JP2005327783A - 半導体レーザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】突条部50の主出射側端面11における一対の角に、切欠き部51を設ける。発光領域31の横方向境界31B,31C近傍では発光が起こらなくなり、戻り光が入射ないし侵入してもその影響が抑えられる。また、他の態様として、主出射側端面において、発光領域の横方向中央近傍におけるレーザ光反射率を、横方向境界近傍よりも高くする、あるいは、第2導電型半導体層の表面に、同一方向に2本の溝状凹部を設け、2本の溝状凹部の主出射側端面近傍における幅を、主出射側端面と反対側端面との中間位置付近における幅よりも大きくするようにしてもよい。更に、主出射側端面において、発光領域の横方向境界近傍を傾斜面とする、あるいは、主出射側端面に不純物添加領域を設け、この不純物添加領域が突条部の主出射側端面における角を含むように構成してもよい。
【選択図】 図5
Description
図1に示したようなGaAs系ブロードエリア型半導体レーザを作製した。その構造としては、基板110上に、n型半導体層120,幅10μm以上の発光領域131を有する活性層130およびp型半導体層140の積層構造を備え、p型半導体層140の表面に、共振器方向Aに延長された突条部(リッジ)150およびその両側の埋込み層160を有する一般的なものとし、各層の厚さおよび構成材料も一般的なものとした。発光領域131の平面形状は、図2に斜線を付して示したような長方形とし、主出射側端面111側における幅Wefと反対側端面112側における幅Werとを等しくした(Wef=Wer)。
図3および図4から分かるように、戻り光を発光領域131の横方向中央131A近傍に入射させた場合(参考例2)では、L−I特性およびプロファイルのいずれについても、戻り光のない場合(参考例1)と比較してほぼ遜色ない結果が得られた。これに対して、戻り光を発光領域131の横方向境界131B,131C近傍に入射させた場合(参考例3)には、戻り光のない場合(参考例1)と比較して、光出力は約2分の1に低下し、プロファイルは大きく乱れて双峰型となってしまっていた。
このように、レーザ発振に対する戻り光の影響は、戻り光が発光領域131のどの位置に入射するかによって異なっており、戻り光が発光領域131の横方向中央131A近傍に入射した場合よりも、横方向境界131B,131C近傍に入射した場合のほうが重大な影響を与えることが分かった。その一つの理由としては、以下のように考えられる。発光領域131の横方向境界131B,131C近傍では、積層構造による上下方向(PN接合に垂直な方向)の光閉じ込め以外に、横方向境界131B,131Cによる左右方向(PN接合に平行な方向)の光閉じ込めも存在しているので、他の領域、例えば横方向中央131A近傍とは、光導波の状況が異なっている。このような構造的状況の違いが、横方向境界131B、131C近傍において戻り光による共振状態の乱れが横方向中央131A近傍に比べて著しくなることと関係があると考えられる。
図5は本発明の第1の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表すものであり、図6は図5に示した半導体レーザの発光領域(斜線を付した部分)の平面形状を表したものである。この半導体レーザは、基板10上に、例えば、n型半導体層20,活性層30およびp型半導体層40の積層構造を有している。p型半導体層40の表面には、共振器方向Aに延長された電流狭窄のための突条部50が設けられており、その両側には埋込み層60が形成されている。
図8は本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表すものであり、図9は図8に示した半導体レーザの発光領域(斜線を付した部分)の平面形状、主出射側端面における反射率分布および発光領域内部の光強度分布を表したものである。この半導体レーザは、主出射側端面11において、発光領域31の横方向中央31A近傍におけるレーザ光反射率が、横方向境界31B,31C近傍におけるレーザ光反射率よりも高くされていることを除いては、第1の実施の形態の半導体レーザと同一の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
図10は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表すものであり、図11(A)は図10のXIA−XIA線に沿った断面構造、図11(B)は図10のXIB−XIB線に沿った断面構造をそれぞれ表したものである。この半導体レーザは、例えば、p型半導体層40の表面に、いずれも共振器方向Aに延長された2本の溝状凹部351,352が設けられており、p型半導体層40の溝状凹部351,352で囲まれた部分が突条部50となっていることを除いては、第1の実施の形態の半導体レーザと同一の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
図14は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表すものであり、図15は図14に示した半導体レーザの発光領域(斜線を付した部分)の平面形状を表したものである。この半導体レーザは、主出射側端面11に、正端面411Aおよび傾斜面411B,411Cが形成されていることを除いては、第1の実施の形態の半導体レーザと同一の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
図16は、第5の実施の形態に係る半導体レーザの構成を表すものであり、図17は図16に示した半導体レーザの発光領域(斜線を付した部分)の平面形状を表したものである。この半導体レーザは、主出射側端面11側の一対の角に、不純物添加領域580を有していることを除いては、第1の実施の形態の半導体レーザと同一の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。なお、図16および図17では、不純物添加領域580に網かけを付して示している。
Claims (10)
- 基板上に、第1導電型半導体層、幅10μm以上の発光領域を有する活性層および第2導電型半導体層の積層構造を備え、前記第2導電型半導体層の表面に突条部を有する半導体レーザであって、
主出射側端面に戻り光抑制部を有し、前記戻り光抑制部により前記発光領域の横方向境界近傍における戻り光の影響を抑制する
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 基板上に、第1導電型半導体層、幅10μm以上の発光領域を有する活性層および第2導電型半導体層の積層構造を備え、前記第2導電型半導体層の表面に突条部を有する半導体レーザであって、
前記突条部の主出射側端面における少なくとも一方の角に、切欠き部を有する
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 前記発光領域の主出射側端面近傍の幅Wefおよび主出射側端面と反対側端面との間の中間位置付近における幅Wemは、Wef<Wemの関係を満たす
ことを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ。 - 基板上に、幅10μm以上の発光領域を有する活性層を含む半導体層を有する半導体レーザであって、
主出射側端面において、前記発光領域の横方向中央近傍におけるレーザ光反射率は、横方向境界近傍におけるレーザ光反射率よりも高い
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 前記主出射側端面には、全面を覆う第1コート層と、前記第1コート層上に設けられると共に前記発光領域の横方向中央近傍を覆う第2コート層とを含む反射鏡膜が設けられている
ことを特徴とする請求項4記載の半導体レーザ。 - 基板上に、第1導電型半導体層、幅10μm以上の発光領域を有する活性層および第2導電型半導体層の積層構造を備え、前記第2導電型半導体層の表面に、同一方向に延長された2本の溝状凹部を有する半導体レーザであって、
前記2本の溝状凹部の主出射側端面近傍における幅は、主出射側端面と反対側端面との間の中間位置付近における幅よりも大きい
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 前記2本の溝状凹部で囲まれた突条部の幅は一定である
ことを特徴とする請求項6記載の半導体レーザ。 - 基板上に、幅10μm以上の発光領域を有する活性層を含む半導体層を有する半導体レーザであって、
主出射側端面において、前記発光領域の横方向中央近傍を含み反対側端面に平行な正端面と、前記発光領域の横方向境界近傍を含み前記正端面に対して傾斜した傾斜面とを有する
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 基板に、第1導電型半導体層、幅10μm以上の発光領域を有する活性層および第2導電型半導体層の積層構造を備え、前記第2導電型半導体層の表面に突条部を有する半導体レーザであって、
主出射側端面の少なくとも一方の角に不純物添加領域を有し、前記不純物添加領域は前記突条部の主出射側端面における角を含む
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 前記不純物添加領域は、不純物注入深さが前記活性層に達している
ことを特徴とする請求項9記載の半導体レーザ。
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