JP4176089B2 - パターン発生器を照明するための照明システムおよび照明方法 - Google Patents
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Description
前記光源から放射された光が前記PDE、前記FDEおよび前記光学システムを通過し、照明スポットを形成し、
該照明スポットはパターン発生器の所望の照明エリアだけに実質的に入射し、かつ前記パターン発生器の不所望エリアからは実質的に離れるように指向されるように構成して解決される。
図5は、本発明の実施例による照明光学系500の素子構成を示す。照明光学系500はシステム100,200,または300のいずれにも使用することができ、またはパターン発生器を照明するために使用される他のいずれのシステムでも使用することができる。照明光学系500は整形され、指向化されたビームを形成するために使用することができる。これにより実質的に所望の照明エリア(例えばレチクルのパターンエリアまたはSLMデバイスのアクティブエリア)だけが照明される。照明光学系500は光学的効率を向上させ、散乱光を低減するために使用することができる。
図6は、本発明の実施例による図5の照明光学系500を通る光路の一部を示す。同様の光路を‘679PPAの光学システム200に形成することができる。
照明システム500(または‘679PPAのシステム200)とパターン発生器602を使用する適用例の1つはマスクレスリソグラフシステム800であり、これを以下に説明する。しかし上に述べたような他のシステムも照明システム500をパターン発生器602の照明のために使用することができる。
Claims (23)
- 光源と、瞳定義素子(PDE)と、フィールド定義素子(FDE)と、光学システムと、複数の所望の照明エリアを含むパターン発生器とを有するシステムにおいて、
前記光源から放射された光が前記PDE、前記FDEおよび前記光学システムを通過し、照明スポットを形成し、
前記FDEは、前記光源から放射された光に対して、前記パターン発生器の照明エリアの数に対応する複数の光ビームを形成し、
前記光学システムは、前記FDEにより形成された複数の光ビームを指向して、実質的に前記パターン発生器の複数の所望の照明エリア上だけにそれぞれ照明スポットを形成し、前記パターン発生器の不所望エリアからは照明スポットが離れるようにする、
ことを特徴とするシステム。 - 請求項1記載のシステムにおいて、前記FDEは前記パターン発生器に対して、前記PDEよりも接近している。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記PDEは前記パターン発生器に対して、前記FDEよりも接近している。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記FDEと前記PDEは屈折デバイスである。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記FDEと前記PDEは回折デバイスである。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記光学システムは、前記FDEに後置された第1の光学エレメントと、前記PDEに後置された第2の光学エレメントを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数の反射性パターン発生デバイスを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数の液晶ディスプレイ(LCD)デバイスを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数のデジタルミラーデバイス(DMD)を有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数のグレーティングライトバルブデバイスを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数のレチクルを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数の透過性パターン発生デバイスを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は1つまたは複数の空間的光変調(SLM)デバイスを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、光源に後置された、光を均一にするエレメントを有する。
- 請求項14記載のシステムにおいて、光を均一にするエレメントは回折エレメントおよび屈折エレメントの1つである。
- 請求項1記載のシステムにおいて、PDEは1つまたは複数のPDEを有する。
- 請求項1記載のシステムにおいて、FDEは1つまたは複数のFDEを有する。
- 複数の所望の照明エリアを含むパターン発生器を照明する方法であって、
光をPDEおよびFDEに通過させ、前記パターン発生器の照明エリアの数に対応する複数の光ビームを形成し、
形成された複数の光ビームを指向して、実質的に前記パターン発生器の複数の所望の照明エリアだけがそれぞれ照明され、前記パターン発生器の不所望エリアは実質的に照明されないようにする、
ことを特徴とする方法。 - 請求項18記載の方法において、前記通過ステップは、前記FDEと前記PDEを使用し前記光ビームとして回折された光を形成するステップを含む。
- 請求項18記載の方法において、所望の照明エリアから反射された光によりサブストレートにパターンを形成する。
- 請求項18記載の方法において、所望の照明エリアを透過した光によりサブストレートにパターンを形成する。
- 請求項18記載の方法において、レチクルまたはコントラストデバイスの1つをパターン発生器として使用する。
- 請求項18記載の方法において、均一ビームプロファイラを使用して光を形成し、該光はPDEとFDEを通過した光と同じ均一のビームプロフィールを有する。
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