JP6086267B2 - 照明光学系、照明方法、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 212
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims description 207
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 159
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 144
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 230000009471 action Effects 0.000 description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 11
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 10
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 208000028333 fixed pupil Diseases 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 208000022749 pupil disease Diseases 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
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Description
前記照明光学系の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記瞳強度分布を補正するために、前記照明瞳の位置またはその近傍の位置、あるいは前記照明瞳と光学的に共役な位置またはその近傍の位置に配置されて、光の入射位置に応じて当該光の射出方向を変化させる補正部とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
3 空間光変調ユニット
4 リレー光学系
5 マイクロフライアイレンズ
7 コンデンサー光学系
8 マスクブラインド
9 結像光学系
10 瞳強度分布計測装置
12,34,35 空間光変調器
31 三角プリズム
32 回折光学素子
33 反射部材
CR 制御部
CM 補正ユニット
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (11)
- 光源からの照明光で被照射面を照明する照明光学系において、
個別に制御される複数の光学要素を有する第1空間光変調器と、
前記第1空間光変調器で変調された光を用いて、前記照明光学系の照明瞳面に瞳強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記照明瞳面内の一部からの第1光を前記照明瞳面内の前記一部とは異なる部分からの第2光と異なる方向に偏向するように、個別に制御される複数の光学要素を有する第2空間光変調器と、
を備える、照明光学系。 - 前記分布形成光学系は、前記照明光の光路を横切る面に二次元的に配置された複数の光学面を備えるオプティカルインテグレータを有する、請求項1に記載の照明光学系。
- 前記第2空間光変調器を経由した照明光の光路に配置された集光光学系を備え、
前記集光光学系は、前記第1光と前記第2光とを前記被照射面上で異なる位置に集光する、請求項1または2に記載の照明光学系。 - 前記被照射面上における第1点に関する瞳強度分布と、前記第1点とは異なる第2点に関する瞳強度分布とを独立に変更するように、前記第2空間光変調器を制御する制御部を備える、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記集光光学系は、
前記異なる方向に偏向した前記第1および第2光を、照明光路を横切る面上の異なる部分に照射する第1光学系と、
前記第1光の一部および第2光の一部を遮光する遮光部と、前記第1光の他部および第2光の他部を通過させる光通過部とを有し、前記照明光路を横切る面に配置される光学部材と、
前記光学部材の光通過部を通過した前記第1光の前記他部および第2光の前記他部を前記被照射面に照射する第2光学系と、を備える、請求項3または4に記載の照明光学系。 - 光源からの照明光を照明瞳面に分布させて瞳強度分布を形成し、前記照明瞳面を経由した照明光で被照射面を照明する照明方法において、
前記照明光を、個別に制御される複数の光学要素を有する第1空間光変調器に照射することと、
前記第1空間光変調器を経由した照明光で前記照明瞳面に瞳強度分布を形成することと、
前記照明瞳面を経由した照明光を、個別に制御される複数の光学要素を有する第2空間光変調器に照射することと、
前記照明瞳面内の一部からの第1光と、前記照明瞳面内の前記一部とは異なる部分からの第2光とを互いに異なる方向に偏向するように、前記第2空間光変調器を制御することと、
を備える、照明方法。 - 前記瞳強度分布を形成することは、前記照明光の光路を横切る面に二次元的に配置された複数の光学面を経由した光で前記瞳強度分布を形成する、請求項6に記載の照明方法。
- 前記第2空間光変調器を経由した照明光を前記被照射面に集光することを含み、
前記集光することは、前記第1光と前記第2光とを前記被照射面上で異なる位置に集光する、請求項6または7に記載の照明方法。 - 前記被照射面上における第1点に関する瞳強度分布と、前記第1点とは異なる第2点に関する瞳強度分布とを独立に変更するように、前記第2空間光変調器を制御することを含む、請求項6乃至8のいずれか1項に記載の照明方法。
- 請求項6乃至9のいずれか1項に記載の照明方法を用いて、所定のパターンを照明することと、
前記所定のパターンを介した光で感光性基板に露光することと;
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと;
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと;
を含む、デバイス製造方法。 - 所定のパターンを照明するための請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光する、露光装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13633808P | 2008-08-28 | 2008-08-28 | |
US61/136,338 | 2008-08-28 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014113676A Division JP5854084B2 (ja) | 2008-08-28 | 2014-06-02 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017014137A Division JP6410115B2 (ja) | 2008-08-28 | 2017-01-30 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016048392A JP2016048392A (ja) | 2016-04-07 |
JP6086267B2 true JP6086267B2 (ja) | 2017-03-01 |
Family
ID=41721278
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010526640A Pending JPWO2010024106A1 (ja) | 2008-08-28 | 2009-08-07 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2014113676A Active JP5854084B2 (ja) | 2008-08-28 | 2014-06-02 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2015236041A Active JP6086267B2 (ja) | 2008-08-28 | 2015-12-02 | 照明光学系、照明方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2017014137A Active JP6410115B2 (ja) | 2008-08-28 | 2017-01-30 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2018178321A Pending JP2018197889A (ja) | 2008-08-28 | 2018-09-25 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010526640A Pending JPWO2010024106A1 (ja) | 2008-08-28 | 2009-08-07 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2014113676A Active JP5854084B2 (ja) | 2008-08-28 | 2014-06-02 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017014137A Active JP6410115B2 (ja) | 2008-08-28 | 2017-01-30 | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2018178321A Pending JP2018197889A (ja) | 2008-08-28 | 2018-09-25 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8913227B2 (ja) |
JP (5) | JPWO2010024106A1 (ja) |
WO (1) | WO2010024106A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5532213B2 (ja) * | 2009-12-07 | 2014-06-25 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
KR101970091B1 (ko) | 2010-02-03 | 2019-08-13 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 장치, 조명 방법, 및 노광 방법 및 장치 |
JP2012004465A (ja) * | 2010-06-19 | 2012-01-05 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
KR101470769B1 (ko) | 2010-08-30 | 2014-12-09 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 시스템 |
KR101813307B1 (ko) | 2011-01-29 | 2017-12-28 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 시스템 |
WO2012169090A1 (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
CN104049465B (zh) * | 2013-03-11 | 2016-06-01 | 上海微电子装备有限公司 | 一种偏振拼接照明系统 |
EP2876498B1 (en) * | 2013-11-22 | 2017-05-24 | Carl Zeiss SMT GmbH | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
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WO2019064503A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 株式会社ニコン | 電子ビーム装置、照明光学系、及びデバイス製造方法 |
JP7054167B2 (ja) * | 2017-11-16 | 2022-04-13 | リバーエレテック株式会社 | 露光装置 |
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---|---|---|---|---|
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-
2009
- 2009-08-07 WO PCT/JP2009/063992 patent/WO2010024106A1/ja active Application Filing
- 2009-08-07 JP JP2010526640A patent/JPWO2010024106A1/ja active Pending
-
2011
- 2011-02-25 US US12/929,944 patent/US8913227B2/en active Active
-
2014
- 2014-06-02 JP JP2014113676A patent/JP5854084B2/ja active Active
-
2015
- 2015-12-02 JP JP2015236041A patent/JP6086267B2/ja active Active
-
2017
- 2017-01-30 JP JP2017014137A patent/JP6410115B2/ja active Active
-
2018
- 2018-09-25 JP JP2018178321A patent/JP2018197889A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110211183A1 (en) | 2011-09-01 |
JP2017083903A (ja) | 2017-05-18 |
US8913227B2 (en) | 2014-12-16 |
JP2016048392A (ja) | 2016-04-07 |
WO2010024106A1 (ja) | 2010-03-04 |
JP5854084B2 (ja) | 2016-02-09 |
JP2014187380A (ja) | 2014-10-02 |
JP6410115B2 (ja) | 2018-10-24 |
JPWO2010024106A1 (ja) | 2012-01-26 |
JP2018197889A (ja) | 2018-12-13 |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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