相反転=λ/4×2+λ/2=λ
Er0とEr2との位相差:第1、2層中の位相変化量+第2層/Air界面での反射 による位相反転=λ/4×4+0=λ
従って、各反射電界Er0、Er1、Er2同士の位相差は常にλ/2の偶数倍となるため、高い反射率が得られる。
Er0とEr1との位相差:第1層中の位相変化量+第1層/第2層界面での反射によ る位相反転=λ/4×2+λ/2=λ
Er0とEr2との位相差:第1、2層中の位相変化量+第2層/Air界面での反射 による位相反転=λ/4×4+0=λ
従って、各反射電界Er0、Er1、Er2同士の位相差は常にλ/2の偶数倍となるため、高い反射率が得られる。
上記の考察では、反射電界の位相変化量は、各界面で異なっている点に注意する必要がある。光波が高屈折率層から低屈折率層に入射する場合には、その反射電界の位相は界面で変化しないが、逆に低屈折率層から高屈折率層に入射する場合には、その反射電界は界面でλ/2回転する。図2には、各界面でEr方向に反射する電界の位相変化量を併記している。
従来構造に対して、本発明では図1のような基本構造を有している。根本的な差異は、半導体側から順に高屈折率λ/4膜2、低屈折率λ/4膜1を形成し、屈折率に関して積層する順番を逆転している点である。図1に示すように、反射電界の各界面での位相変化量は従来構造とは順番が異なる。本発明では、入射電界Eiと各反射電界Er0、Er1、Er2の端面での位相差は、それぞれ以下のようになる。
EiとEr0との位相差:半導体/第1層界面での反射による位相反転=λ/2
EiとEr1との位相差:第1層中の位相変化量+第1層/第2層界面での反射による 位相反転=λ/4×2+0=λ/2
EiとEr2との位相差:第1、第2層中の位相変化量+第2層/第3層界面での反射 による位相反転=λ/4×4+λ/2=3λ/2
EiとEr0との位相差:半導体/第1層界面での反射による位相反転=λ/2
EiとEr1との位相差:第1層中の位相変化量+第1層/第2層界面での反射による 位相反転=λ/4×2+0=λ/2
EiとEr2との位相差:第1、第2層中の位相変化量+第2層/第3層界面での反射 による位相反転=λ/4×4+λ/2=3λ/2
反射電界Erは各反射電界Er0、Er1、Er2等の総和となるため、入射電界Eiと反射電界Erとの位相差は、端面でλ/2の奇数倍、すなわち逆位相となる。共振器内部の電界強度は入射電界Eiと反射電界Erの和(Ei+Er)2で表わされるため、本発明ではEiとErが打ち消し合うことになり、端面の電界強度は大幅に低下する。
また、本発明では各反射電界Er0、Er1、Er2同士の位相差は、それぞれ以下のようになる。
Er0とEr1との位相差:第1層中の位相変化量+半導体/第1層界面での反射によ る位相反転=λ/4×2+λ/2=λ
Er0とEr2との位相差:第1、2層中の位相変化量+半導体/第1層界面での反射 による位相反転+第2層/第3層界面での反射による位相 反転=λ/4×4+λ/2+λ/2=2λ
すなわち各反射電界Er0、Er1、Er2同士の位相差は、常にλ/2の偶数倍となるため、従来構造と同様な高い反射率が得られる。
Er0とEr1との位相差:第1層中の位相変化量+半導体/第1層界面での反射によ る位相反転=λ/4×2+λ/2=λ
Er0とEr2との位相差:第1、2層中の位相変化量+半導体/第1層界面での反射 による位相反転+第2層/第3層界面での反射による位相 反転=λ/4×4+λ/2+λ/2=2λ
すなわち各反射電界Er0、Er1、Er2同士の位相差は、常にλ/2の偶数倍となるため、従来構造と同様な高い反射率が得られる。
以上のように、本発明では高い反射率を維持したまま、入射電界Eiと反射電界Erを逆位相にすることが可能であり、端面の電界強度を大幅に低減することができる。原理的には、端面反射率100%の構造では、端面電界強度をゼロにすることが可能である。CODの発生する光出力は端面電界強度に比例するため、本発明の構造ではCOD光出力が大幅に向上する。高い端面反射率が要求される半導体レーザに対しても、高信頼特性と高いESD耐性を実現することができる。
本発明の構造では、基本的に半導体と接する第1層に高屈折率層を形成する。しかし半導体レーザの材料によっては、半導体表面を安定化するパッシベイション膜として、Al2O3等の誘電膜を第1層に用いることが望ましい場合がある。このように、半導体と接する第1層として、高屈折率層が不適切な場合には、図7、8、10に示すような別の実施例の構造を用いることができる。第1層には、Al2O3膜、SiO2膜等の低屈折率層を用いる。図8の構造では、第1層は光路長の短い薄膜とし、以降の各層は高屈折率、低屈折率の順に積層する。第2層以降の光路長はλ/4ではなく、下記式で決定される値とする。
λ/4−r・n1・d1 ここで、n1:第1層の屈折率
d1:第1層の層厚
r:補正項(0.5〜2.5)
λ/4−r・n1・d1 ここで、n1:第1層の屈折率
d1:第1層の層厚
r:補正項(0.5〜2.5)
第1層の層厚d1は特に限定されないが、1〜60nmであることが好ましい。
第2層以降の光路長をλ/4とすると、入射電界Eiと各界面からの反射電界の位相差がλ/2の奇数倍より大きくなってしまうため、補正項rにて調整する。r値を適切に設定することで、図8の構造でも入射電界Eiと反射電界Erを逆位相とすることができ、COD出力を大幅に高めることができる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明する。図3は本発明の実施例1に係る半導体レーザ素子の断面構造図を示している。n−InP基板17上にn−InPクラッド層16、AlGaInAs多重量子井戸活性層15、p−InPクラッド層14、p−InGaAsコンタクト層13とN電極18及び、P電極12を有する半導体レーザの共振器両端面に、コーティング膜5〜11を形成する。高屈折率コーティング膜5、7、9、11はアモルファスSi(a−Si)とし、層厚は発振波長λ=1.3μmに対して光路長がλ/4となる92.9nmとする。低屈折率コーティング膜6、8、10はAl2O3とし、層厚は光路長がλ/4となる197nmとする。ここでアモルファスSi(a−Si)とAl2O3の屈折率(N)はそれぞれ3.5、及び1.65としている。図3の構造では、前面側を4層構造、裏面側を3層構造としており、それぞれ52.9%と79.3%の高反射率が得られる。本構成では、半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されているため、両端面とも図1と同様の構成となっている。従って、端面部での電界強度が低減し、COD光出力が大幅に向上する。
次に、本発明の実施例1に係る半導体レーザ素子の製造方法を、図面を参照して説明する。へき開法により共振器端面を形成した後、高周波スパッタ法、プラズマCVD法、熱CVD法、ECRスパッタ法、及びイオンビームアシスト蒸着法等により、コーティング膜5〜11を順次形成する。異なる材料を順次積層するには、スパッタ法であればターゲット切り替え、CVD法であればガス切り替えを交互に行えばよい。所望の光路長は、サンプルにレーザ光を照射して、その反射特性をモニターすることで制御できる。成膜レートが安定している場合には、時間制御でも製造可能である。本手法により、本発明の実施例1である図3の構造を実現することができる。
図4、5は、本発明の実施例1での効果をシミュレーションした結果である。図4は縦軸を反射率とし、横軸を多層膜の積層数とした場合の相関を示している。計算では発振波長を1.3μm、半導体レーザ導波路の等価屈折率(Neff)を3.2とした。図中には、比較のために従来構造の場合の反射率も示している。本発明の構造でも、層数を変化させることで、2.8%から99.7%までの反射率を自由に得ることができる。図3の前面4層と裏面3層の反射率は、それぞれ52.9%と79.3%である。
図5の縦軸は、透過電界強度Pt=Et2を端面電界強度Pi=(Ei+Er)2で規格化した値を示している。CODは半導体内部での端面電界強度Pi=(Ei+Er)2が臨界値を越えた時に発生するため、Pt/Pi=Et2/(Ei+Er)2が高い程、外部に取り出せるCOD光出力は高くなる。図の横軸は反射率Rであり、比較のために従来構造の場合を併記している。本発明では、反射率Rを高くする程Pt/Pi値が増加し、R=40%〜90%では従来構造と比べて、Pt/Pi値を10倍〜100倍高めることができる。
図3の構造では、半導体と接する第1層の屈折率n1は半導体導波路の等価屈折率neffより高い方が望ましい。但し、neff>n1であっても、第1層から順に高屈折率層、低屈折率層の順に積層し、適切な層数とすれば、Pt/Piを高めることができる。すなわち、本発明における高屈折率層、低屈折率層というのはあくまで隣り合った層での相対的な屈折率の高低であり、絶対的な屈折率の高低を意味するものではない。
図3ではコーティング膜が3層と4層の場合を示したが、必要な反射率に応じて、いかなる層数を用いても本発明の構成が可能である。また図3では、5、7、9、11の各層と6、8、10の各層で同一の材料を用いたが、各層で異なる材料を用いても構わない。半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率を交互に積層すればよい。また、図3では各層の光路長をλ/4としたが、λ/4の奇数倍であれば図1の原理から明らかなように、全く同様なCOD改善効果を得ることができる。
本発明の構造でCOD改善効果を得るには、各層の光路長をλ/4とするのが最適である。但し、光路長が多少λ/4から外れたとしても、従来構造に比べれば十分なCOD改善効果が得られる。図6は、前面4層構造の場合で、各層の光路長がλ/4からシフトした場合のPt/Pi値を示している。光路長λ/4の時に最良値Pt/Pi=6.3が得られるが、±20%の範囲でも従来構造より十分高いPt/Pi値が得られる。
図3の実施例は、半導体と接する第1層を高屈折率層としているが、第1層を低屈折率層とすることも可能である。図7は、第1層を低屈折率層とした実施例2に係る半導体レーザ素子の断面構造図を示している。n−InP基板17上にn−InPクラッド層16、AlGaInAs多重量子井戸活性層15、p−InPクラッド層14、p−InGaAsコンタクト層13とN電極18及び、P電極12を有する半導体レーザの共振器両端面に、コーティング膜19及び5〜11を形成する。半導体と接する第1層のコーティング膜19は、両端面ともAl2O3とし、層厚は発振波長λ=1.3μmに対して光路長がλ/2となる394nmとした。コーティング膜5〜11の構造は図3と同様である。
光路長λ/2のコーティング膜は、光学的にはその膜が存在しない場合と完全に等価となる。従って、図7の構造は実効的には図3の構造と等価になり、端面での電界強度を大幅に低減できる。ここで、コーティング膜19の光路長はλ/2とする必要はなく、λ/2の整数倍であればよい。
図8は、第1層を低屈折率層とした実施例3に係る半導体レーザ素子の断面構造図を示している。n−InP基板17上にn−InPクラッド層16、AlGaInAs多重量子井戸活性層15、p−InPクラッド層14、p−InGaAsコンタクト層13とN電極18及び、P電極12を有する半導体レーザの共振器両端面に、コーティング膜20〜29を形成する。低屈折率コーティング膜22、24、27、29はAl2O3とし、高屈折率コーティング膜21、23、26、28はアモルファスSi(以下a−Si膜と略記)とする。また、薄膜コーティング層20、25はAl2O3とする。前面側の各層の層厚はそれぞれ、20:Al2O3膜(30nm)、21:a−Si膜(74nm)、22:Al2O3膜(157nm)、23:a−Si膜(74nm)、24:Al2O3膜(150nm)とし、裏面側の各層の層厚はそれぞれ、25:Al2O3膜(30nm)、26:a−Si膜(76nm)、27:Al2O3膜(161nm)、28:a−Si膜(76nm)、29:Al2O3膜(30nm)とする。本構造では、第1層(20、25)を光路長の短い薄膜とし、第k層(k=2、3、4)の層厚dkは下記の式1で定まる値としている。
dk=λ/(4・nk)−r・n1・d1/nk ――― 式1
ここで、nk:第k層の屈折率、n1:第1層の屈折率、d1:第1層の層厚、r:補正項(0.5〜2.5)である。最終の第5層は、所望の反射率が得られるように設定している。図8の構造では、前面反射率54.3%、裏面反射率72%の高反射特性が得られる。
dk=λ/(4・nk)−r・n1・d1/nk ――― 式1
ここで、nk:第k層の屈折率、n1:第1層の屈折率、d1:第1層の層厚、r:補正項(0.5〜2.5)である。最終の第5層は、所望の反射率が得られるように設定している。図8の構造では、前面反射率54.3%、裏面反射率72%の高反射特性が得られる。
図8の構造では、半導体と接する第1層は低屈折率層であるが、光路長の短い薄膜であるため、端面部での電界強度は、第2層以降の多層膜でほぼ決定される。更に、第2層以降の各層の光路長はλ/4から第1層分だけ補正しているため、図3と同様な効果により端面部での電界強度が大幅に低減する。
図9は、前面5層の構造に対して、Pt/Pi=Et2/(Ei+Er)2値をシミュレーションした結果である。図の横軸は、補正項rを示している。Pt/Pi値が最大となる補正項rの最適値が存在し、r=1.35でPt/Pi値=6.5の高い値が得られる。裏面5層の構造では、最適なr=1.2でPt/Pi値=12.0が得られる。図8の構造を用いる場合には、補正項rが重要である。シミュレーション結果から判るように、第2層以降を厳密なλ/4層とした場合には、COD改善効果は得られない。
図8では、多層膜が5層の場合を示したが、必要な反射率に応じて、いかなる層数を用いても本発明の構成が可能である。また図8では、コーティング膜20、22、24、25、27、29の各層とコーティング膜21、23、26、28の各層で同一の材料を用いたが、各層で異なる材料を用いても構わない。各層の屈折率に応じて、式1から各層の層厚を決定し、第1層から順に低屈折率層、高屈折率層を交互に形成すればよい。
図10は、図8の構造で、第3層のコーティング膜に異なる材料を用いた、実施例4に係る半導体レーザ素子の断面構造図を示している。低屈折率コーティング膜20、24、25、29はAl2O3、高屈折率コーティング膜21、23、26、28はアモルファスSiとし、コーティング膜30、31はSiO2とする。前面側の各層の層厚はそれぞれ、20:Al2O3膜(30nm)、21:a−Si膜(71nm)、30:SiO2膜(171nm)、23:a−Si膜(71nm)、24:Al2O3膜(150nm)であり、裏面側の各層の層厚はそれぞれ、25:Al2O3膜(30nm)、26:a−Si膜(75nm)、31:SiO2膜(180nm)、28:a−Si膜(75nm)、29:Al2O3膜(30nm)とする。
本構成では、SiO2膜とa−Si膜との屈折率差が大きいため、図8の実施例に比べて高い反射率が得られる。図10の構成では前面55.6%、裏面76.7%の反射率が得られる。ここで、SiO2の屈折率は1.45とした。本構成でも式1に従って各層厚を設定しているので、高いPt/Pi値を実現できる。前面5層では最適なr=1.55でPt/Pi=6.8、裏面5層では最適なr=1.3でPt/Pi=15.1が得られる。
上記実施例では、1.3〜1.6μm帯AlGaInAs/InP系半導体レーザを用いて説明したが、他の半導体レーザの0.7〜0.8μm帯AlGaAs/GaAs系、0.9〜1.0μm帯AlGaAs/InGaAs/GaAs系、0.6μm帯AlGaInP/GaInP/GaAs系、及び0.4〜0.5μm帯AlGaN/InGaN/GaN系にも同様な構造を適用可能である。図11は、0.6μm帯AlGaInP/InGaP/GaAs系半導体レーザに図3の実施例を適用した、本発明の実施例5に係る半導体レーザ素子の断面構造図である。図11の構造では、n−GaAs基板36上にn−AlGaInPクラッド層35、GaInP/AlGaInP多重量子井戸活性層34、p−AlGaInPクラッド層33、p−GaAsコンタクト層32とN電極18及び、P電極12を有する半導体レーザの共振器両端面に、コーティング膜37〜43を形成している。高屈折率コーティング膜37、39、41、43はアモルファスSi膜とし、層厚は発振波長λ=0.64μmに対して光路長がλ/4となる45.7nmとする。低屈折率コーティング膜38、40、42はAl2O3膜とし、層厚は光路長がλ/4となる97.0nmとした。同様にあらゆる材料系の半導体レーザに対して、図3の構造だけでなく図7、図8、図10の構造も適用可能である。
以上の図3、7、8、10、11の構造で、コーティング膜の最終層に光路長λ/2(又はその整数倍)の保護膜を形成してもよい。光路長λ/2(又はその整数倍)の膜は、光学的にはその膜がない場合と全く等価であるため、同様なCOD改善効果が得られる。
本発明の構造では、端面部の入射電界と反射電界を逆位相として、端面部の電界強度を低減している。但し、端面部からλ/(4・neff)(neff:半導体導波路の等価屈折率)の位置には、定在波の腹に相当する強い電界が存在する。CODの原因となる非発光準位が、コーティング膜形成時のダメージ等で端面からλ/(4・neff)の深さまで形成されると、十分なCOD改善効果は得られない。本発明の効果を十分に引き出すためには、成膜時のダメージを抑えることが重要である。また、定在波の腹までの距離は波長に比例するため、長波長である程有利となる。この観点から、1.3μm〜1.6μm帯のAlGaInAs/InP系半導体レーザでは、他の1.0μm以下の半導体レーザに比べて、端面部浅部に発生した成膜時のダメージの影響を受けにくく、比較的安定したCOD改善効果が得られる。
また、本実施例ではコーティング膜として、アモルファスSi、Al2O3、SiO2を用いた場合を説明したが、TiO2、SiNx、SiON、ZrO2、HfO2、AlN、Ga2O3、Gd2O3、Ta2O5、Nb2O5、SiC、BN等の様々な材料を用いることも可能である。すなわち、本発明を構成する光路長となるように、各材料の屈折率に応じて層厚を設定すれば、あらゆるコーティング膜材料に対して本発明の構造を実現することができる。
以上、本発明を上記実施例に即して説明したが、本発明は上記実施例の構成にのみ制限されるものでなく、本発明の範囲内で当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
1 低屈折率λ/4膜
2 高屈折率λ/4膜
3 活性層
4 クラッド層
5、7、9、11 高屈折率コーティング膜
6、8、10 低屈折率コーティング膜
12 P電極
13 p−InGaAsコンタクト層
14 p−InPクラッド層
15 AlGaInAs多重量子井戸活性層
16 n−InPクラッド層
17 n−InP基板
18 N電極
19 コーティング膜
20、25 薄膜コーティング層
21、23、26、28 高屈折率コーティング膜
22、24、27、29 低屈折率コーティング膜
30、31 コーティング膜
32 p−GaAsコンタクト層
33 p−AlGaInPクラッド層
34 GaInP/AlGaInP多重量子井戸活性層
35 n−AlGaInPクラッド層
36 n−GaAs基板
37、39、41、43 高屈折率コーティング膜
38、40、42 低屈折率コーティング膜
44 コーティング膜
45 コーティング膜
2 高屈折率λ/4膜
3 活性層
4 クラッド層
5、7、9、11 高屈折率コーティング膜
6、8、10 低屈折率コーティング膜
12 P電極
13 p−InGaAsコンタクト層
14 p−InPクラッド層
15 AlGaInAs多重量子井戸活性層
16 n−InPクラッド層
17 n−InP基板
18 N電極
19 コーティング膜
20、25 薄膜コーティング層
21、23、26、28 高屈折率コーティング膜
22、24、27、29 低屈折率コーティング膜
30、31 コーティング膜
32 p−GaAsコンタクト層
33 p−AlGaInPクラッド層
34 GaInP/AlGaInP多重量子井戸活性層
35 n−AlGaInPクラッド層
36 n−GaAs基板
37、39、41、43 高屈折率コーティング膜
38、40、42 低屈折率コーティング膜
44 コーティング膜
45 コーティング膜
Claims (9)
- 共振器端面の少なくとも一方の端面に反射多層膜を形成し、レーザ出射光の位相と該反射多層膜からの反射光の位相との位相差が、レーザ出射端面で(1±0.45)πである、半導体レーザ素子。
- 前記反射多層膜の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)であり、かつ半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記反射多層膜の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)の±20%以内であり、かつ半導体と接する第1層から順に高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記反射多層膜の第2層以降の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)であり、かつ半導体と接する第1層の光路長がn・λ/2(λ:発振波長、n:正の整数)であり、第1層から順に低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記反射多層膜の第2層以降の各層の光路長が(2m−1)・λ/4(λ:発振波長、m:正の整数)の±20%以内であり、かつ半導体と接する第1層の光路長がn・λ/2(λ:発振波長、n:正の整数)の±20%以内であり、第1層から順に低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 半導体と接する第1層の屈折率をn1、層厚をd1とした時、最終層以外で第2層以降の各層の光路長がλ/4−r・n1・d1(λ:発振波長、r:0.5〜2.5)であり、かつ該第1層から順に低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記半導体と接する前記第1層の層厚d1が1〜60nmである、請求項6に記載の半導体レーザ素子。
- 前記反射多層膜の最終層に光路長がm・λ/2(λ:発振波長、m:正の整数)の保護膜を形成した、請求項1〜7のいずれか一に記載の半導体レーザ素子。
- 半導体材料が1.3μm〜1.6μm帯のAlGaInAs/InP系である、請求項1〜8のいずれか一に記載の半導体レーザ素子。
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