JP2008193122A - 対象上にグレースケールを形成する方法およびマスクレスリソグラフィシステム - Google Patents
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Abstract
いて多数のグレースケールレベルを設けること。
【解決手段】空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて
、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光し
てパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケ
ールレベルの範囲を形成することを含む、
ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。
【選択図】図1
Description
セスである。そのような基板はフラットパネルディスプレイ(例えば液晶ディスプレイ)
、回路基板、種々の集積回路などの製造に使用される基板を含むことができる。そのよう
な用途に頻繁に使用される基板は半導体ウェハまたはガラス基板である。この明細書は例
示の目的で半導体ウェハに関して記載しているが、当業者であればこの明細書が、それら
当業者に公知である他のタイプの基板にも適用されることは明らかである。
けられている露光光学系によってウェハの表面上に投影されるイメージに曝される。露光
光学系がフォトリソグラフィの事例において使用される一方、異なるタイプの露光装置を
特別な用途に依存して使用することができる。例えば、X線、イオン、電子、フォトンに
よるリソグラフィはそれぞれ、当業者には公知であるように異なる露光装置を必要とする
可能性がある。フォトリソグラフィの特別の例をここでは例示的な説明を目的として論じ
るに過ぎない。
ジストのような層の特性に変化が与えられる。この変化は露光中にウェハ上に投影される
フィーチャに相応する。露光に続いて、パターニングされた層を生成するために層をエッ
チングすることができる。パターンは露光中にウェハ上に投影されるこれらのフィーチャ
に相応する。このパターニングされた層は導電層、半導電層または絶縁層のようなウェハ
内に配置されている構造層における露光された部分を除去するために、または更に処理す
るために使用される。その後このプロセスはウェハの表面またはウェハの種々の層におい
て所望のフィーチャが形成されるまで、他のステップと共に繰り返される。
連して機能する。その際、同時にウェハ全体が露光されるのではなく、ウェハ上において
1回毎に個々のフィールドがスキャンされる。このことは、スキャンの間にイメージング
スロットがフィールドを横断するように、ウェハとレチクルを同時に移動させることによ
って達成される。この場合ウェハステージは、ウェハ表面全体にわたり露光すべきレチク
ルパターンを多数コピーできるようにするために、フィールド露光の間において非同期に
ステップされなければならない。このようにして、ウェハ上に投影されるイメージの品質
が最大となる。
する。このようなシステムは典型的にリソグラフィ室を有し、このリソグラフィ室は半導
体ウェハ上にイメージを形成するプロセスを実行する装置を含むよう設計されている。リ
ソグラフィ室は使用される光の波長に依存させて種々の気体混合物および/または真空度
を有するように設計することができる。レチクルがリソグラフィ室内に配置されている。
光ビームは(システム外に配置されている)照明源から光学系、レチクルにおけるイメー
ジアウトライン、また第2の光学系を介した後に半導体ウェハと相互作用する。
ますます高価になっており、またフィーチャの大きさおよび小さいフィーチャに要求され
る正確な公差のために製造に時間を要する。また、レチクルは消耗されるまでの所定の期
間しか使用できない。さらには、レチクルが所定の公差内に無い場合、またはレチクルが
損傷した場合には常習的に失費を招く。したがって、レチクルを使用するウェハの製造は
ますます高価になっており、また場合によっては禁止的に高価である。
ど)のリソグラフィシステムが開発された。マスクレスシステムではレチクルは空間光変
調器(SLM)(例えばディジタルマイクロミラー装置(DMD)、液晶ディスプレイ(
LCD)など)に置換される。SLMは、所望のパターンを形成するために個々に制御さ
れるアクティブ領域(例えばミラーまたは透過領域)のアレイを含む。これらのアクティ
ブ領域は「ピクセル」としても公知である。所望の露光パターンを基礎とする所定の且つ
事前に記憶されているアルゴリズムがピクセルを制御するのに用いられる。SLM内の各
ピクセルは、その光学的特性(例えば振幅/位相伝送)を制御可能な方法で変化させ、こ
れによってウェハ表面に搬送されるドーズを変化させる。
tates)をとることができる。これらの各状態はドーズグレースケール化の所定のレベル
に相応する。ピクセルがとることのできる複数の状態のうちの1つは、露光領域に光を送
らないピクセルに相応する。この状態は暗い状態またはOFF状態と称される。ピクセル
の他の状態は、露光領域に所定の割合の入射光を送るように変調されたピクセルに相応す
る。プリントされるパターン(例えばプリントされる線の位置または幅)を制御すること
ができるように、できるだけ多くのグレースケールレベルを実現することが望ましい。し
かし、異なるピクセル状態の数を増やすことによって得られるグレースケールレベルの数
は、少なくとも以下の理由によって制限されている。
的にSLM上のパターンはレーザパルス毎にアップデートされなければならない。露光が
連続光源によって行われるが、ウェハが静止して露光中、または露光のスミアリングの間
に補償される場合、パターンは少なくとも非常に頻繁にアップデートされなければならな
い。従って、SLMへの高いデータ伝送率が維持されなければならない。このデータ伝送
率は、別個の状態数の対数に比例して上昇し、可能な最大データ伝送率の制限は結果とし
てピクセル状態数の制限、ひいてはグレースケールレベルの数の制限になってしまう。
る。
を実現することができるマスクレスリソグラフィシステムおよび方法が望まれている。
ステムにおいて多数のグレースケールレベルを設けることである。このような発展によっ
て、線の位置または幅等の、システムによってプリントされるフィーチャを正確に制御す
ることが可能になる。
上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパタ
ーンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレ
ベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成す
る方法と、空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、
対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光ビームで露
光してパターンを形成すること、および前記光ビームのパワーを変調して、対象上にグレ
ースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケ
ールを形成する方法と、マスクレスリソグラフィシステムであって、照明源と、対象と、
制御装置を有しており、前記制御装置は、光源からの光ビームが対象を露光する持続時間
を変調し、対象上にグレースケールレベルの範囲を生じさせる、ことを特徴とするマスク
レスリソグラフィシステムと、マスクレスリソグラフィシステムであって、光ビームを出
力する照明源と、前記光ビームを複数のビームに分割するビームスプリッタと、複数のフ
ィルタと、複数の空間光変調器(SLM)を有しており、各フィルタは複数のビームのう
ちの1つと対応し、一定の強度透過値を有しており、各空間光変調器は複数のビームのう
ちの1つと対応し、ここで複数のビームのうちの各1つのビームは、対応しているフィル
タを通過し、対応しているSLMアレイを照明するので、複数の空間光変調器によって形
成されたパターンは対象上で重なる、ことを特徴とするマスクレスリソグラフィシステム
と、複数のピクセルを伴う空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシス
テムにおいて、対象上にグレースケール形成する方法であって、前記対象を光ビームで露
光してパターンを形成すること、前記対象の露光時間を変調し、対象上にグレースケール
レベルの第1の範囲を形成すること、および光ビームのパワーを変調し、対象上にグレー
スケールレベルの第2の範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレー
スケール形成する方法によって解決される。
ケールレベルを与える、レーザを含む照明システムにおけるグレースケール化方法を提供
する。
によって付加的なグレースケールレベルを与える、空間光変調器(SLM)を含む照明シ
ステムにおけるグレースケール化方法を提供する。
ースケールレベルを与える、照明システムにおけるグレースケール化方法を提供する。
ングと、レーザパワーとの様々な組合せが用いられる。
作動を以下で、添付の図面を参照して詳細に説明する。
明とともに本発明の原理を説明し、当業者に本発明の実現および使用を可能にするもので
ある。
番左の数字によりその要素が最初に現れた図面を識別することができる。
特有のコンフィギュレーションおよび配置について論じるが、これは例示的な目的でな
されたものに過ぎないと解すべきである。当業者であれば本発明の着想および範囲から逸
脱することなく、他のコンフィギュレーションおよび配置を使用できることは明らかであ
ろう。当業者にとって本発明を他の種々の用途に使用できることは自明である。
グレースケーリング方法を提供する。このシステムおよび方法は、別個のピクセル状態の
数を維持しながら、基板上にプリントされるフィーチャ(例えば線の位置または幅)に対
する制御を向上させる
マスクレスリソグラフィシステム
図1は、本発明の実施形態によるマスクレスリソグラフィシステム100を示す。マス
クレスリソグラフィシステム100は照明源102を含み、この照明源102はビームス
プリッタ106およびSLM光学系108を介して反射性の空間光変調器(SLM)10
4(例えばディジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、反射性の液晶ディスプレイ(
LCD)など)に光を送出する。SLM104は慣例のリソグラフィシステムにおけるレ
チクルの代わりに光をパターニングするために使用される。SLM104から反射された
パターニング光はビームスプリッタ106および投影光学系110を介して、対象(例え
ば基板、半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイのためのガラス基板など)112に
書き込まれる。
明らかである。また関連分野においては公知であるようにSLM光学系108および投影
光学系110が、SLM104および/または対象112の所望の領域上に光を指向させ
るために必要とされる光学的な要素のあらゆる組合せを含めることも明らかである。
がそれぞれ制御装置114、116と接続されているか、それぞれ一体的な制御装置11
4、116を有する。制御装置114はリソグラフィシステム100からのフィードバッ
クを基礎とする照明源102の調節または較正の実行に使用できる。制御装置116もま
た調節および/または較正に使用できる。択一的に、制御装置116をSLM104にお
けるピクセル302(図3を参照されたい)の別個の状態(例えば1つのグレートーン状
態と完全に暗い状態、またはOFF状態の間)の切換に使用できる(図3を参照)。これ
は対象112を露光するのに使用されるパターンを形成する。制御装置116は一体的な
メモリを有することができるか、1つまたは複数のパターンを形成するために使用される
所定の情報および/またはアルゴリズムを有するメモリ素子(図示せず)と接続すること
ができる。
スクレスリソグラフィシステム200は照明源202を含み、この照明源202は光をパ
ターニングするためにSLM204(例えば透過性のLCDなど)を介して光を送出する
。パターニングされた光は対象212の表面にパターンを書き込むために投影光学系21
0を介して送出される。この実施形態においてはSLM204は例えば液晶ディスプレイ
などのような透過性のSLMである。上記と類似して、照明源202およびSLM204
のうちの一方または両方をそれぞれ制御装置214、216と接続することができるか、
照明源202およびSLM204のうちの一方または両方は一体的な制御装置214、2
16を有する。制御装置214および216は上述したように、また公知のように制御装
置114および116と同様の機能を実行することができる。
aser Systems AB of SwedenおよびドイツのFraunhofer Institute for Circuits and Sys
tem of Germanyによって製造されている。
には明らかであるように、以下で説明する全てのコンセプトはシステム200にも適用で
きる。図1および図2のコンポーネントおよび制御装置の他の配列または統合は、本発明
の着想および範囲を逸脱せずに、当業者に明らかであろう。
(図面では省略記号によって表されている)ピクセル302のn×m個のアレイを含む。
ピクセル302はDMDにおけるミラーか、LCDにおけるロケーションでよい。ピクセ
ル302の物理的な特性を調節することによって、これらのピクセル302をピクセル状
態のうちの1つとみなすことができる。所望のパターンを基礎とするディジタルまたはア
ナログの入力信号は種々のピクセル302の状態を切換えることに使用される。ある実施
形態においては、対象112に書き込まれる目下のパターンを検出することができ、パタ
ーンが許容可能な公差を超えているか否かを判断することができる。許容可能な公差を超
えている場合には、制御装置116はSLM104によって生成されるパターンをリアル
タイムで良好に合わせる(例えば較正、調節など)ためにアナログまたはディジタルの制
御信号を形成することに使用できる。
する非アクティブのパッケージ400を含むことができる。また択一的な実施形態におい
ては、SLMアレイの監視および制御のために、主制御装置402を各SLM制御装置1
16と接続することができる。図4の破線はSLMアレイ内の第2のSLMをあらわす。
実装設計に合わせるために1つより多いSLMをアレイに加えることができる。以下で述
べるように、隣接するSLMを別の実施形態においては相互に考慮してずらすまたは互い
違いに置くことができる。
図5はSLM104のアレイを受ける支持デバイス502を含むアセンブリ500を示
す。種々の実施形態では、以下においてより詳細に説明するように、SLM104のアレ
イはパルス毎の所望の露光数または他の実装設計の判定基準に基づいて可変数の列、行、
列毎のSLM、行毎のSLMなどを有することができる。SLM104を支持デバイス5
02と接続することができる。支持デバイス502は熱制御領域504(例えば水または
空気の流路など)を有する。支持デバイス502は制御ロジックおよび関連する回路部品
のための領域(例えば図4に示されているような、ASIC、A/D変換器、D/A変換
器、データを流すためのファイバ光学系などの素子116および素子402を参照された
い。)も有する。さらに支持デバイス502は関連分野においては公知のように、SLM
104を受けるウィンドウ506(破線の内部に形成されている)を有する。支持デバイ
ス502、SLM104および周辺の冷却装置または制御装置回路をアセンブリと称す。
アセンブリ500は先行SLMと追従SLM104についての所望のステッチ(例えば対
象112におけるフィーチャの隣接する要素の接続)およびオーバーラップを生成するた
めのステップサイズを考慮することができる。先行SLMはスキャン中に対象112上に
一連のイメージにおける最初のイメージを形成するSLMであり、追従SLMはスキャン
中に対象112上に一連のイメージにおける最後のイメージを形成するSLMである。異
なるスキャンからの先行SLMと追従SLMとの重畳は、合わせ目を除去するのに役立つ
。この合わせ目は隣りの非重畳スキャンによって生じる。例えば、支持デバイス502は
250mm×250mmまたは300mm×300mmでよい。支持デバイス502は温
度安定材料から製造されているので熱管理に使用することができる。
て、また回路部品の制御および熱制御領域504を組み込むために使用することができる
。あらゆる電子機器を支持デバイス502の後部および前部の一方または両方に取り付け
ることができる。例えば、アナログベースのSLMまたは電子機器を使用する場合には、
ワイヤを制御システムまたは結合システム504からアクティブ領域300まで接続する
ことができる。支持デバイス502上に取り付けられているのでこれらのワイヤは比較的
短くて良く、回路装置が支持デバイス502から離れている場合に比べてアナログ信号の
減衰を低減する。回路部品とアクティブ領域300との間のリンクが短いということは通
信速度を上昇させ、したがってパターン再調整速度をリアルタイムで上昇させる。
、アセンブリ500を容易に交換できる。アセンブリ500の交換はアセンブリ500に
おけるただ1つのチップの交換よりも費用がかかるが、実際には組立体500全体を交換
する方が効率的あり、これにより製造費用を節約することができる。また最後のユーザが
一新されたアセンブリ500を使用したい場合には交換部品の数の低減を考慮して、アセ
ンブリ500一新することができる。アセンブリ500が交換されたならば、製造を再開
する前にただ一度の全体のアラインメントが必要とされる。
多くのリソグラフィ用途では、例えばプリントされる線の位置および幅を制御すること
が望まれる。これらのパターンを制御し、解像度を高める効果的な方法は、出来るだけ多
くのグレースケールレベルを実現することである。
を変調することである。図6は、露光の持続時間が変調される、本発明の1つの実施例の
フローチャートである。この実施例で照明源102はレーザ(図示されていない)を含む
。ステップ602では、照明源102からの光がSLM104によって伝送され、対象1
12上に第1のパターンを形成する。
パルス幅)が変えられる。例えば、レーザビームが平行する複数のビームに分けられ、こ
のような平行ビームの相対的な長さが変えられる場合、パルスの幅も変化するだろう。当
業者には、レーザパルスの持続時間を変化させるために通常使用される、他のあらゆる方
法も、この実施例で使用可能であることが明らかであろう。
M104によって伝送され、対象102上に第2のパターンが形成される。第2のパター
ンは第1のパターンと重畳する。重畳しているパターンがグレースケールを作る。
れる。ステップ606が繰り返される度に、グレースケールレベルの異なった範囲が実現
される。異なる露光からのグレースケールを組み合わせることによって、付加的なグレー
スケールが得られる。
る。ステップ702では、照明源102からの光でSLM104が照射される。SLM1
04は、光においてパターンを形成する。
光によって露光される。
クセル302の一部を1つのある状態から、その第2の状態に、SLM104の他のピク
セル302より早く切換えることによって行われる。ピクセルの第2の状態によって、ピ
クセルが領域を露光するために異なった割合の入射光を送る、異なるグレースケール状態
になる。択一的に、ピクセルが切換えられる第2の状態はOFF状態である。この状態で
はピクセルは露光領域に光を送らない。ステップ706は、さらに図10で説明される。
図10は、ステップの例706のタイミングダイヤグラムである。X軸1002は時間の
増大をあらわし、tによって1回のスキャンの全時間があらわされる。Y軸1004は例
えば、所与の時間でアクティブであるSLM104のピクセル302の数をあらわす。時
間0では、数Nのピクセル302がアクティブであると仮定する。分かり易くするために
、全てのピクセルの第2の状態がOFF状態であると仮定する。当業者には、他の状態も
使用可能であることが明らかであろう。
態に切換えられる。したがって、時点(t−β)の直後には(N−A)個のピクセルがア
クティブ状態のままである。この後、時点(t−α)で、ピクセル302の第2の部分B
がOFF状態に切換えられる。したがって、時点(t−α)の直後では((N−A)−B
)個のピクセルがアクティブ状態のままである。最終的にスキャンの終了時にtに達し、
残りの((N−A)−B)個のピクセルがOFF状態に切換えられ、アクティブ状態のま
まのピクセルはなくなる。
図8には、本発明の第3の実施例である方法800が示されている。方法800では、
各露光におけるパワーの変調によってグレースケーリングが行われる。方法800はさら
に図11によって補足される。ブロックダイヤグラムは投影光学系110の1つの実施形
態をあらわしている。この実施形態では、投影光学系110はフィルタ1102と付加的
な光学系1104を含む。当業者には、付加的な光学系1104は光路1106内に、フ
ィルタ1102の前または後またはフィルタの両側に配置可能であることが明らかであろ
う。付加的に、さらなる実施例では、フィルタ1102が投影光学系110の外の光路内
のどこにでも配置可能である。
過値(intensity transmission value)を制御する制御システム1108も含む。制御シ
ステム1108は、手動または電動である。制御システム1108は、例えばスイッチを
含むことができる。
せ、フィルタリングされた光を生じさせることを含む。フィルタ1102は、第1の強度
透過値を有している。
第1のパターンを形成する。
によって変えられる。これによってフィルタ1102は第2の強度伝送値を有する。
光を通過させることによって生じた第2のパターンと重畳させることを含む。第1のパタ
ーンとは異なる強度を有する第2のパターンによって対象112を露光することによって
グレースケールが生じる。ステップ806およびステップ808は繰り返され、対象11
2上のグレースケールレベルの数が増やされる。
、ビームの個々の部分におけるパワーの変調によってグレースケールリングが作られる。
方法900はさらに図12によって補足される。このブロックダイヤグラムは、方法90
0によって用いられる、システム1200内の要素を含んでいる。システム1200はと
りわけ、照明源102、ビームスプリッタ1202、フィルタセット1204、SLMア
センブリ500および対象112を含む。フィルタセット1204は、フィルタセット1
204内の省略記号によってあらわされているフィルタA−Nを含む。同じように、SL
Mアセンブリ500は、少なくともフィルタの数と同じ数のSLMを含む。例えば、フィ
ルタセット1204内にN個のフィルタがある場合、SLMアセンブリ500内にもN個
のSLMが設けられている。
ームセグメントに分けることを含む。これらのビームセグメントは、ビームセグメントA
−Nと称される。
フィルタA−Nを通過させられる。フィルタA−Nは、対応する各ビームセグメントA−
Nにおけるパワーを変調する。ビームセグメントA−NがフィルタA−Nを通過した後、
方法900はステップ906に進む。
SLM A−Nを照射する。SLMアセンブリ500内の個々のSLM A−Nは、個々
のビームセグメントA−Nを対象112に伝送する。
光する。個々のSLM A−Nによって異なるパターンが各ビームセグメント内に形成さ
れるので、幾つかのパターンは対象112を、他のパターンとは異なった強度で露光する
。異なる強度を有した多数のパターンによるこの露光は、対象112上にグレースケール
レベルを設ける。グレースケールレベルの数は、使用される個々のビームセグメントの数
および個々のSLMの数が増大することによって増大する。
本発明の種々異なる実施例を示したが、これらは例として示しただけであって、本発明
を制限するものではないことを理解されたい。当該関連分野の当業者には、本発明の着想
および範囲を逸脱することなく、形式および細部において種々の変更が可能であることが
明らかであろう。従って、本発明の領域および範囲は、上述したいかなる実施例によって
も制限されるものではなく、添付した特許請求の範囲およびそれに相当するものに従って
のみ規定される。
04、204 空間光変調器、 106、1202 ビームスプリッタ、 108 空間
光変調器光学系、 110、210 投影光学系、 112、212 対象、 114、
116、214、216 制御装置、 300 アクティブ領域、 302 ピクセル、
400 非アクティブなパッケージ、 402 制御装置、 500 アセンブリ、
502 支持デバイス、 504 熱制御領域、 506 ウィンドウ、 1002 X
軸、 1004 Y軸、 1102 フィルタ、 1104 付加的な光学系、 110
6 光路、 1108 制御システム、 1204 フィルタセット
Claims (10)
- 空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上に
グレースケールを形成する方法であって、当該方法は、
前記対象を光ビームで露光してパターンを形成すること、および
前記光ビームのパワーを変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成するこ
とを含む、
ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 前記パターンを第1のパワーを有している光ビームによって形成し、
前記パターンを、第2のパワーを有する光ビームと重畳させ、重畳した露光を形成し、
前記重畳した露光によって、対象上にグレースケールレベルの異なる範囲を形成するこ
とを含む、請求項1記載の方法。 - 前記重畳ステップを、所望の数のグレースケールレベルが得られるまで繰り返す、請求
項2記載の方法。 - 前記重畳ステップは、
重畳露光に対して特有の一定の強度透過値を有するフィルタを前記光ビームが通過する
ようにすること、および
前記光ビームを前記対象へ伝送することを含む、請求項3記載の方法。 - 前記重畳ステップは、
光ビームを1つより多いビームに分割すること、
一定の強度透過値を有するフィルタを各ビームが通過すること、
自身の個々の空間光変調器を用いて各ビームを伝送すること、および
各個々の空間光変調器からのイメージを前記対象上に重畳させることを含む、請求項2
記載の方法。 - マスクレスリソグラフィシステムであって、
光ビームを出力する照明源と、
前記光ビームを複数のビームに分割するビームスプリッタと、
複数のフィルタと、
複数の空間光変調器(SLM)を有しており、
各フィルタは複数のビームのうちの1つと対応し、一定の強度透過値を有しており、
各空間光変調器は複数のビームのうちの1つと対応し、
ここで複数のビームのうちのそれぞれ1つのビームは対応しているフィルタを通過し、
対応している空間光変調器アレイを照明するので、複数の空間光変調器によって形成され
たパターンは対象上で重畳される、
ことを特徴とするマスクレスリソグラフィシステム。 - 複数の空間光変調器の各空間光変調器によって形成される各パターンを制御する制御シ
ステムを有している、請求項6記載のマスクレスリソグラフィシステム。 - 複数のピクセルを伴う空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシステ
ムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、
前記対象を光ビームで露光してパターンを形成すること、
前記対象の露光時間を変調し、対象上にグレースケールレベルの第1の範囲を形成する
こと、および
光ビームのパワーを変調し、対象上にグレースケールレベルの第2の範囲を形成するこ
とを含む、
ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 前記対象の露光時間の変調は、
露光間の光ビームのパルス幅を変えて、重畳している露光を生じさせること、および
空間光変調器内の他のピクセルより早く、空間光変調器の複数のピクセルの一部を代替
的な状態に切換えること、から成る少なくとも1つのグループを含む、請求項8記載の
方法。 - 前記光ビームのパワーの変調は、
露光間の光ビームのパワーを変えて、重畳している露光を生じさせること、および
光ビームが通過するフィルタの強度透過値を変えて、重畳している露光を生じさせるこ
と、および
光ビームを複数の光ビームに分けた後、一定の強度透過値を有している自身のフィルタ
を各ビームが通過するようにさせること、から成る少なくとも1つのグループを含む、請
求項8記載の方法。
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