KR100280764B1 - 노광 장치 - Google Patents

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KR100280764B1
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시라스히로시
히마다도모히데
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오노 시게오
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Abstract

다수의 광빔을 발생시키는 다수의 조명 광학 시스템과, 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각에 대응하여 배치된 다수의 투영 광학 시스템과, 상기 다수의 광빔 각각의 세기를 검출하기 위하여 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각에 대해 제공된 다수의 제 1 광 세기 검출기와, 상기 다수의 광빔 각각의 광 세기를 변경시키기 위한 광 세기 변경 수단과, 상기 제 1 광 세기 검출기에 의해 검출된 광빔 세기에 대응하여, 상기 광 세기 변경 수단을 제어하며 상기 다수의 광빔의 세기를 일정한 레벨로 균일화하기 위한 제어 수단을 포함하는 노광 장치가 개시되어 있다.

Description

노광 장치
제1도는 본 발명에 따른 노광 장치의 제 1 실시예의 구성을 도시한 개략선도.
제2도는 제1도의 노광 장치에 있어서의 감광 기판상의 투영 영역을 나타내는 개략선도.
제3도는 본 발명에 따른 노광 장치의 제 2 실시예의 구성을 도시한 개략적 사시도.
제4도는 제3도의 노광 장치에 있어서의 광량의 제어 시스템을 설명하는데 이용되는 개략선도.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 광원 2 : 타원형 미러
3,6,8 : 렌즈 시스템 7 : 시야 조리개
9 : 마스크 10 : 감광 기판
11 : 검출기 12 : 신호 처리기
13 : 전원 14 : ND 필터
20 : 노광 스테이지 L01~L05 : 조명 광학 시스템
PL1~PL5 : 투영 광학 시스템
[발명의 배경]
[발명의 분야]
본 발명은 노광 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 장치 및 액정 표시 기판등을 제조하는데 사용되며 특히 다수의 조명 광학 시스템을 갖는 노광 장치에 관한 것이다.
최근 수년동안, 액정 표시 기판이 퍼스널 컴퓨터, TV 등의 표시 소자로서 많이 사용되고 있다. 이러한 액정 표시 기판은 유리 기판상에 투명 박막 전극을 포토리소그래피(photolithography) 방법에 의해 소정 형상으로 패터닝하므로써 제조된다. 이러한 리소그래피용 장치로서, 마스크상에 형성된 원래의 패턴을 투영 광학 시스템을 통해 유리 기판상의 포토레지스트 층에 노광시키는 투영 노광 장치가 사용되고 있다.
또한, 최근에는 액정 표시 기판의 면적을 증가시키기 위한 요구가 되고있으며, 이러한 요구에 따라 투영 노광 장치의 노광 영역의 확대가 요구되고 있다.
[발명의 요약]
다수의 투영 광학 시스템을 포함하는 주사형 노광 장치가 노광 영역을 확대하는 장치로 고려된다. 즉, 다수의 조명 광학 시스템이 제공되어 있고, 마스크가 각각의 조명 광학 시스템으로부터 방출된 광빔(light beam)에 의해 조명된다. 광빔에 의해 조명된 마스크 상(image)은 각각, 다수의 투영 광학 시스템을 통해 유리기판상의 투영 영역상에 투영된다.
보다 상세히 설명하면, 광원으로부터 방출된 광빔의 양은 플라이-아이 렌즈(fly-eye lens)등을 포함하는 광학 시스템을 통해 균일화된 후 시야 조리개(field stop)에 의해 소정의 형상으로 형상화되어, 그뒤 마스크 패턴면이 상기와 같이 형상화된 광빔에 의해 조명된다. 이러한 구조를 갖는 다수의 광학 시스템(조명 광학 시스템)이 설치되어, 마스크상의 상이한 소영역(조명 영역)이 다수의 조명 광학 시스템 각각으로부터 방출된 광빔에 의해 각각 조명된다. 마스크를 투과한 광빔은 서로 상이한 투영 광학 시스템을 통해 유리 기판상의 상이한 투영 영역상에 마스크 패턴 상을 형성한다. 그뒤, 마스크와 유리 기판을 동기화(同期化) 하여 투영 광학 시스템에 대해 주사를 행하므로써 마스크 상의 전체 패턴 영역을 유리 기판상에 전사한다.
주사형 노광 장치는 다수의 조명 광학 시스템을 가지기 때문에, 각각의 조명 광학 시스템으로부터 방출된 광빔의 세기를 균일하게 할 필요가 있다. 이러한 목적을 위하여, 장치의 제조 단계에서 ND 필터를 사용하여 각각의 조명 광학 시스템으로부터 방출된 광빔의 세기를 일정한 레벨로 조정하고 있다. 그러나, 장치의 사용 시간의 경과에 의해 광원(램프)의 휘도가 열화(劣化)된 상태는 각 램프마다 다르기 때문에, 장치의 사용중에 광빔의 세기는 일정하게 되지 않는다.
또한, 램프를 교환한 경우, 램프마다 초기 휘도가 다르기 때문에 광빔의 세기를 다시 한번 조정할 필요가 있다.
이러한 세기 조절을 용이하게 하기 위하여, 각각의 조명 광학 시스템내에 검출기를 배치하여 검출기에 의해 얻어진 신호에 의거하여 광빔의 세기가 임의의 기준값으로 되도록 각 램프에 대한 인가 전압을 피드백 제어하는 것이 고려될 수 있다.
그러나, 일반적으로 램프의 휘도에는 제조상의 편차가 있고, 또한 시간의 경과에 따라 휘도가 열화되기 때문에, 이러한 방법에 있어서는 편차의 최저값과 수명 시간에 따른 휘도의 최저값을 상기 기준값으로 할 필요가 있다. 따라서, 각 조명 광학 시스템의 광빔의 세기는 항상 낮은 레벨에서 안정화되고, 그 결과 노광 시간이 증가되어 장치의 처리량이 저하되는 문제가 있다.
또한, 상기 주사형 노광 장치는 통상 마스크와 유리 기판을 고정시키고 일방향으로 이동하면서 노광을 수행하며, 노광 광빔의 전영역에 걸쳐 유리 기판상의 광 세기를 검출하는 것은 곤란하다.
따라서, 상기 문제를 고려하여 착안된 본 발명의 주 목적은, 다수의 조명 광학 시스템 각각으로부터의 광빔을 마스크 상의 다수의 방사 영역에 조사하고, 상기 다수의 방사 영역의 상을 다수의 투영 광학 시스템을 통해 감광 기판상에 투영할때, 균일한 광 세기로 감광 기판상에 투영할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 다수의 조명 광학 시스템과; 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각에 대응하여 배치된 다수의 투영 광학 시스템과; 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각으로부터의 광빔의 세기를 검출하기 위하여 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각에 제공된 다수의 광 세기 검출기와; 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각의 광빔 세기를 변경시키는 변경 수단과; 상기 광 세기 검출기에 의해 각각 검출된 광빔 세기에 대응하여 광빔 세기를 일정한 레벨로 균일화하도록 광 세기 변경 수단을 제어하기 위한 제어 수단을 포함하며, 다수의 방사 영역의 상이 상기 다수의 투영 광학 시스템을 통하여 감광 기판상에 투영되는 것을 특징으로 하는 노광 장치가 제공되어 있다.
본 발명에 따르면, 상기 제어 수단은 상기 다수의 제 1 광 세기 검출기에 의해 각각 검출된 광빔 세기중 최저값을 나타내는 것이 기준일 경우, 상기 다수의 광 세기 검출기 모두가 최저값을 나타내도록 상기 광 세기 변경 수단을 제어한다.
본 발명에 따르면, 상기 노광 장치는 다수의 조명 광학 시스템으로부터 방출된 각각의 광빔 세기를 검출하기 위한 제 2 광 세기 검출기를 추가로 포함한다.
본 발명에 따르면, 상기 제어 수단은 상기 제 2 광 세기 검출기의 검출 결과 및 상기 다수의 광 세기 검출기 각각의 검출 결과에 의거하여 상기 광 세기 검출기의 검출 결과를 보정한다.
본 발명에 따르면, 상기 광 세기 변경 수단은 상기 조명 광학 시스템을 구성하는 광학 소자보다 투과율이 낮은 부재를 포함한다.
본 발명에 따르면, 상기 제 2 광 세기 검출기는 소정 방향으로 이동하는 스테이지상에 장착되어 상기 스테이지의 이동방향과 직교하는 방향으로 이동하는 이동 유닛상에 배치되어, 상기 감광 기판의 표면과 동일한 평면내에서 이동하며 상기 다수의 투영 광학 시스템을 통과하는 광빔 각각의 광 세기를 검출한다.
본 발명에 따르면, 상기 제어 수단은, 노광에 앞서, 상기 제 2 광 세기 검출기에 의한 검출 데이타에 의거하여 상기 조명 광학 시스템 각각의 광 세기 변경 수단을 제어하고, 감광 기판의 표면상의 광빔의 광 세기를 균일화하며, 노광시에는, 광 세기 변경 수단을 제어하므로써 상기 조명 광학 시스템 각각의 광 세기 검출기에 의해 균일화된 각 광빔의 광 세기를 유지한다.
본 발명에 따르면, 다수의 투영 광학 시스템 각각에 배치된 조명 광학 시스템으로부터의 광빔의 세기가 검출되고, 최저 세기가 얻어진 조명 광학 시스템의 세기에 다른 조명 광학 시스템의 세기가 일치되도록 제어가 이루어지므로써, 광원의 초기 휘도의 편차와 사용에 기인한 휘도 열화에 관계없이 항상 모든 조명 광학 시스템내에서 균일한 세기가 얻어질 수 있다.
또한, 상술한 장치에서와 같이, 광원의 수명에 기인한 최저 휘도가 기준값으로 미리 설정된 장치와는 달리 기준값이 최저 휘도보다 높은 레벨로 설정되므로, 광원의 휘도는 항상 효과적으로 될 수 있으며, 장치의 처리량의 저하가 방지될 수 있다.
또한, 제 2 광 세기 검출기는 전체 투영 영역의 광 세기를 2 차원적으로 검출할 수 있으므로, 각각의 투영 영역내에 잔존하는 광빔 세기의 불균일성을 고려하여 제어를 하므로써 보다 균일한 노광 표면 조도가 얻어질 수 있고, 노광 표면 조도는 조명 광학 시스템용 광원의 열화에 무관하게 일정하게 유지될 수 있으므로 노광량이 용이하고 정확하게 제어될 수 있다.
[양호한 실시예의 상세한 설명]
[제 1 실시예]
제 1 도는 본 발명에 따른 노광 장치의 제 1 실시예의 구성을 도시한다. 초고압 수은 램프등과 같은 광원(1)으로부터 방출된 광빔(L)은 타원형 거울(2) 및 렌즈 시스템(3)을 통해서 플라이-아이 렌즈(4)에 의해 세기에 관해서 균일화된다. 그리고, 광빔은 하프 미러(half-mirror)(5) 및 렌즈 시스템(6)을 통해 시야 조리개(7)에 의해 소정의 형상으로 조정되고, 시야 조리개(7)의 상(象)이 렌즈 시스템(8)을 통해 마스크(9)의 패턴면상에 형성된다.
다수의 조명 광학 시스템(광원(1)으로부터 렌즈 시스템(8)까지의 범위내에 있는 L01~L05 라 표시된 광학 소자, 그러나 도면에서는 편의상 렌즈 시스템(8)에 대응하는 조명 광학 시스템만이 도시되어 있다)이 배치되어 있다. 마스크(9)상의 상이한 소영역(조명 영역) 각각이 다수의 조명 광학 시스템 (L01~L05) 각각으로부터 방출된 광빔에 의해 조명된다.
마스크(9)를 투과한 다수의 광빔은, 서로 다른 투영 광학 시스템(PL1~PL5)을 통해 감광 기판(10)상의 상이한 투영 영역 (제 2 도의 PA1~PA5)에 마스크(9)의 조명 영역에 대응하는 패턴 상을 형성한다.
이경우, 각각의 투영 광학 시스템(PL1~PL5)은 등배 정립 시스템(unit erect system)이다. 감광 기판(10)에서 서로 인접한 투영 영역(예; PA1, PA2 및 PA2, PA3)은 제 2 도에 도시된 바와 같이 도면의 X 방향으로 소정량 변위하도록 또한 인접한 영역의 에지(도면에서 파선으로 표시된 부분)가 도면의 Y 방향으로 서로 중첩되도록 배치된다. 따라서, 다수의 투영 광학 시스템(PL1~PL5)도 또한 투영 영역(PA1~PA5)의 배치에 대응하여 X 방향으로 소정양만큼 변위되어 있는 동시에 Y 방향으로 중첩 배치되어 있다.
또한, 다수의 조명 광학 시스템(L01~L05)은 마스크(9)상의 조명 영역이 투영 영역(PA1~PA5)과 동일한 방식으로 배치되도록 배치된다. 그리고, 마스크(9)와 감광 기판(10)을 동기화하므로써 X 방향(도면에서 지면에 수직한 방향)으로의 주사가 투영 광학 시스템(PL1~PL5)을 통해 수행되어, 마스크(9)상의 전체 패턴 영역을 감광 기판(10)상의 노광 영역(EA) (제 2 도)에 전사한다.
또한, 하프 미러(5)가 조명 광학 시스템(L01~L05)의 광 경로상에 제공되므로써 광빔(L)중 일부가 검출기(11)에 입사된다. 검출기(11)는 항상 광빔(L)의 세기를 검출하고, 얻어진 신호(P1~P5)를 신호 처리기(12)에 입력한다. 이 신호(P1~P5)에 의거하여, 신호 처리기(12)는 조명 광학 시스템(L01~L05)의 광빔의 세기를 구하여 이러한 세기중 최저값을 나타내는 것을 기준값으로 설정한다. 그리고, 다른 광빔의 세기가 이 기준값과 같아지도록 전원(13)에 대한 인가 전압(또는 전원 전류)이 피드백 제어된다. 신호 처리기(12)가 신호(P1~P5)를 처리하는 간격은 필요에 따라 임의로 설정될 수 있다.
그런데, 다수의 광원(1)중 일부가 새것으로 교환되는 경우에, 이러한 새 광원은 다른것들 보다 높은 휘도를 갖는다.
이러한 경우, 앞서 설명한 바와 같이 인가 전압을 조절하는 것만으로는 각 광빔의 세기를 일정한 크기로 제어하는 것이 불가능하다. 따라서, ND 필터(14)가 각 조명 광학 시스템(L01~L05)의 광 경로내에서 광빔(L)에 대해 진퇴가능하도록 배치되고 필터 구동부(15)가 신호 처리기(12)로부터의 신호에 의해 제어되는 구조로 되어 있다. 다수의 ND 필터(14) 각각이 상이한 투과율을 갖도록 되어 있고, 이러한 ND 필터(14)는 전환되거나 또는 조합되어 사용될 수도 있다.
본 실시예에 있어서, 검출기(11)는 조명 광학 시스템(L01~L05)과 투영 광학 시스템(PL1~PL5)을 구성하는 광학 소자의 투과율을 포함하여 각 조명 광학 시스템(L01~L05)에 대한 검출기(11) 자체의 검출값의 편차를 조사할 필요가 있다.
이러한 목적을 위해, 검출기(16)가 그 수광면이 감광 기판(10)과 동일한 평면내에 놓이도록 제공된다. 그리고, 검출기(16)는 투영 광학 시스템(PL1~PL5)의 투영 영역(PA1~PA5)내에 배치되어 각각의 투영 영역상에 투영되는 광빔의 세기를 검출한다.
이렇게 얻어진 세기 신호(P0)는 신호 처리기(12)에 입력된다. 모든 투영 영역에 대한 신호(P0)와 각 조명 광학 시스템(L01~L05)의 검출기(11)의 검출 신호(P1~P5)와의 차이를 각각의 검출기(11)의 상쇄값으로 한다. 이것은 광빔의 세기를 정확히 제어할 수 있도록 하며, 또한 ND 필터를 전환하므로써 검출기(11)의 검출 신호(P1~P5) 각각의 선형성(linearity)을 체크할 수 있도록 한다.
[제 2 실시예]
제 3 도는 본 발명에 따른 노광 장치의 제 2 실시예의 구조를 도시하는데 제 1 도의 것과 동일한 요소는 동일 부호로 표시되어 있다.
이러한 노광 장치는, 마스크(9)가 장착된 마스크 스테이지와 감광 기판(10)이 장착된 기판 스테이지를 일체로 유지하는 노광 스테이지(20)로 형성되어 있다. 지지 부재(도시 안됨)에 각각 고정된 투영 광학 시스템(PL1~PL5)과 조명 광학 시스템(L01~L05)에 대해서 얼라인먼트(alignment) 시스템(도시 안됨)에 의한 마스크(9)와 감광 기판(10)과의 얼라인먼트가 행해진다. 그후, 마스크(9)는 감광 기판(10)이 노광 스테이지(20)상에 유지된 상태로 주사-노광이 노광 스테이지(20)상에서 함께 행해지므로써, 마스크 상이 감광 기판(10)상으로 전사된다.
이때, 감광 기판(10)상의 조명 광 세기 및 노광 스테이지(20)의 주사 속도에 의해 노광량이 결정된다.
또한, 본 실시예의 노광 장치에 있어서, 노광 스테이지(20)의 기판 스테이지상에, 관련 노광 스테이지의 이동축(X 축)과 상기 이동축과 직교하는 구동축(Y 축)을 가지는 센서 구동 수단(21)이 장착되어 있다. 그리고, 1 회 또는 다수회의 노광에 앞서, 노광 스테이지(20)의 이동축(X 축)과 센서 구동 수단(21)의 구동축(Y 축)을 구동하므로써 투영 광학 시스템(PL1~PL5)의 투영 영역(PA1~PA5)하에서 검출기(22)의 주사가 행해진다. 따라서, 노광면상의 조명 광 세기가 2 차원적으로 계측되어 광 세기 데이타로서 송출된다.
제 4 도는 본 실시예에 따른 조명 광 세기의 제어 시스템을 도시한다. 상기와 동일한 방법으로 계측된 노광면(투영 영역)상의 광 세기 데이타(P10)에 의거하여, 각각의 투영 광학 시스템(PL1~PL5)에 대응하는 조명 광학 시스템(L01~L05)의 광 세기를 조명 광학 시스템(L01~L05)에 부설된 검출기(11)에서 검출(P1~P5)한다. 한편, 조명 광 세기 제어 수단(26)을 제어하므로써 투영 광학 시스템(PL1~PL5)의 투영 영역(PA1~PA5)을 합친 전체 노광 영역에 있어서 조명 광 세기가 균일하게 되도록 설정된다.
설정후, 검출기(22)는 상기와 동일한 절차로 노광면 상의 조명 광 세기를 계측, 확인한다. 상기 절차를 반복하여 조명 광 세기의 균일성이 규격내에 들어오는 경우, 기억 회로(27)가 이때의 검출기(22)에 의한 노광면상의 계측값 (P10)을 노광면 조도로 저장하는 한편 동시에, 이때의 조명 광학 시스템(L01~L05)의 검출기(11)에 의한 검출값(P1~P5)을 저장한다. 실제의 노광시에는, 노광 스테이지 제어 회로(29)가 기억 회로(27)에 저장된 노광면 조도에 의거하여 감광 기판(10)의 노광량을 최적화 하도록 노광 스테이지(20)의 이동 속도를 제어한다.
이와 함께, 검출기(11)의 검출값(P1~P5)이 기억 회로(28)에 저장된 값(PM1~PM5)으로 유지되도록 조명 광학 시스템(L01~L05)의 조명 광 세기가 개개의 조명 광 세기 제어 수단(26)에 의해 제어된다. 조명 광 세기 제어 수단(26)의 구체예로서는, 광원의 전류 제어, 줌(zoom) 광학 시스템 및, 위치에 따라 경사적으로 투과율이 변하는 ND 필터의 위치 제어등이 행해진다. 이렇게 하여, 전체 위치에 따라 경사적으로 투과율이 변하는 ND 필터의 위치 투영 영역(PA1~PA5)의 광 세기(조도)가 균일화되어 일정하게 유지될 수 있다.
상기 구조에 의하면, 전체 투영 영역(PA1~PA5)의 광 세기가 2 차원적으로 검출될 수 있어서, 각각의 투영 영역내에 잔존하는 광빔의 세기의 불균일성을 고려하여 광 세기가 제어되므로써, 보다 균일한 노광면 조도를 얻을 수 있다. 또한, 노광면 조도는 조명 광학 시스템(L01~L05)의 광원의 열화등에 관계없이 일정하게 유지될 수 있으므로, 노광량의 제어가 용이하고 정확하게 된다. 예정된 노광 횟수나 노광 시간, 또는 조명 광학 시스템(L01~L05)의 광원의 열화등에 기인하여 조명 광 세기 제어 수단(26)의 제어가 불가능하게 되는 경우에, 노광면 조도의 재설정이 행해질 수도 있다.
[기타 실시예]
또한, 상술된 실시예에 있어서는 투영 영역(PA1~PA5)이 제 2 도에 도시된 바와 같이 배치되도록 조명 광학 시스템(PL1~PL5)과 투영 광학 시스템(PL1~PL5)이 배열되어 있는 구조로 되어 있지만, 제 2 도에 도시된 투영 영역(PA2, PA4)을 형성하는 조명 광학 시스템(L02, L04) 및 투영 광학 시스템(PL2, PL4)이 제공되지 않는 구조이어도 좋다. 이러한 경우에, 마스크(9) 및 감광 기판(10)이 X 방향으로 주사된 후, Y 방향으로 소정량만큼 옮겨져서 X 방향과 반대 방향으로 재주사 되므로써, 마스크 패턴 영역의 전체 표면이 감광 기판상으로 전사될 수 있다.
또한, 상술된 실시예들은 등배의 투영 광학 시스템(PL1~PL5)을 사용하고 있지만 소정의 배율을 갖는 투영 광학 시스템을 사용할 수도 있으며, 굴절 광학 시스템 대신에 반사 광학 시스템을 적용하여도 관계없다. 또한, 시야 조리개의 구멍은 사다리꼴형이지만 본 발명은 이러한 구조에 제한되지 않고 예컨대 육각형의 구멍을 갖는 시야 조리개를 적용할 수도 있다.
본 발명에 있어서, 본 발명의 사상 및 범위로부터 일탈됨 없이 본 발명에 의거하여 광범위한 상이한 작업 모드가 형성될 수 있음이 명백하다. 본 발명은 첨부된 특허청구의 범위에 의해 한정되지 않는 특정 작업 모드에 의해 제한되지 않는다.
등배의 투영 광학 시스템(PL1~PL5)을 사용하고 있지만 소정의 배율을 갖는 투영 광학 시스템을 사용할 수도 있으며, 굴절 광학 시스템 대신에 반사 광학 시스템을 적용하여도 관계없다. 또한, 시야 조리개의 구멍은 사다리꼴형이지만 본 발명은 이러한 구조에 제한되지 않고 예컨대 육각형의 구멍을 갖는 시야 조리개를 적용할 수도 있다.

Claims (13)

  1. 다수의 조명 광학 시스템의 광빔으로 다수의 투영 광학 시스템을 통해 감광 기판상의 상기 다수의 방사 영역에 상을 투영하도록 마스크상의 다수의 방사 영역에 방사하는 노광 장치에 있어서, 상기 다수의 방사 영역내의 상기 광빔 각각의 세기를 변화 시키는 광 세기 조정 수단을 구비하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광 세기 조정 수단은 일정 세기에서 상기 다수의 방사 영역내의 상기 광빔을 유지하도록 조정하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각에 상기 광빔의 세기를 검출하도록 제공되는 다수의 광 세기 검출수단을 또한 구비하며, 상기 광 세기 조정 수단은 상기 다수의 광 세기 검출 수단에의해 검출되는 상기 광빔의 세기에 따라 일정 세기에서 상기 광빔을 유지하도록 조정하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 다수의 광 세기 검출 수단에 의해 검출된 상기 광빔의 세기의 최저값의 세기는 상기 다수의 광 세기 검출 수단 전체를 상기 최저값을 나타내도록 기준값에 대해 상기 광 속의 세기가 조정되는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템으로부터 방출되는 광빔의 세기를 검출하는 제 2 광 세기 검출 수단을 또한 구비하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 광 세기 조정 수단은 상기 제 2 광 세기 검출 수단의 검출된 결과 및 상기 다수의 광 세기 검출 수단에 의거하여 상기 다수의 광 세기 검출 수단의 검출된 결과를 보정하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 광 세기 조정 수단은 상기 조명 광학 시스템 내부로 조명 광을 감소 시키도록 필터를 삽입하거나 또는 상기 광빔의 세기를 조정하도록 상기 조명 광학 시스템의 광원의 세기를 변경하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 노광 장치는 상기 마스크 및 상기 감광 기판에 주사시키는 주사 형태인 것을 특징으로하는 노광 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 광빔이 일정 세기가 된후 상기 감광 기판상에 노광 량을 최적화하도록 상기 마스크 및 상기 감광 기판간에 주사 속도를 제어하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 다수의 조명 광학 시스템의 각각에 조명 광을 감소시키기위한 광원 또는 필터가 제공되는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  11. 다수의 투영 광학 시스템을 통해 감광 기판상의 상기 다수의 방사 영역에 상을 투영하도록 다수의 조명 광학 시스템의 광빔으로 마스크상에 다수의 방사영역에 방사하는 노광 장치에 있어서, 상기 다수의 조명 광학 시스템 각각에 상기 광빔의 세기를 검출하도록 제공되는 다수의 광 세기 검출 수단과; 상기 다수의 광 세기 검출 수단을 소정 기준값에 대해 교정하는 교정 수단을 구비하는 것을 특징으로하는 노광 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템으로부터 방사되는 광빔의 세기를 검출하는 제 2 광 세기 검출 수단을 또한 구비하며, 상기 제 2 광 세기 검출 수단의 출력은 상기 소정 기준값 인 것을 특징으로하는 노광 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 조명 광학 시스템에 투과율이 다른 다수의 필터가 제공되며, 상기 광 세기 검출 수단의 선형성은 상기 다수의 필터 스위칭에의해 체크되는 것을 특징으로하는 노광 장치.
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