JP2009260093A - 光半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】In組成比xが低い3元混晶の半導体結晶InxGa1-xAsからなる基板11と、基板11に低温で結晶成長された、InGaAs歪量子井戸構造からなる活性層13と、活性層13上に結晶成長されたAlAs層14とを有し、AlAs14の一部を選択的に酸化して、選択酸化層14’を形成し、選択酸化狭窄構造とした光半導体装置。
【選択図】図1
Description
In組成比xが低い3元混晶の半導体結晶InxGa1-xAsからなる基板と、
前記基板に低温で結晶成長された、InGaAs歪量子井戸構造からなる活性層と、
前記活性層上に結晶成長された、Alを含む半導体からなるAl含有半導体層とを有し、
前記Al含有半導体層の一部を選択的に酸化して、選択酸化狭窄構造としたことを特徴とする。
上記第1の発明に記載の光半導体装置において、
前記基板のIn組成比xを、0.1≦x≦0.2の範囲としたことを特徴とする。
上記第1、第2の発明に記載の光半導体装置において、
前記Al含有半導体層を、AlAsとしたことを特徴とする。
上記第1〜第3のいずれか1つの発明に記載の光半導体装置において、
前記基板、前記歪量子井戸構造を、1.1μm以上1.4μm以下の範囲の波長域に利得を有する組成から構成すると共に、前記歪量子井戸構造の量子井戸層を、当該波長域を達成する厚みとしたことを特徴とする。
上記第1〜第4のいずれか1つの発明に記載の光半導体装置において、
更に、半導体多層膜反射鏡を設け、
前記半導体多層膜反射鏡を、前記基板に格子整合するInGaAsとInAlAsの周期構造から構成したことを特徴とする。
図1は、本発明に係る光半導体装置の実施形態の一例を示す要部断面図である。具体的には、波長1.3μmでのレーザ発振を実現するため、3元混晶の半導体結晶InGaAsの基板上に、AlAsを選択酸化した選択酸化狭窄構造を設け、更に、InGaAs/InAlAsの半導体多層膜反射鏡を設けた面発光半導体レーザの断面構造を示すものである。
図6は、本発明に係る光半導体装置の実施形態の他の一例を示す要部断面図である。具体的には、波長1.3μmでのレーザ発振を実現するため、3元混晶の半導体結晶InGaAsの基板上に、AlAsを選択酸化した選択酸化狭窄構造を設けた端面発光半導体レーザの断面構造を示すものである。
12 多層膜反射鏡(n−InGaAs/InAlAs)
13、33 活性層(InGaAs/InGaAs)
14、34 Al含有半導体層(AlAs)
14’、34’ 選択酸化層
15 多層膜反射鏡(p−InGaAs/InAlAs)
16、36 コンタクト層(p−InGaAs)
17、37 埋込層
18、38 p電極
19、39 n電極
21、23、25、27 障壁層(InGaAs)
22、24、26 量子井戸層(InGaAs)
31 クラッド層(n−InGaP)
35 クラッド層(p−InGaP)
41、43、45、47 障壁層(InGaAs/GaAs)
42、44、46 量子井戸層(InGaAs)
Claims (5)
- In組成比xが低い3元混晶の半導体結晶InxGa1-xAsからなる基板と、
前記基板に低温で結晶成長された、InGaAs歪量子井戸構造からなる活性層と、
前記活性層上に結晶成長された、Alを含む半導体からなるAl含有半導体層とを有し、
前記Al含有半導体層の一部を選択的に酸化して、選択酸化狭窄構造としたことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1に記載の光半導体装置において、
前記基板のIn組成比xを、0.1≦x≦0.2の範囲としたことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の光半導体装置において、
前記Al含有半導体層を、AlAsとしたことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光半導体装置において、
前記基板、前記歪量子井戸構造を、1.1μm以上1.4μm以下の範囲の波長域に利得を有する組成から構成すると共に、前記歪量子井戸構造の量子井戸層を、当該波長域を達成する厚みとしたことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光半導体装置において、
更に、半導体多層膜反射鏡を設け、
前記半導体多層膜反射鏡を、前記基板に格子整合するInGaAsとInAlAsの周期構造から構成したことを特徴とする光半導体装置。
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- 2008-04-18 JP JP2008108435A patent/JP2009260093A/ja active Pending
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