JP6024365B2 - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6024365B2 JP6024365B2 JP2012224367A JP2012224367A JP6024365B2 JP 6024365 B2 JP6024365 B2 JP 6024365B2 JP 2012224367 A JP2012224367 A JP 2012224367A JP 2012224367 A JP2012224367 A JP 2012224367A JP 6024365 B2 JP6024365 B2 JP 6024365B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- refractive index
- terrace
- semiconductor laser
- active region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1003—Waveguide having a modified shape along the axis, e.g. branched, curved, tapered, voids
- H01S5/1017—Waveguide having a void for insertion of materials to change optical properties
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/20—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
- H01S5/2036—Broad area lasers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/20—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
- H01S5/22—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0233—Mounting configuration of laser chips
- H01S5/0234—Up-side down mountings, e.g. Flip-chip, epi-side down mountings or junction down mountings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0235—Method for mounting laser chips
- H01S5/02355—Fixing laser chips on mounts
- H01S5/0237—Fixing laser chips on mounts by soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/065—Mode locking; Mode suppression; Mode selection ; Self pulsating
- H01S5/0651—Mode control
- H01S5/0653—Mode suppression, e.g. specific multimode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/20—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
- H01S5/22—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure
- H01S5/2205—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure comprising special burying or current confinement layers
- H01S5/2218—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure comprising special burying or current confinement layers having special optical properties
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/32—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
- H01S5/3211—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures characterised by special cladding layers, e.g. details on band-discontinuities
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/34313—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer having only As as V-compound, e.g. AlGaAs, InGaAs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Geometry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
半導体基板と、
該半導体基板上に順次積層された第1導電型クラッド層、活性層、および第2導電型
クラッド層を有し、共振器長方向を向く前端面および後端面を有する半導体積層部と、
該半導体積層部の上部に形成されたリッジ部と、
該半導体積層部の上部に、該リッジ部を挟むように該リッジ部から離間して設けられた一対のテラス部と、
を備え、
該リッジ部の幅が50μm以上であり、
該活性層は、平面視で該リッジ部の下方に位置する領域である活性領域と、該活性領域の両脇に位置し平面視で該テラス部の下方に位置する領域であるテラス部下領域と、該活性領域と該テラス部下領域との間に位置するクラッド領域と、に区分され、
該テラス部下領域は該クラッド領域よりも屈折率が高い高屈折率領域であり、
レーザ発振波長をλとし、該活性領域の実効屈折率をnaとし、該クラッド領域の実効屈折率をncとし、該活性領域の幅をWとした場合に、
(2π/λ)×(na2−nc2)1/2×(W/2) > π/2
の関係を満たし、
該一対のテラス部は、共振器長方向における該リッジ部の中央位置を挟むように設けられ、
該半導体積層部の上部は、
該リッジ部の該前端面側の端部を挟むように位置する第1部位と、
該リッジ部の該後端面側の端部を挟むように位置し、かつ平面視で該第1部位とともに該テラス部を挟むように位置する第2部位と、
を備え、
該第1部位と該第2部位の少なくとも一方の部位の高さは、該リッジ部および該テラス部よりも低いことを特徴とする。
[実施の形態1にかかる装置の構成]
本発明の実施の形態1にかかる半導体レーザ装置30は、波長980nmのブロードエリア型半導体レーザ装置である。一般に、ブロードエリア型半導体レーザ装置は、水平横方向に複数のモードが許容されうる程度の幅のストライプ領域を備えている。これと対比されるものとして、基本モードのみを許容する半導体レーザ装置(シングルモード半導体レーザ装置)があり、これは前述の特許文献1乃至4にも記載されているとおり狭い幅のストライプ領域を有するものである。ブロードエリア型半導体レーザ装置によれば、シングルモード半導体レーザ装置と比べて大きな出力を得ることができるといった利点がある。
(2π/λ)×(na 2−nc 2)1/2×(W/2) > π/2 ・・・(1)
レーザ発振波長をλとし、活性領域1の実効屈折率をnaとし、クラッド領域の実効屈折率をncとし、活性領域1の幅をWとする。ここで、活性領域1の実効屈折率とは、全領域が活性領域1であった場合に、z方向に伝播する光が平均的に感じる屈折率のことである。実効屈折率を用いることにより、y方向の各層の屈折率と厚みが変わっても一つのパラメータnaを用いて表すことができる。
つまり、図2に示すように、平面視で、リッジ部20を形成するとともに、さらにリッジ部20中央位置を挟むように共振器長方向に0.5mmだけp型AlGaAsクラッド層11の隆起部を残し(図2の高屈折率領域3a、3b位置)て、それ以外の部位についてはp型AlGaAsクラッド層11をエッチングで除去する。ここで、エッチングにより、リッジ部20(図2では活性領域1の位置)と、テラス部22a、22b(図2では高屈折率領域3a、3b)との間に、幅6μmで長さ0.5mmだけの隙間ができるように、エッチングでp型GaAsコンタクト層12及びp型AlGaAsクラッド層11を部分的に除去する。この隙間が、クラッド領域2a、2bを画定する。さらにSiN膜13の形成及びp電極14の形成を行うが、これは図1、図3および図4からわかるとおり、半導体レーザ装置30上面の全領域に施す。
半導体レーザ装置30では、n電極4およびp電極14に対する電圧印加により、n電極側からは電子が、p電極側からはホールが、それぞれアンドープInGaAsウエル層8a、8bに注入され、再結合し、レーザ光が生ずる。InGaAsウエル8a、8bからは、波長0.98μmのレーザ光が得られる。活性領域1はストレートなストライプ形状であり、周囲のクラッド領域2a、2bよりも屈折率が高い。このため、レーザ光は、主に、活性領域1に閉じこもることになる。
本実施の形態にかかる半導体レーザ装置30の構造において、仮に、共振器内に高屈折率領域3a、3bが無い場合(つまりX−X’断面形状が共振器全体に亘って存在する場合)には、水平横方向(x方向)に0次から25次までのモードが許容される。これは、活性領域の実効屈折率とクラッド領域2a、2bの実効屈折率、及び活性領域1の幅により決まる。
図5は、本発明の実施の形態1にかかる半導体レーザ装置30での作用効果をまとめた表である。説明の便宜上、(1)〜(5)に分けて作用効果をまとめている。
図6は、低次モードの例として破線で10次モードの電界分布(符号15)を示し、高次モードの例として実線で24次モードの電界分布(符号16)を示した図である。多モード導波路の場合には、モードの次数によって、活性領域1内への電界分布の閉じこもり方が変化する。次数の低いモードの場合は活性領域1に多く閉じこもり、次数が高くなるにつれて活性領域1外へ拡がる。尚、電界分布を2乗したものが電力(パワー)分布であり、通常、光強度分布と言われている。
波動方程式を解くことによって得られるモードの性質上、屈折率の高い活性領域1では、電界はCOS(余弦)又はSIN(正弦)形の振動解となり、屈折率の低いクラッド領域2a、2bでは指数形(Exponential)の減衰解となる。
共振器内でクラッド領域2a、2bの外側に高屈折率領域3a、3bを設けたことによる作用効果について述べる。
なお、仮に高屈折率領域3a、3bが無い場合には、高次モードであっても活性領域1の外側で振動解となることが無いので、x方向にエネルギーを伝えることがなく、損失とはならない。
一般に、半導体レーザは、電流注入によって活性層で利得が生じ、注入する電流量を増すにつれて利得が大きくなる。この利得が損失と等しくなったときにレーザ発振に至る。活性領域が多モードを許容するものである場合、各モードで損失に差異が無い場合には、全てのモードが発振可能となる。この場合、半導体レーザからの出射光のビーム拡がり角は大きくなる。
図7は、活性領域を伝搬する導波モードの光跡を示す模式図であり、低次モードの光跡17(破線矢印)と、高次モードの光跡18(実線矢印)とがそれぞれ示されている。導波モードは、活性領域1とクラッド領域2a、2bで全反射しながら共振器長方向(z方向)に伝搬する。
本実施の形態では、活性領域1の幅を100μmとしているがこれに限るものではなく、一般的なブロードエリア半導体レーザにおける活性領域の幅として、50μm以上であればよく、前述した(1)式の関係を満たすことにより、基本モードを含めて2つ以上の横モードが許容されうる幅を備えた導波路であれば同様の効果を得ることができる。
図10は、本発明の実施の形態2にかかる半導体レーザ装置130の構成を模式的に示す斜視図である。半導体レーザ装置130は、実施の形態1と同様にブロードエリア半導体レーザ装置であり、n型基板5と、半導体積層部32と、リッジ部20と、一対のテラス部122a、122bとを備えている。半導体レーザ装置130は、実施の形態1にかかる半導体レーザ装置30と同様の構成(n型基板5、半導体積層部32、リッジ部20等)を備えているが、テラス部122a、122bの平面視形状が実施の形態1のテラス部22a、22bとは異なっている。
なお、本実施の形態ではクラッド領域(低屈折率領域)幅を8μmとしたが、これに限るものではなく、リッジ部20に対するテラス部122a、122bの離間距離を適宜に8μmと異なる値としてもよい。高次のモードと低次のモードの間に、どの程度の損失差を設けるかによって変え得るものである。
図12は、本発明の実施の形態3にかかる半導体レーザ装置230の構成を模式的に示す斜視図である。半導体レーザ装置230は、実施の形態1と同様にブロードエリア半導体レーザ装置であり、n型基板5と、半導体積層部32と、リッジ部20と、一対のテラス部222a、222bとを備えている。半導体レーザ装置230は、実施の形態1にかかる半導体レーザ装置30と同様の構成(n型基板5、半導体積層部32、リッジ部20等)を備えているが、テラス部222a、222bの平面視形状が実施の形態1のテラス部22a、22bとは異なっている。
図14は、本発明の実施の形態4にかかる半導体レーザ装置330の構成を模式的に示す斜視図である。半導体レーザ装置330は、実施の形態1と同様にブロードエリア半導体レーザ装置であり、n型基板5と、半導体積層部32と、リッジ部20と、一対のテラス部322a、322bとを備えている。半導体レーザ装置330は、実施の形態1にかかる半導体レーザ装置30と同様の構成(n型基板5、半導体積層部32、リッジ部20等)を備えているが、テラス部322a、322bの平面視形状が実施の形態1のテラス部22a、22bとは異なっている。
Claims (4)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に順次積層された第1導電型クラッド層、活性層、および第2導電型クラッド層を有し、共振器長方向を向く前端面および後端面を有する半導体積層部と、
前記半導体積層部の上部に形成されたリッジ部と、
前記半導体積層部の上部に、前記リッジ部を挟むように前記リッジ部から離間して設けられた一対のテラス部と、
を備え、
前記リッジ部の幅が50μm以上であり、
前記活性層は、平面視で前記リッジ部の下方に位置する領域である活性領域と、前記活性領域の両脇に位置し平面視で前記テラス部の下方に位置する領域であるテラス部下領域と、前記活性領域と前記テラス部下領域との間に位置するクラッド領域と、に区分され、前記テラス部下領域は前記クラッド領域よりも屈折率が高い高屈折率領域であり、
レーザ発振波長をλとし、前記活性領域の実効屈折率をnaとし、前記クラッド領域の実効屈折率をncとし、前記活性領域の幅をWとした場合に、
(2π/λ)×(na 2−nc 2)1/2×(W/2) > π/2
の関係を満たし、
前記一対のテラス部は、共振器長方向における前記リッジ部の中央位置を挟むように設けられ、
前記半導体積層部の上部は、
前記リッジ部の前記前端面側の端部を挟むように位置する第1部位と、
前記リッジ部の前記後端面側の端部を挟むように位置し、かつ平面視で前記第1部位とともに前記テラス部を挟むように位置する第2部位と、
を備え、
前記第1部位と前記第2部位の少なくとも一方の部位の高さは、前記リッジ部および前記テラス部よりも低いことを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記少なくとも一方の部位と熱伝導性材料を介して接続されたヒートシンクを、さらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ装置。
- 前記リッジ部は、前記前端面側の端部から前記後端面側の端部にかけて幅が均一であるストレートなストライプ構造を構成することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体レーザ装置。
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に順次積層された第1導電型クラッド層、活性層、および第2導電型クラッド層を有し、共振器長方向を向く前端面および後端面を有する半導体積層部と、
前記半導体積層部の上部に形成されたリッジ部と、
前記半導体積層部の上部に、前記リッジ部を挟むように前記リッジ部から離間して設けられた一対のテラス部と、
を備え、
前記リッジ部の幅が50μm以上であり、
前記活性層は、平面視で前記リッジ部の下方に位置する領域である活性領域と、前記活性領域の両脇に位置し平面視で前記テラス部の下方に位置する領域であるテラス部下領域と、前記活性領域と前記テラス部下領域との間に位置するクラッド領域と、に区分され、前記テラス部下領域は前記クラッド領域よりも屈折率が高い高屈折率領域であり、
レーザ発振波長をλとし、前記活性領域の実効屈折率をn a とし、前記クラッド領域の実効屈折率をn c とし、前記活性領域の幅をWとした場合に、
(2π/λ)×(n a 2 −n c 2 ) 1/2 ×(W/2) > π/2
の関係を満たし、
前記テラス部の共振器長方向の長さは、前記リッジ部の共振器長方向の長さより短いことを特徴とする半導体レーザ装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012224367A JP6024365B2 (ja) | 2012-10-09 | 2012-10-09 | 半導体レーザ装置 |
US13/900,645 US8767788B2 (en) | 2012-10-09 | 2013-05-23 | Semiconductor laser device |
DE102013215052.0A DE102013215052B4 (de) | 2012-10-09 | 2013-07-31 | Halbleiterlaservorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012224367A JP6024365B2 (ja) | 2012-10-09 | 2012-10-09 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014078567A JP2014078567A (ja) | 2014-05-01 |
JP6024365B2 true JP6024365B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=50337150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012224367A Active JP6024365B2 (ja) | 2012-10-09 | 2012-10-09 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8767788B2 (ja) |
JP (1) | JP6024365B2 (ja) |
DE (1) | DE102013215052B4 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6512953B2 (ja) * | 2015-06-10 | 2019-05-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置 |
JP6753236B2 (ja) * | 2016-09-13 | 2020-09-09 | 三菱電機株式会社 | ブロードエリア半導体レーザ素子 |
US9972960B1 (en) * | 2016-12-16 | 2018-05-15 | Raytheon Company | Reflection/absorption coating for metallurgical bonding to a laser gain medium |
US11967802B2 (en) | 2017-09-14 | 2024-04-23 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor laser device |
DE102018123019A1 (de) * | 2018-09-19 | 2020-03-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Gewinngeführter halbleiterlaser und herstellungsverfahren hierfür |
WO2022064626A1 (ja) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置 |
JPWO2022190275A1 (ja) * | 2021-03-10 | 2022-09-15 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01183603A (ja) | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Mitsubishi Electric Corp | テーパ導波路 |
JPH02264488A (ja) | 1989-04-05 | 1990-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2000174385A (ja) | 1998-07-15 | 2000-06-23 | Sony Corp | 半導体レ―ザ |
JP2001053382A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-02-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2002305352A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レーザ素子 |
JP2003060303A (ja) | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Sony Corp | 半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2004200276A (ja) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ |
JP2005072488A (ja) | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2005236147A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Sharp Corp | 半導体レーザ素子 |
JP2005327783A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Sony Corp | 半導体レーザ |
JP2006228941A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Sony Corp | 半導体レーザ |
JP2007214300A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Sony Corp | 半導体レーザ |
US20070223549A1 (en) | 2006-03-23 | 2007-09-27 | Nl Nanosemiconductor Gmbh | High-Power Optoelectronic Device with Improved Beam Quality Incorporating A Lateral Mode Filtering Section |
JP2009295680A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Panasonic Corp | 半導体レーザ装置 |
JP5881036B2 (ja) | 2011-04-20 | 2016-03-09 | 株式会社川島製作所 | 横型製袋充填包装機 |
-
2012
- 2012-10-09 JP JP2012224367A patent/JP6024365B2/ja active Active
-
2013
- 2013-05-23 US US13/900,645 patent/US8767788B2/en active Active
- 2013-07-31 DE DE102013215052.0A patent/DE102013215052B4/de active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102013215052B4 (de) | 2019-02-21 |
US20140098831A1 (en) | 2014-04-10 |
JP2014078567A (ja) | 2014-05-01 |
US8767788B2 (en) | 2014-07-01 |
DE102013215052A1 (de) | 2014-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6024365B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
CN110402524B (zh) | 半导体激光装置、半导体激光模块以及焊接用激光源系统 | |
JP5182362B2 (ja) | 光素子及びその製造方法 | |
JP2007184511A (ja) | 光導波路を伝搬する光と回折格子とを結合させた光素子 | |
JP2009295680A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPWO2010116460A1 (ja) | 光素子及びその製造方法 | |
JP5795126B2 (ja) | 半導体レーザ素子、集積型半導体レーザ素子、および、半導体レーザ素子の製造方法 | |
WO2017122782A1 (ja) | 半導体レーザ素子、チップオンサブマウント、および半導体レーザモジュール | |
JP6665279B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2018085468A (ja) | 半導体レーザ、光源ユニット及びレーザ光照射装置 | |
JP6123427B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2004153212A (ja) | 半導体発光素子 | |
JP5310533B2 (ja) | 光半導体装置 | |
JP6588858B2 (ja) | 半導体レーザ | |
JP2005268298A (ja) | 半導体レーザ | |
JP5287886B2 (ja) | 光導波路を伝搬する光と回折格子とを結合させた光素子 | |
US20110206082A1 (en) | Semiconductor laser and semiconductor laser module | |
JP2014007293A (ja) | 半導体発光素子 | |
JP2003152272A (ja) | 分散位相シフト構造分布帰還型半導体レーザ | |
JP2008034886A (ja) | 半導体レーザ | |
JP2010045066A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2024008478A (ja) | 半導体レーザ素子、及び半導体レーザ素子の製造方法 | |
JPH11307874A (ja) | 光アイソレータ、分布帰還型レーザ及び光集積素子 | |
JP2024052471A (ja) | 半導体レーザ | |
JP2021136317A (ja) | 半導体レーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150702 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160913 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160926 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6024365 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |