JP2007537670A - マイクロエレクトロニクスイメージャ用カバー及びマイクロエレクトロニクスイメージャをウェファレベルでパッケージングする方法 - Google Patents
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Abstract
カバーを形成するとともにマイクロエレクトロニクスイメージングユニットに取り付ける方法、マイクロエレクトロニクスイメージャをウェファレベルでパッケージングする方法、イメージセンサを保護するカバーを有するマイクロエレクトロニクスイメージャをここに開示する。一実施の形態において、方法は、複数のカバーを有する第1基板を設け、カバーは、第1基板の領域を具える窓及び窓から突出する絶縁部を有する。方法は、複数のマイクロエレクトロニクスダイを有する第2基板を設けることによって継続し、マイクロエレクトロニクスダイは、イメージセンサと、イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、集積回路に電気的に結合した端子とを有する。方法は、窓を対応するイメージセンサに整列させるとともに、絶縁部が、端子の中心寄りかつイメージセンサの外側寄りの対応するダイにコンタクトするように、対応するダイにカバーを取り付ける。第1基板は、個別のカバーを切り離すように切断され、その後、第2基板は、個別のイメージングユニットを切り離すように切断される。
Description
本発明は、マイクロエレクトロニクス素子及びマイクロエレクトロニクス素子をパッケージングする方法に関する。本発明の複数の態様は、イメージセンサを保護するカバーと、可視光スペクトル又は他のスペクトルの放射に応答するマイクロエレクトロニクスイメージングユニットをウェファレベルでパッケージングする方法に関する。
マイクロエレクトロニクスイメージャは、デジタルカメラ、画像機能を有する無線装置及び他の多数のアプリケーションで用いられている。携帯電話及び情報形態端末(PDA)は、例えば、画像を取得し及び送信するためにマイクロエレクトロニクスイメージャを組み入れる。マイクロエレクトロニクスイメージャの成長速度は、マイクロエレクトロニクスイメージャが更に小型化するとともに更に高い画素数を有する更に良好な画像を生成するに従って堅実に増大している。
マイクロエレクトロニクスイメージャは、電子結合素子(CCD)システム、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)システム又は他のシステムを用いるイメージセンサを有する。CCDイメージセンサは、デジタルカメラ及び他のアプリケーションで広く用いられている。また、CMOSイメージセンサは、低製造コスト、高歩留まり及び小型サイズを有するために非常に人気が出てきている。CMOSイメージセンサは、これらの利益を提供する。その理由は、半導体装置を製造するために開発された技術及び装置を用いてCMOSイメージセンサが製造されるからである。CMOSイメージセンサ及びCCDイメージセンサは、精密な素子を保護するとともに外部との電気的なコンタクトを提供するために「パッケージング」される。
図1は、従来のパッケージを有する従来のマイクロエレクトロニクスイメージャ1の線形断面図である。イメージャ1は、ダイ10と、ダイ10に取り付けられたインターポーザ基板20と、インターポーザ基板20に取り付けられたハウジング30とを有する。ハウジング30は、ダイ10の周辺を包囲し、開口32を有する。イメージャ1は、ダイ10の上の透明カバー40も有する。
ダイ10は、イメージセンサ12と、イメージセンサ12に電気的に結合した複数のボンドパッド12とを有する。インターポーザ基板20を、典型的には絶縁治具とし、絶縁治具は、複数のボンドパッド22と、複数のボールパッド24と、ボンドパッド22を対応するボールパッド24に電気的に結合するトレース26とを有する。ボールパッド24は、イメージャ1をボード又は他の装置のモジュールに装着する表面に対してアレイ配置される。ダイ10のボンドパッド14は、ワイヤボンド28によってインターポーザ基板20上のボンドパッド22に電気的に結合されて、ボンドパッド14とボールパッド24との間に電気的な通路を設ける。
図1に示すイメージャ1は光学ユニットも有し、光学ユニットは、ハウジング30に取り付けられた支持体50と、支持体50に調整可能に取り付けられた胴体60とを有する。支持体50は、内側のねじ山を有することができ、胴体60は、ねじ山52に噛み合う外側のねじ山を有することができる。光学ユニットは、胴体60に支持されたレンズ70を有する。
従来のパッケージングされたマイクロエレクトロニクスイメージャの問題は、イメージャが比較的大きいフットプリントを有するとともに膨大な量の垂直方向のスペースを占有する(すなわち、高プロファイル)ことである。例えば、図1のイメージャ1のフットプリントは、ダイ10の表面領域より著しく大きいインターポーザ基板20の底部の表面領域となる。したがって、従来のパッケージングされたマイクロエレクトロニクスイメージャのフットプリントは、画像付携帯電話又はPDAの設計及び取引可能性において制限要因となりうる。その理由は、携帯性を向上するためにこれらの装置が小型化されつつあるからである。したがって、更に小さいフットプリント及び更に低い垂直プロファイルを有するマイクロエレクトロニクスイメージャを提供する必要がある。
図1に示す従来のイメージャ1の更に別の問題は、水分及び/又は他の汚染物質がイメージャ1の性能を損ないうることである。例えば、ダイ10は、ハウジング30及びカバー40がイメージセンサ12の上に配置される前に切り離される(singulate)。したがって、ダイ10の上のイメージセンサ12は、切断工程中に発生した小さい粒子によって損傷されることがある。保護されていないイメージセンサは、他の処理工程中に粒子又は水分によって損傷されることもある。したがって、イメージャの組立及びパッケージング中にイメージセンサを保護する必要がある。
従来のマイクロエレクトロニクスイメージャの他の問題は、ダイをパッケージングするためのコストを減少するための駆動である。図1に示すハウジング30は、形成及び装着に比較的高価なものとなる。その理由は、カバー40を開口32に適切に整列し及び装着する必要があるとともに、ハウジング30をインターポーザ基板20に配置し及び装着する必要があるからである。この処理には誤差が課され、一般的には時間を消費する。したがって、マイクロエレクトロニクスイメージャのパッケージングの効率、信頼性及び精度を増大することが非常に必要とされている。
A.概観
以下の開示は、カバーを形成し及びカバーをマイクロエレクトロニクスイメージングユニットに取り付ける方法、マイクロエレクトロニクスイメージャをウェファレベルでパッケージングする方法、並びにイメージセンサを保護するカバーを有するマイクロエレクトロニクスイメージャの複数の例を記載する。本発明の複数の例は、パッケージング工程中に迅速にカバーをイメージングユニットに取り付けて、次の組立及びパッケージング手順中にイメージセンサを保護する。マイクロエレクトロニクスイメージングユニット用カバー及びそのようなカバーをマイクロエレクトロニクスイメージングセンサに取り付ける方法の複数の例は、イメージングユニットの組立コストを大幅に減少するとともに従来の装置よりも強固なマイクロエレクトロニクスイメージャを製造することが予測される。さらに、カバーを、ウェファレベルで形成し及び装着することができ、これによって、マイクロエレクトロニクスイメージャの製造効率が著しく増大することが予測される。その理由は、半導体装置を製造するために開発された非常に正確かつ効率的な肯定を用いて複数のイメージングユニットを同時にパッケージングできるからである。
以下の開示は、カバーを形成し及びカバーをマイクロエレクトロニクスイメージングユニットに取り付ける方法、マイクロエレクトロニクスイメージャをウェファレベルでパッケージングする方法、並びにイメージセンサを保護するカバーを有するマイクロエレクトロニクスイメージャの複数の例を記載する。本発明の複数の例は、パッケージング工程中に迅速にカバーをイメージングユニットに取り付けて、次の組立及びパッケージング手順中にイメージセンサを保護する。マイクロエレクトロニクスイメージングユニット用カバー及びそのようなカバーをマイクロエレクトロニクスイメージングセンサに取り付ける方法の複数の例は、イメージングユニットの組立コストを大幅に減少するとともに従来の装置よりも強固なマイクロエレクトロニクスイメージャを製造することが予測される。さらに、カバーを、ウェファレベルで形成し及び装着することができ、これによって、マイクロエレクトロニクスイメージャの製造効率が著しく増大することが予測される。その理由は、半導体装置を製造するために開発された非常に正確かつ効率的な肯定を用いて複数のイメージングユニットを同時にパッケージングできるからである。
本発明の一態様は、マイクロエレクトロニクスイメージングユニットで用いられる複数のカバーを形成するウェファレベルの工程に関する。そのような方法の一例は、放射に対して透過性がある第1基板及び第1基板にある複数のカバーを有するカバーワークピースを設ける。カバーは、第1基板の領域を具える窓と、窓から突出する絶縁部とを有する。方法は、複数のマイクロエレクトロニクスダイを有する第2基板を有するマイクロエレクトロニクスワークピースを更に設ける。ダイは、イメージセンサと、イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、対応する集積回路に電気的に結合した複数の端子(例えば、ボンドパッド)とを有する。方法は、対応するイメージセンサが絶縁コンタクトに整列するとともに絶縁部が端子の中央寄りかつイメージセンサの外側寄りの対応するダイにコンタクトするように対応するダイを用いてカバーを組み立てることによって継続する。第1基板は、個別のカバーを切り離すように切断される。第1基板を切断した後、第2基板は、個別のイメージングユニットを切り離すように切断される。
本発明の他の態様は、パッケージングされ又はマイクロエレクトロニクスイメージングユニットのウェファレベルのパッケージングに用いられるマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリに関する。本発明によるマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリは、カバーワークピース及びマイクロ形態のワークピース(microfeature workpiece)を具える。カバーワークピースは、所望の放射に対して透過性があるとともに複数のカバーを有する第1基板を有する。個別のカバーは、窓と、窓から突出する絶縁部とを有する。マイクロ形態のワークピースは、複数のマイクロエレクトロニクスダイを有する第2基板を有する。個別のダイは、イメージセンサと、イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、集積回路に電気的に結合した複数の端子(例えば、ボンドパッド)とを有する。第1及び第2基板を、(a)窓が対応するイメージセンサに整列し、(b)個別のカバーの絶縁部が個別のイメージセンサと個別のイメージセンサに対応する端子との間に存在するように互いに結合し、絶縁部が端子を完全にカバーしないようにする。
本発明の複数例の詳細を、これらの例を十分に理解するためにCMOSイメージャを参照して以下説明するが、他の例をCCDイメージャ又は他のタイプのイメージャとすることができる。マイクロエレクトロニクス装置にしばしば関連する周知の構造を説明する複数の詳細は、開示した例の説明を不必要に不明確にするのを回避するために以下では説明しない。さらに、以下の開示が本発明の種々の態様の複数の例を説明するが、本発明の他の複数の例は、ここで説明したのと異なる形態又は異なる構成要素を有することができる。したがって、本発明が他の素子を有し又は図2A〜7を参照して以下に示し又は説明する複数の素子を有しない他の例を有することができることを理解すべきである。
B.マイクロエレクトロニクスイメージャで用いられるイメージングユニットの製造
図2A〜3Cは、本発明の一実施の形態によるイメージングユニットで用いられるカバーを製造し及び取り付ける方法の段階を示す線形断面図である。図2Aは、特に、第1の側204及び第1の側204とは逆の第2の側206を有する第1基板202を有するカバーワークピース200の線形断面図である。第1基板202は、第1基板202において個別のカバーが構成される複数の個別の装置位置210を更に有する。装置位置210は、基板202上で所望のアレイで配置される。装置位置210の境界を、個別のカバーを互いに切り離すために第1基板202を切断することができるラインA−Aに沿って切断することによって規定することができる。
図2A〜3Cは、本発明の一実施の形態によるイメージングユニットで用いられるカバーを製造し及び取り付ける方法の段階を示す線形断面図である。図2Aは、特に、第1の側204及び第1の側204とは逆の第2の側206を有する第1基板202を有するカバーワークピース200の線形断面図である。第1基板202は、第1基板202において個別のカバーが構成される複数の個別の装置位置210を更に有する。装置位置210は、基板202上で所望のアレイで配置される。装置位置210の境界を、個別のカバーを互いに切り離すために第1基板202を切断することができるラインA−Aに沿って切断することによって規定することができる。
第1基板202は、所望の放射スペクトルに対して透過性がある。例えば、イメージングダイがデジタルカメラで使用されるとき、第1基板202は、可視スペクトルの光に対して透過性がある。しかしながら、第1基板202は、イメージングダイの特定のアプリケーションに応じて紫外(UV)光、赤外放射(IR)及び/又は他の任意の適切なスペクトルに対して透過性とすることができる。第1基板202を、ガラス、水晶、プラスチック及び/又は他の適切な材料によって構成することができる。可視スペクトルのイメージング照射に関する実施の形態において、第1基板202は、UV,IR又は他の不所望なスペクトルの放射を濾波するフィルムを有することもできる。第1基板202は、例えば、IR若しくは近IRスペクトルを濾波する材料で構成され、又はIR若しくは近IRスペクトルを濾波するコーティングを有することができ、第1基板202は反射防止コーティングを有することができる。
図2Bは、第1基板202に複数のカバー220を形成した後のカバーワークピース200の線形断面図である。第1基板202は、典型的には、各装置位置210にカバー220を有する。カバー220を、半導体製造技術で用いられる効率的かつ高精度の工程を用いて互いに形成することができる。一実施の形態において、第1基板202の第1位置204上にレジストの層(図示せず)をパターニングするともに、第1基板202をエッチングして、絶縁部222と、絶縁部222巻に第1基板202の領域を具える複数の窓226とを形成することによって、カバー220を形成する。各装置位置210の窓226及び絶縁部222は、イメージセンサを包囲するように形成される。等方性エッチングを用いて第1基板202にカバー220を形成するが、他の実施の形態において、異方性エッチング及び/又は他の堆積技術を用いてカバー220を形成することができる。
図3Aは、マイクロエレクトロニクスイメージングユニットのウェファレベルのパッケージングを行うために互いに整列したマイクロ形態のワークピース230及びカバーワークピース200(図2B)を有するイメージングユニットアッセンブリ300の一部を示す線形断面図である。マイクロ形態のワークピース230は、第2基板232を有し、第2基板232は、第1の側234と、第1の側234とは逆の第2の側236と、第2基板232に形成された複数のマイクロエレクトロニクスダイ250とを有する。ダイ250は、第2基板232上にアレイ配置され、第1基板202上のカバー220は、ダイ250配置に対応するアレイで配置される。個別のダイ250は、(線形的に示す)集積回路252と、集積回路252と作動的に結合したイメージセンサ254と、集積回路252に電気的に結合した複数の端子256(例えば、ボンドパッド)とを有することができる。イメージセンサ254を、画像又は可視スペクトルの他のイメージを取得するCMOS又はCCDイメージセンサとすることができる。他の実施の形態において、イメージセンサ254は、他のスペクトル(例えば、IR又はUV範囲)の放射を検出することができる。
図3Bは、第1基板202を第2基板232に取り付けた後のイメージングユニットアッセンブリ300の線形断面図である。第1基板202は、端子256の中央寄りかつイメージセンサ254の外側寄りにある個別のカバー220の絶縁部222を対応するダイ250に配置することによって、第2基板232に組み込むことができる。更に詳しくは、各絶縁部232は、端子256と端子256の少なくとも一部が露出するように特定のイメージセンサ254が作動的に結合した端子256との間の装着領域“Z”で第2基板232にコンタクトすることができる。個別のカバー220の窓226を、対応するイメージセンサ254の上に配置して、各絶縁部222及び窓226が凹部224のイメージセンサ254を包囲するようにする。ウィンドウ226は、包囲されたセル260を形成するためにギャップGによってイメージセンサ254から離間される。セル260を、イメージセンサ254とウィンドウ256との間で仮想的な空所となるように真空に封止された空間とすることができる。セル260を、特定の放射に対して適切な透過性がある希ガスを充填することもできる。絶縁部222の末端を、接着剤(例えば、SU−8又はベンゾシクロブテン)又はSiO2溶融接合のような半導体製造技術で知られているウェファレベルの接合工程を用いて第2基板232に取り付けることができる。
既に説明したようにして第1基板202を第2基板232に取り付けた後、個別のカバー220を切り離すとともに各ダイ250上の端子256を露出するために、基板202をラインA−Aに沿って切断する。第1基板202は、下に存在する端子256又は第2基板232に接触することなく切断ブレードを用いてラインA−Aに沿って切断される。第1基板202は一般に、まとめて配置されたブレード対270を用いて切断されるが、ラインA−Aに沿って第1基板202を切断するために他の方法を用いることができる(例えば、レーザ)。
次に図3Cを参照すると、個別のマイクロエレクトロニクスイメージングユニット280を互いに切り離すために、第2基板232がラインB−Bに沿って切断される。その後、個別のマイクロエレクトロニクスイメージングユニット280は、図6及び7を参照して後に説明するように他のパッケージングステップを経ることができる。
図2A〜3Cに関連して説明したマイクロエレクトロニクスイメージングユニットを製造する複数の実施の形態の利点は、第2基板232の切り離し又は次のパッケージング手順に進む前にイメージセンサ254が封止セル260内で保護されることである。例えば、カバー220は、第1又は第2基板202又は232を切断する間に個別のダイ250上のイメージセンサ254を流体又は粒子から保護する。単一の小さい粒子は、デジタルカメラや画像付携帯電話のようなハイエンドアプリケーションのイメージセンサ254を破壊することがある。しかしながら、個別のダイ250を切り離す前にウェファレベルでカバー220を取り付けることによって、個別のダイ250上のイメージセンサ254は、切り離し工程中に保護される。さらに、個別のダイ250上のイメージセンサ254は、ワイヤボンディング及び/又はカプセル化(encapsulation)のような次のパッケージング及び組立工程中にも保護される。
上記イメージングユニット280の製造工程の他の利点は、個別のダイ250の上のカバー220を支持する他のスペーサ又は支持部材を必要としないことである。絶縁部222は、個別のカバー220と一体の構成要素であり、ダイ250の対応するイメージセンサ254上に各カバー220を正確に配置するよう個別のダイ250に取り付けられる。これは有効な製造工程である。その理由は、ダイ250の上にスペーサ素子を構成し、そのようなスペーサに個別のカバー窓を装着し又は個別のハウジングをインターポーザ基板に装着する他のステップ又は工程を必要としないからである。さらに、カバー220の上の絶縁部222は、イメージセンサ254に対するカバー220の絶縁部距離を非常に正確に制御する。
図4A及び4Bは、本発明の他の実施の形態によるマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法の段階を示す。第1基板202は、先ず、図2A,2Bを参照して示し及び説明したように処理される。図4Aは、図3Aに示すようなマイクロ形態のワークピース230との仮想的な整列において図2Bに示したカバーワークピース200の線形断面図である。しかしながら、図3A〜3Cで説明した工程と異なり、第1基板202は、カバー220をマイクロ形態のワークピース230に取り付ける前に個別のカバー220を切り離すよう切断される。したがって、第1基板202は、カバー220をイメージセンサ254に整列する前に個別のカバー220を切り離すようラインC−Cに沿って切断される。
次に図4Bを参照すると、個別のカバー220は、対応するイメージセンサ254に整列するとともに第2基板232に取り付けられる。窓226は、個別のダイ250上のイメージセンサ254の一つに対して所望の位置に個別に設けられる。個別のカバー220を対応するダイ250に取り付けた後、第2基板232は、図3Cに示すように複数のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットを構成するようラインD−Dに沿って切断される。本実施の形態の利点は、カバー220を個別のダイ250に取り付ける前にノウン・グッド・ダイ250を決定するようテストできることである。したがって、良好なカバーの浪費を回避するためにカバー220をノウン・グッド・ダイ250のみに取り付けることができる。
図5は、本発明の他の実施の形態によるカバーワークピース500を示す断面図である。カバーワークピース500は、第1の側504及び第1の側504とは逆の第2の側506を有する第1基板502を有する。カバーワークピース500は、個別のカバーが第1基板502上に構成される複数の個別の装置位置510も有する。装置位置510の境界を、個別のカバーを互いに切り離すよう第1基板502を切断することができるラインE−Eを切断することによって規定することができる。第1基板502は、少なくとも一般的に図2Aを参照して説明した第1基板202と同様である。
第1基板502は、第1基板502の一方の側(例えば、第1の側504)上の複数の絶縁部522も有する。絶縁部522を第1基板502と同一材料で構成することができるが、絶縁部522は、一般に異なる材料で構成される。例えば、第1基板502を水晶とすることができ、絶縁部522をエポキシ又は他のポリマーとすることができる。絶縁部522は、マイクロ形態のワークピース230上のイメージセンサ254及び端子256(図3A)のパターンに対応するパターンで個別の装置位置510で第1基板502から突出する。絶縁部522は、各装置位置510で凹部524を形成し、絶縁部522間の第1基板502の領域は窓526となる。
絶縁部522を、スクリーン印刷工程、3次元ステレオリソグラフィー又は他の配置技術を用いて第1基板502上に形成することができる。更に別の実施の形態において、材料を基板上に成形し又は予め形成された絶縁部を基板に取り付けることによって、絶縁部522が第1基板502上に形成される。複数の絶縁部522が第1基板502上に形成された後、カバーワークピース500を、図3B又は4Bに示すように絶縁部522を第2基板232に取り付ける前後にラインE−Eに沿って切断することができる。
図2A〜5及び関連の文脈は、マイクロエレクロトニクスイメージャで使用するカバー及びイメージングユニットの製造の複数の実施の形態を記載する。しかしながら、カバー及び/又はイメージングユニットを、他の方法を用いて形成することができ、これらが他の形態を有することができる。したがって、本発明は、これまで説明した特定の方法及び/又は構造に限定されるものではなく、カバー及びイメージングユニットを製造する他の方法も含む。
C.マイクロエレクトロニクスイメージャのパッケージング
図6及び7は、既に説明したようなカバーを有するイメージングユニットを用いるマイクロエレクトロニクスイメージャをパッケージングする方法の他の実施の形態を示す。以下の実施の形態が単一のマイクロエレクトロニクスイメージャのみのパッケージングを示すが、複数のイメージャをウェファレベルで同時にパッケージングできることは明らかである。
図6及び7は、既に説明したようなカバーを有するイメージングユニットを用いるマイクロエレクトロニクスイメージャをパッケージングする方法の他の実施の形態を示す。以下の実施の形態が単一のマイクロエレクトロニクスイメージャのみのパッケージングを示すが、複数のイメージャをウェファレベルで同時にパッケージングできることは明らかである。
図6は、本発明によるパッケージングされたマイクロエレクトロニクスイメージャ600の線形断面図である。図示した実施の形態のイメージャ600は、図3Cに関連して説明したカバー220及びマイクロエレクトロニクスダイ650を有するイメージングユニット680を具える。図3C及び6において、同様な参照番号は同様な構成要素を表す。ダイ650は、前面610及び後面611を有する。ダイ650は、(線形的に示す)集積回路652と、集積回路652に動作的に結合したイメージセンサ654と、集積回路652と電気的に結合した端子656(例えば、ボンドパッド)のアレイとを更に有する。
ダイ650が複数の導電相互接続部657を有し、各導電相互接続部657が、対応する端子656に電気的に結合した第1部分と、ダイ650の第2の側611の上の対応するボールパッド658に電気的に結合した第2部分とを有するという点で、ダイ650は、図3Cに示すダイ250と異なる。図6に示す実施の形態において、相互接続部657は、ダイ650を通じて第1の側650から第2の側611まで完全に延在するウェファを通過する相互接続部となる。また、他のダイは、ウェファを通過するタイプの相互接続部657を有しなくてもよい。相互接続部657を、参照することによってここに組み込む2003年11月13日に出願された発明の名称”Microelectronic Devices, Methods for Forming Vias in Microelectronic Devices, and Methods for Packing Microelectronic Devices”の米国特許出願番号第10/713,878号(Perkins Coieの整理番号108298742US)に開示されたプロセスに従って形成することができる。相互接続部657を、ダイ650を切り離す(図3C)前後にダイ650に形成することができる。ボールパッド658は、ダイ650の第2の側611に形成され、(図示しない)はんだボール又は他の導電素子を受け入れるように構成される。他の実施の形態において、イメージャ600は、ボールパッド658及び/又ははんだボールを有しなくてもよい。
図6に示す実施の形態の他の態様において、イメージャ600は、カバー220に取り付けられるとともにイメージセンサ654に整列した光学ユニット690を更に有することができる。光学ユニット690は、少なくとも所望のスペクトルの放射をイメージセンサ654に送出するプレート692及びプレート692上の光学部材694を有することができる。光学部材694を、光を収束するレンズ、高次の屈折を減少するピンホール及び/又は他の機能を実行する光学構造とすることができる。
プレート692及び光学部材694は、イメージセンサ654に対して光学部材694を所望の位置に正確に配置する支持部材696によって支持される。対応するインターフェース形態を有する適切な指示部材696は、参照することによってここに組み込む2003年11月26日に出願された発明の名称”Packaged Microelectronic Imagers, Methods of Packaging Microelectronic Imager”の米国特許出願番号第10/723,363号(Perkins Coieの整理番号108298746US)に開示されている。プレート692は、図6に示す実施の形態において支持部材696に取り付けられるが、光学ユニット690の他の実施の形態は、光学部材694を直接指示部材696に取り付けるようなプレートを有しなくてもよい。
図6に示すイメージャ600の利点は、イメージャ600を図1の従来のイメージャに比べて著しく小さくできることである。ダイが個別のインターポーザ基板に装着されないので、イメージャ600のフットプリントをダイ650のサイズまで小さくすることができる。これは可能である。その理由は、相互接続部657がダイ650の第1の側610の上のワイヤボンドを用いる代わりにダイ650の第2の側611の上のボールパッド658のアレイに対する電気的な接続を提供するからである。イメージャ600の高さは、従来のイメージャの高さより低くなる。その理由は、イメージャ600がインターポーザ基板を用いることなくモジュール又はボードに直接装着することができるからである。したがって、イメージャは、従来のマイクロエレクトロニクスイメージャより小さいフットプリント及び低いプロファイルを有することが予測され、このことは、スペースが制約される画像付携帯電話、PDA又は他のアプリケーションに特に有利である。
図6に示すイメージャ600の他の利点は、イメージャ600をダイ650の背面611から検査できる点である。テストプローブは、イメージャ600を検査するためにダイ650の背面611にコンタクトすることができる。その理由は、ウェファを通過する相互接続部657が背面への電気的なコンタクト(例えば、ボールパッド658)を提供するからである。したがって、テストプローブは、ダイ650の背面611のコンタクト部に合わさるので、テストプローブは、イメージセンサ654、光学ユニット690又はダイ650の前面上の関連の回路を損傷しない。さらに、テストプローブは背面検査中にイメージセンサ654をふさがないので、テストプローブは、イメージングダイを前面から検査するプロセスに比べてイメージャを簡単に検査することができる。さらに、イメージセンサ654及び/又は光学ユニット690が検査中に損傷されない環境においてマイクロエレクトロニクスイメージャ600を検査するのに有利である。
図7は、本発明の他の実施の形態によるパッケージングされたマイクロエレクトロニクスイメージャ700の線形断面図である。図示した実施の形態のイメージャ700は、図3Cに関連して説明したイメージングユニット280と、図6に関連して説明した光学ユニット690と、インターポーザ基板702とを有することができる。したがって、図3C,6及び7において、同様な参照番号は同様な構成要素を表す。インターポーザ基板702は、複数のコンタクト部766を有する第1の側704と、複数のパッド768を有する第2の側706とを有する。インターポーザ基板702は、個別のコンタクト部766を対応するパッド768に電気的に結合する複数のトレース767を更に有する。コンタクト部766を、ダイ250上の対応する端子256に取り付けるためにアレイ配置することができ、パッド768を、複数の電気的な結合器(例えば、はんだボール)に取り付けるためにアレイ配置することができる。
イメージングユニット280を、接着フィルム、エポキシ又は他の適切な材料によってインターポーザ基板702に取り付けることができる。イメージングユニット280をインターポーザ基板702に取り付けた後、ダイ250をインターポーザ基板702に電気的に結合するために複数のワイヤボンド722を形成する。イメージャ700は、カバー220に取り付けられるとともにイメージセンサ254に整列した光学ユニット690を更に有することができる。
これまで説明したように、本発明の特定の実施の形態を、説明のために記載したが、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形を行うことができる。例えば、マイクロエレクトロニクスイメージングユニット及びマイクロエレクトロニクスイメージャは、図2A〜7を参照して説明した形態の任意の組合せを有することができる。したがって、本発明は、添付した請求の範囲によって制約されるものではない。
Claims (80)
- 放射に対する透過性があるとともに複数のカバーを有する第1基板を含むカバーワークピースを設け、前記カバーが、前記第1基板の領域を具える窓及び前記窓から突出する絶縁部を有し、
複数のマイクロエレクトロニクスダイを有する第2基板を含むマイクロ形態のワークピースを設け、前記ダイが、イメージセンサと、対応するイメージセンサに電気的に結合した集積回路と、対応する集積回路に電気的に結合した端子とを有し、
前記窓を対応するイメージセンサに整列するとともに、前記絶縁部が、前記端子の中央寄りかつ前記イメージセンサの外側寄りの対応するコンタクトするように、前記カバーを前記対応するダイに組み込むことを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法。 - 前記カバーを前記対応するダイに組み込んだ後及び個別のダイに切り離すよう前記第2の基板を切断する前に、個別のカバーを切り離すよう前記第1基板を切断することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記カバーを前記対応するダイに組み入れる前に、前記カバーを切り離すよう前記第1基板を切断し、
個別のカバーを前記対応するダイに取り付け、
取り付けたカバーを有する個別のダイを切り離すよう前記第2基板を切断することを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板をエッチングして前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項4記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と同一材料から形成することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と異なる材料から形成することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板上で材料をスクリーン印刷することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板上で材料を成形することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、3次元ステレオリソグラフィーを用いて前記第1基板上に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記窓及び前記絶縁部が装置パターンで配置されるように前記第1基板に前記窓及び前記絶縁部を形成し、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記イメージセンサを、前記第2基板上にダイパターンで配置し、前記装置パターンが、一般に前記大パターンに対応することを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 前記複数のカバーを設ける際に、装置パターンで配置された絶縁部を形成するために前記第1基板で複数の凹部にエッチングし、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記第2基板上に前記イメージセンサをダイパターンで配置し、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 前記第1基板を設ける際に、可視スペクトルの光に対して透過性のあるウェファを設けることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記第1基板を設ける際に、水晶ウェファを設けることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 光学部材を有する複数の光学ユニットを設け、
取り付けられたカバーを有するダイを切り離す前後に前記光学素子を前記対応するダイに組み込み、前記光学ユニットの光学部材を、対応するダイのイメージセンサに対して所望の位置に配置することを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 放射に対する透過性があるとともに複数のカバーを有する第1基板を含むカバーワークピースを設け、前記カバーが、前記第1基板の領域を具える窓及び前記窓から突出する絶縁部を有し、
複数のマイクロエレクトロニクスダイを有する第2基板を含むマイクロ形態のワークピースを設け、前記ダイが、イメージセンサと、対応するイメージセンサに電気的に結合した集積回路と、対応する集積回路に電気的に結合した端子とを有し、
前記窓を前記対応するイメージセンサに整列するとともに、前記対応する端子の中央寄りかつ前記対応するイメージセンサの外側寄りの位置で前記絶縁部を前記ダイに取り付けることによって、前記カバーワークピースを前記マイクロ形態のワークピースに取り付け、
個別のカバーを切り離すとともに前記ダイ上の前記端子の少なくとも一部を露出するよう前記第1基板を切断し、
個別のダイを切り離すよう前記第2基板を切断することを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法。 - 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板をエッチングして前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを形成する際に、前記第1基板に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と同一材料から形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と異なる材料から形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板上で材料をスクリーン印刷することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板上で材料を成形することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、3次元ステレオリソグラフィーを用いて前記第1基板上に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記窓及び前記絶縁部が装置パターンで配置されるように前記第1基板に前記窓及び前記絶縁部を形成し、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記イメージセンサを、前記第2基板上にダイパターンで配置し、前記装置パターンが、一般に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項16記載の製造方法。 - 前記複数のカバーを設ける際に、装置パターンで配置された絶縁部を形成するために前記第1基板で複数の凹部にエッチングし、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記第2基板上に前記イメージセンサをダイパターンで配置し、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項16記載の製造方法。 - 前記第1基板を設ける際に、可視スペクトルの光に対して透過性のあるウェファを設けることを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 前記第1基板を設ける際に、水晶ウェファを設けることを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 第1基板を用いて複数のカバーを形成し、個別のカバーが、窓と、前記窓から突出する絶縁部と、前記絶縁部内の凹部とを有し、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを有する第2基板を含むマイクロ形態のワークピースを設け、個別のダイが、イメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、前記集積回路に電気的に結合した端子とを有し、
前記個別のカバーを互いに切り離すよう前記第1基板を切断し、
前記窓を前記対応するイメージセンサに整列するとともに、前記絶縁部が前記端子の少なくとも一部をカバーしないように前記端子と前記イメージセンサとの間の位置で前記絶縁部を前記ダイに取り付けることによって、前記個別のカバーを前記対応するダイに取り付け、
前記個別のダイを互いに切り離すよう前記第2基板を切断することを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法。 - 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板をエッチングして前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項28記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項28記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と同一材料から形成することを特徴とする請求項28記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と異なる材料から形成することを特徴とする請求項28記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、装置パターンで配置された絶縁部を形成するために前記第1基板で複数の凹部にエッチングし、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記第2基板上に前記イメージセンサをダイパターンで配置し、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項28記載の製造方法。 - 放射に対して透過性がある第1基板を用いて複数のカバーを形成し、
第2基板を用いて複数のマイクロエレクトロニクスダイを形成し、個別のダイが、イメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、前記集積回路に電気的に結合した端子とを有し、
前記窓を前記第2基板上の対応するイメージセンサに離間した関係で整列するとともに、前記絶縁部が前記イメージセンサと前記対応する端子との間の対応するダイにコンタクトするように、前記第1基板を前記第2基板に組み込むことを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法。 - 前記個別のカバーを切り離すとともに前記対応する端子の少なくとも一部を露出するように前記第1基板を切断し、
取り付けられたカバーを有する個別のダイを切り離すように前記第2基板を切断することを特徴とする請求項34記載の製造方法。 - 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板をエッチングして前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項34記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項34記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と同一材料から形成することを特徴とする請求項34記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と異なる材料から形成することを特徴とする請求項34記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、一般的に装置パターンで配置された絶縁部を形成するために前記第1基板で複数の凹部にエッチングし、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記第2基板上に前記イメージセンサをダイパターンで配置し、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項34記載の製造方法。 - 予め製造された複数のカバーを第1基板上に設け、前記カバーが、窓と、前記窓から突出する絶縁部と、前記窓及び絶縁部によって規定されたキャビティとを有し、
前面及び背面を有する第2基板によって支持された複数のマイクロエレクトロニクスダイを設け、個別のダイが、前記前面のイメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、前記前面にあるとともに前記イメージセンサに作動的に結合した複数の端子と、前記イメージセンサと前記端子との間の装着ゾーンとを有し、
複数のカバーを対応する複数のイメージングダイに組み込んで、前記絶縁部が対応するイメージングダイの装着ゾーンに存在するとともに前記端子の少なくとも一部が露出されるようにすることを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法。 - 前記カバーを前記対応するダイに組み込んだ後に前記個別のカバーを切り離すよう前記第1基板を切断し、
前記第1基板を切断した後に前記個別のダイを切り離すよう前記第2基板を切断することを特徴とする請求項41記載の製造方法。 - 前記カバーを前記対応するダイに組み込む前に前記個別のカバーを切り離すよう前記第1基板を切断し、
切り離されたカバーを前記対応するダイに組み込んだ後に前記個別のカバーを切り離すよう前記第2基板を切断することを特徴とする請求項41記載の製造方法。 - 予め製造された複数のカバーを設ける際に、前記第1基板をエッチングして前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項41記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項41記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と同一材料から形成することを特徴とする請求項41記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と異なる材料から形成することを特徴とする請求項41記載の製造方法。
- 前記予め製造された複数のカバーを設ける際に、装置パターンで配置された絶縁部を形成するために前記第1基板でキャビティにエッチングし、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを前記第2基板に設ける際に、前記第2基板上に前記イメージセンサをダイパターンで配置し、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項41記載の製造方法。 - 予め製造された複数のカバーを第1基板上に設け、前記カバーが、窓と、前記窓から突出する絶縁部と、前記窓及び絶縁部によって規定されたキャビティとを有し、
前面及び背面を有する第2基板によって支持された複数のマイクロエレクトロニクスイメージングダイを設け、個別のダイが、前記前面のイメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、前記前面にあるとともに前記イメージセンサに作動的に結合した複数の端子と、前記イメージセンサと前記端子との間の装着ゾーンとを有し、
複数のカバーを対応する複数のイメージングダイに少なくともほぼ同時に組み込んで、前記絶縁部が対応するイメージングダイの装着ゾーンに存在するようにすることを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットの製造方法。 - 予め製造された複数のカバーを設ける際に、前記第1基板をエッチングして前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項49記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記第1基板に材料を堆積することによって前記絶縁部を形成することを特徴とする請求項49記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と同一材料から形成することを特徴とする請求項49記載の製造方法。
- 前記複数のカバーを設ける際に、前記絶縁部を前記第1基板と異なる材料から形成することを特徴とする請求項49記載の製造方法。
- 前記予め製造された複数のカバーを設ける際に、装置パターンで配置された絶縁部を形成するために前記第1基板でキャビティにエッチングし、
前記複数のマイクロエレクトロニクスダイを設ける際に、前記第2基板の前面上に前記イメージセンサをダイパターンで配置し、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項49記載の製造方法。 - 前記複数のカバーを、対応する複数のイメージングダイに設ける際に、前記第1基板を、ウェファ間関係で前記第2基板に組み込むことを特徴とする請求項49記載の製造方法。
- 複数のカバーを有する第1基板を有し、前記第1基板が、放射に対して透過性があり、個別のカバーが、窓及び前記窓から突出する絶縁部を有する、カバーワークピースと、
複数のマイクロ形態のダイを有する第2基板を有し、個別のダイが、イメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、前記集積回路に電気的に結合した複数の端子とを有し、前記窓が対応するイメージングセンサに整列されるとともに前記絶縁部が対応するイメージセンサの外側寄りかつ対応する端子の内側寄りのダイにコンタクトするように、前記第1及び第2基板を互いに結合して、前記絶縁部が前記端末を完全にカバーしないようにした、マイクロ形態のワークピースとを具えることを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記窓が、離間した関係で前記イメージセンサの上に存在し、前記窓と前記対応するイメージングセンサとの間のスペースが、包囲された空所セルを規定することを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。
- 前記窓が、離間した関係で前記イメージセンサの上に存在し、前記窓と前記対応するイメージングセンサとの間のスペースが、前記窓と前記イメージセンサとの間で仮想的に空になるように真空にした包囲された空所セルを規定することを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。
- 前記窓が、離間した関係で前記イメージセンサの上に存在し、前記窓と前記対応するイメージングセンサとの間のスペースが、所望の透過性を有する希ガスを充填した包囲された空所セルを規定することを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。
- 前記第1基板が、装置パターンの複数の別個の装置位置を有し、各装置位置にカバーが形成され、
前記ダイが、前記第2基板上にダイパターンで配置され、前記装置パターンが一般的に前記ダイパターンに対応することを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。 - 前記カバーを、各々が前記絶縁部を形成するために前記第1基板をエッチングした凹部を有する個別の素子としたことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。
- 前記カバーを、前記第1基板に材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子としたことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。
- 前記第1基板が、可視スペクトルの光に対して透過性をもつウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成した絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと同一材料で形成したことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。 - 前記第1基板が、可視スペクトルの光に対して透過性をもつウェファを具え、
前記カバーを、それぞれが前記ウェファに材料を堆積することによって形成した絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと異なる材料で形成したことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。 - 前記第1基板が水晶ウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成した絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと同一材料で形成したことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。 - 前記第1基板が水晶ウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成した絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと異なる材料で形成したことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。 - 光学部材を有する複数の光学ユニットを有する光学ユニットアッセンブリを更に具え、個別の光学部材が前記対応するイメージセンサに対して所望の位置に存在するように、個別の光学ユニットを、対応するカバーに取り付けたことを特徴とする請求項56記載のマイクロエレクトロニクスイメージングアッセンブリ。
- 放射に対する透過性があり、装置パターンで配置された複数の個別の装置位置を有し、各装置位置にカバーを有し、個別のカバーが窓及び前記窓から突出する絶縁部を有する第1基板と、
一般的に前記装置パターンに対応するダイパターンで配置された複数のマイクロエレクトロニクスダイを有し、個別のダイが、イメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合された集積回路と、前記集積回路に電気的に結合された複数のボンドパッドとを有し、前記窓が、離間した関係で対応するイメージセンサの上に存在するとともに、前記絶縁部が、対応するイメージセンサの外側寄りかつ対応するボンドパッドの内側寄りのダイにコンタクトするように、前記第1基板を前記第2基板に組み込んで、前記絶縁部が前記ボンドパッドを完全にカバーしないようにした第2基板とを具えることを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記窓と対応するイメージセンサとの間のスペースが、包囲された空セルを規定することを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。
- 前記カバーを、各々が絶縁部を形成するために前記第1基板にエッチングした凹部を有する個別の素子としたことを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。
- 前記カバーを、各々が前記第1基板に材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子としたことを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。
- 前記第1基板が、可視スペクトルの光に対して透過性を持つウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと同一材料で形成したことを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記第1基板が、可視スペクトルの光に対して透過性を持つウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと異なる材料で形成したことを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記第1基板が水晶ウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと同一材料で形成したことを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記第1基板が水晶ウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと異なる材料で形成したことを特徴とする請求項68記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 複数のカバーを有する第1基板を有し、前記第1基板が、放射に対して透過性があり、個別のカバーが、窓及び前記窓から突出する絶縁部を有する、カバーワークピースと、
複数のマイクロ形態のダイを有する第2基板を有し、個別のダイが、イメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に結合した集積回路と、前記イメージセンサに電気的に結合した複数の端子と、前記イメージセンサと前記端子との間の装着ゾーンとを有し、前記窓が対応するイメージングセンサに整列されるとともに前記絶縁部が前記装着ゾーンのダイにコンタクトするように、前記第1及び第2基板を互いに結合した、マイクロ形態のワークピースとを具えることを特徴とするマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記カバーを、各々が絶縁部を形成するために前記第1基板にエッチングした凹部を有する個別の素子としたことを特徴とする請求項76記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。
- 前記カバーを、各々が前記第1基板に材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子としたことを特徴とする請求項76記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。
- 前記第1基板が、可視スペクトルの光に対して透過性を持つウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと同一材料で形成したことを特徴とする請求項76記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。 - 前記第1基板が、可視スペクトルの光に対して透過性を持つウェファを具え、
前記カバーを、各々が前記ウェファに材料を堆積することによって形成された絶縁部を有する個別の素子とし、前記絶縁部を、前記ウェファと異なる材料で形成したことを特徴とする請求項76記載のマイクロエレクトロニクスイメージングユニットアッセンブリ。
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