JP3253439B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor
- Y10T156/1052—Methods of surface bonding and/or assembly therefor with cutting, punching, tearing or severing
- Y10T156/1082—Partial cutting bonded sandwich [e.g., grooving or incising]
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば高精細の液晶表
示素子等に用いるマイクロレンズ基板の製造方法に関す
る。
示素子等に用いるマイクロレンズ基板の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶パネルは直視型だけではな
く、プロジェクションテレビ等の投影型表示素子として
も需要が高まってきている。液晶パネルを投影型として
使用する場合、従来の絵素数で拡大率を高めると、画面
の粗さが目立ってくる。高い拡大率でも精細な画像を得
るためには、絵素数を増やすことが必要となる。
く、プロジェクションテレビ等の投影型表示素子として
も需要が高まってきている。液晶パネルを投影型として
使用する場合、従来の絵素数で拡大率を高めると、画面
の粗さが目立ってくる。高い拡大率でも精細な画像を得
るためには、絵素数を増やすことが必要となる。
【０００３】ところが、液晶パネルの画素数を増やす
と、特にアクティブマトリックス型の液晶パネルでは、
絵素以外の部分の占める面積が相対的に大きくなり、こ
れらの部分を覆うブラックマトリックスの面積が増大
し、その結果表示に寄与する絵素の面積が減少して表示
素子の開口率が低下してしまう。開口率の低下が生じる
と、画面が暗くなり、画像品位を低下させることにな
る。
と、特にアクティブマトリックス型の液晶パネルでは、
絵素以外の部分の占める面積が相対的に大きくなり、こ
れらの部分を覆うブラックマトリックスの面積が増大
し、その結果表示に寄与する絵素の面積が減少して表示
素子の開口率が低下してしまう。開口率の低下が生じる
と、画面が暗くなり、画像品位を低下させることにな
る。
【０００４】このような絵素数の増大による開口率の低
下を防止するために、液晶パネルの一方の面にマイクロ
レンズアレイを形成することが、例えば特開昭６０−１
６５６２１，１６５６２２，１６５６２３，１６５６２
４，２６２１３１等に提案されている。ここで示されて
いるマイクロレンズアレイは、各絵素に対応したマイク
ロレンズを有し、従来ブラックマトリックスによって遮
光されていた光を絵素内に集光するものである。
下を防止するために、液晶パネルの一方の面にマイクロ
レンズアレイを形成することが、例えば特開昭６０−１
６５６２１，１６５６２２，１６５６２３，１６５６２
４，２６２１３１等に提案されている。ここで示されて
いるマイクロレンズアレイは、各絵素に対応したマイク
ロレンズを有し、従来ブラックマトリックスによって遮
光されていた光を絵素内に集光するものである。
【０００５】マイクロレンズは、上記の用途以外にもレ
ーザーディスク，コンパクトディスク，光磁気ディスク
等の光ピックアップの集光手段、光ファイバと発光素子
又は受光素子との結合のための集光手段、ＣＣＤ等の固
体撮像素子又はファクシミリに使用される一次元イメー
ジセンサの感度を高めるために入射光を光電変換領域に
集光させる集光手段又は結像手段（例えば特開昭５４−
１７６２０、特開昭５７−９１８０等）、液晶プリンタ
やＬＥＤプリンタに於いて印字すべき像を感光体に結像
させる結像手段（例えば特開昭６３−４４６２４等）、
光情報処理用フィルタ等の、光学装置に於いて各種の光
学素子又は光学部品等と組合わせて使用される。
ーザーディスク，コンパクトディスク，光磁気ディスク
等の光ピックアップの集光手段、光ファイバと発光素子
又は受光素子との結合のための集光手段、ＣＣＤ等の固
体撮像素子又はファクシミリに使用される一次元イメー
ジセンサの感度を高めるために入射光を光電変換領域に
集光させる集光手段又は結像手段（例えば特開昭５４−
１７６２０、特開昭５７−９１８０等）、液晶プリンタ
やＬＥＤプリンタに於いて印字すべき像を感光体に結像
させる結像手段（例えば特開昭６３−４４６２４等）、
光情報処理用フィルタ等の、光学装置に於いて各種の光
学素子又は光学部品等と組合わせて使用される。
【０００６】このようなマイクロレンズの製造方法とし
ては、イオン交換法（Ａｐｐｌ．Ｏｐｔｉｃｓ，２１
（６）ｐ．１０５２（１９８４）、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．,１７ ｐ．４５２（１９８１））、膨潤法
（鈴木他、”プラスチックマイクロレンズの新しい作製
法”第２４回微小光学研究会）、熱ダレ法（Ｚｏｒａｎ
Ｄ．Ｐｏｐｏｖｉｃ ｅｔ ａｌ．，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ
ｉｃｓ，２７ｐ．１２８１（１９８８））、機械加工法
等が挙げられる。
ては、イオン交換法（Ａｐｐｌ．Ｏｐｔｉｃｓ，２１
（６）ｐ．１０５２（１９８４）、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．,１７ ｐ．４５２（１９８１））、膨潤法
（鈴木他、”プラスチックマイクロレンズの新しい作製
法”第２４回微小光学研究会）、熱ダレ法（Ｚｏｒａｎ
Ｄ．Ｐｏｐｏｖｉｃ ｅｔ ａｌ．，Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ
ｉｃｓ，２７ｐ．１２８１（１９８８））、機械加工法
等が挙げられる。
【０００７】前記イオン交換法では、屈折率分布型のマ
イクロレンズを有する平板型マイクロレンズアレイが得
られ、それ以外の方法では、凸型のマイクロレンズを有
するマイクロレンズアレイが得られる。特に凸型のマイ
クロレンズアレイの場合には、特開平５−１３４１０３
に示されているように、凸型のマイクロレンズアレイを
マスター（原盤）として金型を作製し、この金型を用い
て光硬化性樹脂を成型する方法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｉ
ｍｅｒ法＝２Ｐ法）を用いることにより、マイクロレン
ズアレイの量産が可能となる。上記の方法によって得ら
れるマイクロレンズアレイを液晶パネルに貼り合わせる
ことにより、実効開口率が向上し、明るい表示画面が得
られる。
イクロレンズを有する平板型マイクロレンズアレイが得
られ、それ以外の方法では、凸型のマイクロレンズを有
するマイクロレンズアレイが得られる。特に凸型のマイ
クロレンズアレイの場合には、特開平５−１３４１０３
に示されているように、凸型のマイクロレンズアレイを
マスター（原盤）として金型を作製し、この金型を用い
て光硬化性樹脂を成型する方法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｉ
ｍｅｒ法＝２Ｐ法）を用いることにより、マイクロレン
ズアレイの量産が可能となる。上記の方法によって得ら
れるマイクロレンズアレイを液晶パネルに貼り合わせる
ことにより、実効開口率が向上し、明るい表示画面が得
られる。
【０００８】絵素のピッチが数十μｍの高精細な表示を
行うプロジェクションテレビ用の液晶パネルでは、絵素
のピッチが数百μｍの液晶パネルに比べると、表示素子
の開口部面積が減少する。実効開口率はマイクロレンズ
の集光スポットの大きさと画素開口部の面積との関係で
決まるので、絵素のピッチが数十μｍの液晶パネルに用
いるマイクロレンズの集光スポットの大きさは、絵素の
ピッチが数百μｍの液晶パネルのマイクロレンズの集光
スポットの大きさより、小さくする必要がある。マイク
ロレンズの集光スポットの大きさが画素開口部の面積よ
りも大きくなると、画素開口部に入射しない光が表示に
寄与できなくなり、マイクロレンズによる実効開口率の
向上効果が低下するためである。
行うプロジェクションテレビ用の液晶パネルでは、絵素
のピッチが数百μｍの液晶パネルに比べると、表示素子
の開口部面積が減少する。実効開口率はマイクロレンズ
の集光スポットの大きさと画素開口部の面積との関係で
決まるので、絵素のピッチが数十μｍの液晶パネルに用
いるマイクロレンズの集光スポットの大きさは、絵素の
ピッチが数百μｍの液晶パネルのマイクロレンズの集光
スポットの大きさより、小さくする必要がある。マイク
ロレンズの集光スポットの大きさが画素開口部の面積よ
りも大きくなると、画素開口部に入射しない光が表示に
寄与できなくなり、マイクロレンズによる実効開口率の
向上効果が低下するためである。
【０００９】集光スポットの直径をＤ、入射する光の発
散度（半頂角）をθ、マイクロレンズの焦点距離をｆと
すると、Ｄ＝２・ｆ・ｔａｎθという関係が成り立つ。
マイクロレンズの集光スポットの面積を小さくする、つ
まり、集光効果を高めるためには、前記関係式より、入
射光の発散度θを小さくすること、又はマイクロレンズ
の焦点距離を短くすることが考えられる。
散度（半頂角）をθ、マイクロレンズの焦点距離をｆと
すると、Ｄ＝２・ｆ・ｔａｎθという関係が成り立つ。
マイクロレンズの集光スポットの面積を小さくする、つ
まり、集光効果を高めるためには、前記関係式より、入
射光の発散度θを小さくすること、又はマイクロレンズ
の焦点距離を短くすることが考えられる。
【００１０】入射光の発散度θを小さくするためには、
使用する光源の発光領域を小さくし、光源からパネルま
での距離を大きくすればよい。しかし、現状の光源の技
術レベルでは、長寿命性と表示に必要な明るさを確保す
るために、発散度θを数度以下にすることは困難であ
る。従って、マイクロレンズの焦点距離を短くし、その
焦点を液晶パネルの画素開口部近傍に位置させる（以
下、短焦点化技術と称す）必要がある。
使用する光源の発光領域を小さくし、光源からパネルま
での距離を大きくすればよい。しかし、現状の光源の技
術レベルでは、長寿命性と表示に必要な明るさを確保す
るために、発散度θを数度以下にすることは困難であ
る。従って、マイクロレンズの焦点距離を短くし、その
焦点を液晶パネルの画素開口部近傍に位置させる（以
下、短焦点化技術と称す）必要がある。
【００１１】現在の液晶パネルの製造技術では、画素ピ
ッチ５０μｍ、画素開口部の一辺約３０μｍのパネルが
製作されている。照明光の発散度θを５°とすると、集
光スポットの直径Ｄを３０μｍφ以下にするためには、
前記の式Ｄ＝２・ｆ・ｔａｎθより、焦点距離ｆを１７
０μｍ以下にしなければならない。一方、マイクロレン
ズの集光量はマイクロレンズの面積に比例するので、マ
イクロレンズを画素ピッチと同じピッチで隙間なく敷き
詰めた状態、つまりマイクロレンズの径が画素ピッチと
等しい時に、マイクロレンズの集光量は最大となる。こ
の時のマイクロレンズの開口数（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ
Ａｐｅｒｔｕｒｅ＝Ｎ．Ａ．）は、Ｎ．Ａ．＝Ｐ／２・
ｆより０．１４７となる。従って、画素ピッチが数十μ
ｍ程度の高精細な液晶パネルでは、マイクロレンズの集
光スポットを小さくするための開口数の値は少なくとも
０．１以上とすることが好ましい。
ッチ５０μｍ、画素開口部の一辺約３０μｍのパネルが
製作されている。照明光の発散度θを５°とすると、集
光スポットの直径Ｄを３０μｍφ以下にするためには、
前記の式Ｄ＝２・ｆ・ｔａｎθより、焦点距離ｆを１７
０μｍ以下にしなければならない。一方、マイクロレン
ズの集光量はマイクロレンズの面積に比例するので、マ
イクロレンズを画素ピッチと同じピッチで隙間なく敷き
詰めた状態、つまりマイクロレンズの径が画素ピッチと
等しい時に、マイクロレンズの集光量は最大となる。こ
の時のマイクロレンズの開口数（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ
Ａｐｅｒｔｕｒｅ＝Ｎ．Ａ．）は、Ｎ．Ａ．＝Ｐ／２・
ｆより０．１４７となる。従って、画素ピッチが数十μ
ｍ程度の高精細な液晶パネルでは、マイクロレンズの集
光スポットを小さくするための開口数の値は少なくとも
０．１以上とすることが好ましい。
【００１２】ところで、上述のマイクロレンズでは、空
気中の焦点距離１７０μｍに対応した厚さ２５０μｍ
（空気中の焦点距離にガラスの屈折率をかけて求められ
た値）のカバーガラスを間に挟み、焦点が液晶パネルの
画素開口部に位置するよう設定しなければならない。こ
のような構成を実現するために、厚さ２５０μｍのカバ
ーガラス基板を一方の基板として液晶パネルを作成し、
その後マイクロレンズを貼り合わせる方法が考えられる
が、この方法ではカバーガラス基板の取り扱いが難し
く、量産には不向きである。
気中の焦点距離１７０μｍに対応した厚さ２５０μｍ
（空気中の焦点距離にガラスの屈折率をかけて求められ
た値）のカバーガラスを間に挟み、焦点が液晶パネルの
画素開口部に位置するよう設定しなければならない。こ
のような構成を実現するために、厚さ２５０μｍのカバ
ーガラス基板を一方の基板として液晶パネルを作成し、
その後マイクロレンズを貼り合わせる方法が考えられる
が、この方法ではカバーガラス基板の取り扱いが難し
く、量産には不向きである。
【００１３】これに代わるマイクロレンズの短焦点化技
術が、特開平３−２４８１２５に開示されている。この
方法では、マイクロレンズ表面に焦点距離と同じ厚さの
カバーガラス又はフィルムを接着し、マイクロレンズを
液晶表示素子の一方の基板の中に作り込んでいる。
術が、特開平３−２４８１２５に開示されている。この
方法では、マイクロレンズ表面に焦点距離と同じ厚さの
カバーガラス又はフィルムを接着し、マイクロレンズを
液晶表示素子の一方の基板の中に作り込んでいる。
【００１４】更に、特開平３−２３３４１７において
は、前記の２Ｐ法を用いてレンズ形状部分を感光性樹脂
で形成し、その感光性樹脂と異なる屈折率の接着剤でマ
イクロレンズ基板と同じ熱膨張率のカバーガラスを接着
することで、量産性と密着性を高める方法が開示されて
いる。
は、前記の２Ｐ法を用いてレンズ形状部分を感光性樹脂
で形成し、その感光性樹脂と異なる屈折率の接着剤でマ
イクロレンズ基板と同じ熱膨張率のカバーガラスを接着
することで、量産性と密着性を高める方法が開示されて
いる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来技
術では、最初から厚さ２００μｍ〜３００μｍの薄いカ
バーガラスを使うために、以下の問題が生じる。
術では、最初から厚さ２００μｍ〜３００μｍの薄いカ
バーガラスを使うために、以下の問題が生じる。
【００１６】先ず、カバーガラスを生産するに当たって
は、カバーガラスが薄く、非常に割れやすいため、広い
面積のカバーガラスを歩留まり良く量産することが難し
くなる。
は、カバーガラスが薄く、非常に割れやすいため、広い
面積のカバーガラスを歩留まり良く量産することが難し
くなる。
【００１７】又、仮にカバーガラスが生産されたとして
も、運搬途中での破損を防ぐため、厳重な梱包方法が必
要とされる。
も、運搬途中での破損を防ぐため、厳重な梱包方法が必
要とされる。
【００１８】次に、カバーガラスとマイクロレンズを貼
り合わせる段階では、割れないよう慎重なハンドリング
を必要とする。更に、均一な厚さに貼り合わせるため
に、基板全面にわたって均等な荷重をかけてカバーガラ
スをプレスしなければならないが、僅かでもたわみがあ
ればその箇所で破損してしまう。
り合わせる段階では、割れないよう慎重なハンドリング
を必要とする。更に、均一な厚さに貼り合わせるため
に、基板全面にわたって均等な荷重をかけてカバーガラ
スをプレスしなければならないが、僅かでもたわみがあ
ればその箇所で破損してしまう。
【００１９】又、一般に液晶表示素子は、量産性を向上
するために、一枚の大きなガラス基板上からの多数枚取
りがなされている。従って、マイクロレンズも液晶表示
素子に対応して、一枚のガラス基板上に多数枚配置され
る。そのようなマイクロレンズ基板を貼り合わせた液晶
表示素子の多数枚取りの基板が作製され、その後、液晶
表示素子が一枚ずつ分断される。しかし、この基板は、
ガラス基板を３枚重ねた構造となっているので、液晶表
示素子を一枚ずつ分断する際、従来の分断方法では、所
定のラインに沿って外側のガラスのみを分断することし
かできないので、内部のカバーガラスが切断されずに取
り残され、液晶表示素子を一枚ずつ分断することができ
ない。また、分断する際に、カバーガラスに無理な力が
かかり、カバーガラスが破損しやすい等の問題がある。
するために、一枚の大きなガラス基板上からの多数枚取
りがなされている。従って、マイクロレンズも液晶表示
素子に対応して、一枚のガラス基板上に多数枚配置され
る。そのようなマイクロレンズ基板を貼り合わせた液晶
表示素子の多数枚取りの基板が作製され、その後、液晶
表示素子が一枚ずつ分断される。しかし、この基板は、
ガラス基板を３枚重ねた構造となっているので、液晶表
示素子を一枚ずつ分断する際、従来の分断方法では、所
定のラインに沿って外側のガラスのみを分断することし
かできないので、内部のカバーガラスが切断されずに取
り残され、液晶表示素子を一枚ずつ分断することができ
ない。また、分断する際に、カバーガラスに無理な力が
かかり、カバーガラスが破損しやすい等の問題がある。
【００２０】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、その目的とするところは、量産
性に優れ、焦点距離が短く集光効果の高いマイクロレン
ズ基板を提供するところにある。
になされたものであり、その目的とするところは、量産
性に優れ、焦点距離が短く集光効果の高いマイクロレン
ズ基板を提供するところにある。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明は、マイクロレン
ズ又はレンチキュラーレンズが形成された第１の透明基
板（８）にカバーガラスを接着する工程と、前記カバー
ガラスの表面にブラックマトリックス、透明電極、配向
膜を形成する工程と、第２の透明基板（７）とを貼り合
わせる工程と、外側の前記第１の透明基板（８）及び前
記第２の透明基板（７）にスクライブラインを入れた後
分断する工程と含む液晶表示素子の製造方法において、
マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズが形成された
第１の透明基板（８）にカバーガラスを接着した後に、
前記カバーガラスに所定の分断ラインに沿って、スクラ
イブラインを入れる、次に、分断した前記カバーガラス
の表面に、ブラックマトリックス、透明電極、配向膜を
形成した後に、前記第２の透明基板（７）とを貼り合わ
せ、その後、外側の前記第１の透明基板（８）及び前記
第２の透明基板（７）にスクライブラインを入れた後、
分断することを特徴とする。
ズ又はレンチキュラーレンズが形成された第１の透明基
板（８）にカバーガラスを接着する工程と、前記カバー
ガラスの表面にブラックマトリックス、透明電極、配向
膜を形成する工程と、第２の透明基板（７）とを貼り合
わせる工程と、外側の前記第１の透明基板（８）及び前
記第２の透明基板（７）にスクライブラインを入れた後
分断する工程と含む液晶表示素子の製造方法において、
マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズが形成された
第１の透明基板（８）にカバーガラスを接着した後に、
前記カバーガラスに所定の分断ラインに沿って、スクラ
イブラインを入れる、次に、分断した前記カバーガラス
の表面に、ブラックマトリックス、透明電極、配向膜を
形成した後に、前記第２の透明基板（７）とを貼り合わ
せ、その後、外側の前記第１の透明基板（８）及び前記
第２の透明基板（７）にスクライブラインを入れた後、
分断することを特徴とする。
【００２２】又、前記カバーガラスは、該カバーガラス
を前記マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズが形成
された前記第１の透明基板（８）に接着した後に、前記
マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズの焦点が該カ
バーガラスの外側表面の近傍に位置するような厚さに研
磨されることを特徴とする。
を前記マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズが形成
された前記第１の透明基板（８）に接着した後に、前記
マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズの焦点が該カ
バーガラスの外側表面の近傍に位置するような厚さに研
磨されることを特徴とする。
【００２３】更に、前記カバーガラスの研磨は、該カバ
ーガラスの外側表面が前記マイクロレンズ又はレンチキ
ュラーレンズの焦点距離の１／１０以内に位置するよう
になされることを特徴とする。
ーガラスの外側表面が前記マイクロレンズ又はレンチキ
ュラーレンズの焦点距離の１／１０以内に位置するよう
になされることを特徴とする。
【００２４】
【作用】本発明においては、薄い透明基板の代わりに厚
い透明基板をマイクロレンズ又はレンチュキュラーレン
ズ表面に接着し、該透明基板を研磨することによって、
焦点距離の短いマイクロレンズ又はレンチュキュラーレ
ンズを液晶表示素子の基板内に形成することができる。
その結果、マイクロレンズ基板を製造する際に、透明基
板が破損する恐れがなく、取り扱い及び貼り合わせが容
易になり、量産性を向上させることができる。
い透明基板をマイクロレンズ又はレンチュキュラーレン
ズ表面に接着し、該透明基板を研磨することによって、
焦点距離の短いマイクロレンズ又はレンチュキュラーレ
ンズを液晶表示素子の基板内に形成することができる。
その結果、マイクロレンズ基板を製造する際に、透明基
板が破損する恐れがなく、取り扱い及び貼り合わせが容
易になり、量産性を向上させることができる。
【００２５】又、マイクロレンズ又はレンチュキュラー
レンズの焦点面が、透明基板の少なくとも一方の外側表
面からマイクロレンズ又はレンチュキュラーレンズの焦
点距離の１／１０以内の範囲に位置するよう研磨するこ
とにより、この厚さ範囲内ではマイクロレンズ又はレン
チュキュラーレンズの集光効果は高く、該マイクロレン
ズ又はレンチュキュラーレンズを用いた液晶表示素子の
実行開口率を一定に保つことができる。
レンズの焦点面が、透明基板の少なくとも一方の外側表
面からマイクロレンズ又はレンチュキュラーレンズの焦
点距離の１／１０以内の範囲に位置するよう研磨するこ
とにより、この厚さ範囲内ではマイクロレンズ又はレン
チュキュラーレンズの集光効果は高く、該マイクロレン
ズ又はレンチュキュラーレンズを用いた液晶表示素子の
実行開口率を一定に保つことができる。
【００２６】又、本発明においては、マイクロレンズ基
板の研磨後、マイクロレンズの焦点面側の透明基板に、
所望の形状に分断できるよう分断処理を施すことによ
り、該マイクロレンズ基板を対向基板としてアクティブ
マトリックス基板と貼り合わせて構成される多数枚取り
の液晶表示素子を分断する際に、内部の透明基板を分断
するための深いダイシングを行わず、外側の基板をスク
ライブするだけでよく、分断工程が簡単になり、迅速に
行える。
板の研磨後、マイクロレンズの焦点面側の透明基板に、
所望の形状に分断できるよう分断処理を施すことによ
り、該マイクロレンズ基板を対向基板としてアクティブ
マトリックス基板と貼り合わせて構成される多数枚取り
の液晶表示素子を分断する際に、内部の透明基板を分断
するための深いダイシングを行わず、外側の基板をスク
ライブするだけでよく、分断工程が簡単になり、迅速に
行える。
【００２７】ここで、所望の形状とは、一枚の基板上か
ら多数枚取りされる液晶表示素子のパネル一枚に対応し
た形状のことを表し、マイクロレンズの配置方法や液晶
表示領域の大きさに応じた形状にマイクロレンズの焦点
面側の透明基板を分断することである。
ら多数枚取りされる液晶表示素子のパネル一枚に対応し
た形状のことを表し、マイクロレンズの配置方法や液晶
表示領域の大きさに応じた形状にマイクロレンズの焦点
面側の透明基板を分断することである。
【００２８】又、本発明では、マイクロレンズ基板と
は、マイクロレンズ又はレンチュキュラーレンズの表面
にカバーガラスが接着されて一体化されたものを示して
いる。
は、マイクロレンズ又はレンチュキュラーレンズの表面
にカバーガラスが接着されて一体化されたものを示して
いる。
【００２９】
【実施例】以下に本発明の実施例について説明するが、
本発明は、これによって限定されるものではない。 （実施例１）図１に、本発明によるマイクロレンズ基板
を用いたアクティブマトリクス型液晶表示素子の断面図
を示す。このアクティブマトリクス型液晶表示素子は、
石英ガラスからなる透明基板７上に、配向膜、絵素電
極、スイッチング素子、バス配線等が形成され（図示せ
ず）、対向基板９とシール材５によって貼り合わされた
後、液晶が注入、封止され、液晶層６が形成される。対
向基板９は、マイクロレンズアレイ８、接着層３、及び
石英カバーガラス４から構成され、上記マイクロレンズ
アレイ８には、石英基板１上に基板７上の各絵素電極に
対応してマイクロレンズ２が形成されている。マイクロ
レンズ２は凸レンズの形状を有しており、前述の２Ｐ法
によって作製される。また、石英カバーガラス４の液晶
層６側の面には、図示されてはいないが、透明電極、ブ
ラックマトリックス、配向膜が形成されている。
本発明は、これによって限定されるものではない。 （実施例１）図１に、本発明によるマイクロレンズ基板
を用いたアクティブマトリクス型液晶表示素子の断面図
を示す。このアクティブマトリクス型液晶表示素子は、
石英ガラスからなる透明基板７上に、配向膜、絵素電
極、スイッチング素子、バス配線等が形成され（図示せ
ず）、対向基板９とシール材５によって貼り合わされた
後、液晶が注入、封止され、液晶層６が形成される。対
向基板９は、マイクロレンズアレイ８、接着層３、及び
石英カバーガラス４から構成され、上記マイクロレンズ
アレイ８には、石英基板１上に基板７上の各絵素電極に
対応してマイクロレンズ２が形成されている。マイクロ
レンズ２は凸レンズの形状を有しており、前述の２Ｐ法
によって作製される。また、石英カバーガラス４の液晶
層６側の面には、図示されてはいないが、透明電極、ブ
ラックマトリックス、配向膜が形成されている。
【００３０】次に、液晶表示素子の対向基板として用い
られるマイクロレンズ基板９の製造方法について図２
（ａ）〜（ｄ）の各工程に従って説明する。
られるマイクロレンズ基板９の製造方法について図２
（ａ）〜（ｄ）の各工程に従って説明する。
【００３１】（ａ）先ず、透明基板１の一方の面上に、
前述の２Ｐ法を用いて、凸型のマイクロレンズ２を形成
して、マイクロレンズアレイを作製する。
前述の２Ｐ法を用いて、凸型のマイクロレンズ２を形成
して、マイクロレンズアレイを作製する。
【００３２】本実施例ではマイクロレンズ２の材料とし
て、ダイキン工業社製の感光性樹脂ＵＶ−４０００（屈
折率＝１．５６７）を使用し、中心曲率半径が１５．６
μｍの半球状（球面）のマイクロレンズを、絵素ピッチ
２９μｍ×２４μｍに対応するよう、石英ガラス基板１
上に作成した。
て、ダイキン工業社製の感光性樹脂ＵＶ−４０００（屈
折率＝１．５６７）を使用し、中心曲率半径が１５．６
μｍの半球状（球面）のマイクロレンズを、絵素ピッチ
２９μｍ×２４μｍに対応するよう、石英ガラス基板１
上に作成した。
【００３３】（ｂ）次に、マイクロレンズ２の表面に透
明な接着剤３を用いてカバーガラスとなる透明基板４’
を接着し、マイクロレンズ２が内部に作り込まれたマイ
クロレンズ基板９’を作製する。ここでは、上記接着剤
３の材料として、ダイキン工業社製感光性樹脂ＵＶ−１
０００（屈折率＝１．４５３）を、上記透明基板４’と
しては、規格品である０．６２５ｍｍの石英ガラス基板
を使用した。
明な接着剤３を用いてカバーガラスとなる透明基板４’
を接着し、マイクロレンズ２が内部に作り込まれたマイ
クロレンズ基板９’を作製する。ここでは、上記接着剤
３の材料として、ダイキン工業社製感光性樹脂ＵＶ−１
０００（屈折率＝１．４５３）を、上記透明基板４’と
しては、規格品である０．６２５ｍｍの石英ガラス基板
を使用した。
【００３４】（ｃ）次に、基板４’の厚さが０．６２５
ｍｍから目標値０．２ｍｍに達するまで研磨を行う。こ
の時、基板４’の厚さが全体で均一になるよう、基板の
傾きに注意してセッティングを行う。
ｍｍから目標値０．２ｍｍに達するまで研磨を行う。こ
の時、基板４’の厚さが全体で均一になるよう、基板の
傾きに注意してセッティングを行う。
【００３５】上記基板４’の厚さの目標値０．２ｍｍ
は、以下のようにして設定することができる。空気中で
の焦点距離は０．１３７ｍｍ、石英ガラスの屈折率は
１．４６であるので、石英ガラス中での焦点距離は、空
気中での焦点距離（０．１３７ｍｍ）に、石英ガラスの
屈折率（１．４６）を掛けて求めると、０．２ｍｍとな
る。マイクロレンズによる集光スポットの大きさは、そ
の焦点距離の±１／１０以内の範囲内ではほとんど変化
しない。すなわち、後の工程でブラックマトリックスが
形成されるカバーガラスの表面がこの範囲内に位置する
ように研磨されていれば、ガラスの厚さによらず実効開
口率を一定に保つことができる。本実施例１では、カバ
−ガラスの厚さ範囲は０．２±０．０２ｍｍとなる。
は、以下のようにして設定することができる。空気中で
の焦点距離は０．１３７ｍｍ、石英ガラスの屈折率は
１．４６であるので、石英ガラス中での焦点距離は、空
気中での焦点距離（０．１３７ｍｍ）に、石英ガラスの
屈折率（１．４６）を掛けて求めると、０．２ｍｍとな
る。マイクロレンズによる集光スポットの大きさは、そ
の焦点距離の±１／１０以内の範囲内ではほとんど変化
しない。すなわち、後の工程でブラックマトリックスが
形成されるカバーガラスの表面がこの範囲内に位置する
ように研磨されていれば、ガラスの厚さによらず実効開
口率を一定に保つことができる。本実施例１では、カバ
−ガラスの厚さ範囲は０．２±０．０２ｍｍとなる。
【００３６】（ｄ）次に、研磨が終了した上記基板４を
有機溶媒や水等で洗浄、乾燥させる。よって、最終的に
マイクロレンズアレイ８の表面に薄いカバーガラス４が
貼られたマイクロレンズ基板９を得る。
有機溶媒や水等で洗浄、乾燥させる。よって、最終的に
マイクロレンズアレイ８の表面に薄いカバーガラス４が
貼られたマイクロレンズ基板９を得る。
【００３７】尚、上記の工程ではマイクロレンズ基板
９’の一方の基板４’のみ研磨する方法を用いたが、こ
れ以外にも基板両面から同じ厚さだけ研磨する両面研磨
法によって作製することも可能である。その場合、マイ
クロレンズが形成される基板１は、両面研磨で削られる
分を見込んだ厚さの基板が用いられる。
９’の一方の基板４’のみ研磨する方法を用いたが、こ
れ以外にも基板両面から同じ厚さだけ研磨する両面研磨
法によって作製することも可能である。その場合、マイ
クロレンズが形成される基板１は、両面研磨で削られる
分を見込んだ厚さの基板が用いられる。
【００３８】又、ガラス基板１、４、７はいずれも同じ
材質のものが用いられた。これは熱膨張率の差を原因と
して、マイクロレンズや基板が剥離することを防ぐため
である。
材質のものが用いられた。これは熱膨張率の差を原因と
して、マイクロレンズや基板が剥離することを防ぐため
である。
【００３９】生産性の観点からは、マクロレンズ２及び
接着剤３の材料としては熱硬化性樹脂よりも紫外線感光
性樹脂を使用するのが望ましい。
接着剤３の材料としては熱硬化性樹脂よりも紫外線感光
性樹脂を使用するのが望ましい。
【００４０】以上の方法により、薄いカバーガラスを用
いることなく、焦点距離の短いマイクロレンズ２に対応
したマイクロレンズ基板９を作製することができる。こ
のようにマイクロレンズ基板を製造することにより、工
程内での不良発生を少なくし、歩留まり良く量産するこ
とができる。
いることなく、焦点距離の短いマイクロレンズ２に対応
したマイクロレンズ基板９を作製することができる。こ
のようにマイクロレンズ基板を製造することにより、工
程内での不良発生を少なくし、歩留まり良く量産するこ
とができる。
【００４１】尚、ここでは、半球状のマイクロレンズに
ついて説明したが、このマイクロレンズはレンチキュラ
ーレンズのようなものも含むもので、所謂集光用レンズ
全てに適用できることは言うまでもない。
ついて説明したが、このマイクロレンズはレンチキュラ
ーレンズのようなものも含むもので、所謂集光用レンズ
全てに適用できることは言うまでもない。
【００４２】次に、このマイクロレンズ基板を対向基板
としてアクティブマトリックス基板と貼り合わせ、液晶
表示素子を作製し、分断後、液晶を注入して液晶表示素
子を完成させる工程を図３（ａ）〜（ｄ）に従って説明
する。
としてアクティブマトリックス基板と貼り合わせ、液晶
表示素子を作製し、分断後、液晶を注入して液晶表示素
子を完成させる工程を図３（ａ）〜（ｄ）に従って説明
する。
【００４３】（ａ）図２の製造方法で作製されたマイク
ロレンズ基板９の石英カバーガラス４層に、所定の分断
ラインに沿って、スクライブラインを入れる。あるい
は、カバーガラス４にダイシングを行ってもよいが、液
晶表示素子の対向基板に用いない方の石英ガラス基板１
まで分断しないよう分断ラインの深さをコントロールす
る。又、前記分断ラインは、マイクロレンズの大きさ、
形状、配置、必要な面積により決定される。
ロレンズ基板９の石英カバーガラス４層に、所定の分断
ラインに沿って、スクライブラインを入れる。あるい
は、カバーガラス４にダイシングを行ってもよいが、液
晶表示素子の対向基板に用いない方の石英ガラス基板１
まで分断しないよう分断ラインの深さをコントロールす
る。又、前記分断ラインは、マイクロレンズの大きさ、
形状、配置、必要な面積により決定される。
【００４４】（ｂ）次に、分断した石英カバーガラス４
の表面に、ブラックマトリックス，透明電極，配向膜を
形成した後、アクティブマトリックス基板７と貼り合わ
せて、液晶表示素子を多数枚取りする基板１０’を作製
する。
の表面に、ブラックマトリックス，透明電極，配向膜を
形成した後、アクティブマトリックス基板７と貼り合わ
せて、液晶表示素子を多数枚取りする基板１０’を作製
する。
【００４５】（ｃ）次に、液晶表示素子を一枚ずつ取り
出せるよう、外側の石英ガラス基板１，７に、スクライ
ブラインを入れた後、分断する。このとき、カバーガラ
ス４も同時に分断される。分断方法は前記スクライブ法
以外に、両面からダイシングを行う等の方法もある。
出せるよう、外側の石英ガラス基板１，７に、スクライ
ブラインを入れた後、分断する。このとき、カバーガラ
ス４も同時に分断される。分断方法は前記スクライブ法
以外に、両面からダイシングを行う等の方法もある。
【００４６】（ｄ）最後に、該液晶表示素子に液晶６を
注入し、液晶表示素子１０が完成する。
注入し、液晶表示素子１０が完成する。
【００４７】以上の方法により、該マイクロレンズ基板
を対向基板としてアクティブマトリックス基板と貼り合
わせて構成される多数枚取りの液晶表示素子基板を分断
する際に、内部の透明基板が分断されずに取り残される
という問題がなくなるので、外側の基板からの深いダイ
シングを行う必要がない。
を対向基板としてアクティブマトリックス基板と貼り合
わせて構成される多数枚取りの液晶表示素子基板を分断
する際に、内部の透明基板が分断されずに取り残される
という問題がなくなるので、外側の基板からの深いダイ
シングを行う必要がない。
【００４８】又、該マイクロレンズ基板を液晶表示素子
に用いることにより、集光スポット径を小さくし、液晶
表示素子の実効開口率を向上させることができる。
に用いることにより、集光スポット径を小さくし、液晶
表示素子の実効開口率を向上させることができる。
【００４９】（実施例２）図４に本発明によるマイクロ
レンズ基板を使用した液晶表示素子を用いた液晶プロジ
ェクターの光学系を示す。１１はメタルハライドランプ
等の白色光源、１２はＵＶ−ＩＲフィルター、１３は光
源１１からの光を赤、緑、青の三原色に分解するための
ダイクロイックミラー群、１４は反射鏡、１５はコンデ
ンサレンズ、１６は本発明のマイクロレンズ基板を備
え、映像信号に基づいて各原色画像を表示するための液
晶表示素子、１７は各液晶表示素子を透過した原色光を
合成するためのダイクロイックミラー群、および１８は
投影レンズであり、図示されていないスクリーン上に映
像を拡大投影する。以上１１から１８の光学系全体が液
晶プロジェクターの光学系１９となる。
レンズ基板を使用した液晶表示素子を用いた液晶プロジ
ェクターの光学系を示す。１１はメタルハライドランプ
等の白色光源、１２はＵＶ−ＩＲフィルター、１３は光
源１１からの光を赤、緑、青の三原色に分解するための
ダイクロイックミラー群、１４は反射鏡、１５はコンデ
ンサレンズ、１６は本発明のマイクロレンズ基板を備
え、映像信号に基づいて各原色画像を表示するための液
晶表示素子、１７は各液晶表示素子を透過した原色光を
合成するためのダイクロイックミラー群、および１８は
投影レンズであり、図示されていないスクリーン上に映
像を拡大投影する。以上１１から１８の光学系全体が液
晶プロジェクターの光学系１９となる。
【００５０】本発明によるマイクロレンズ基板を使用し
た液晶プロジェクターでは、液晶表示素子の画素サイズ
の縮小化（高精細化）に応じて、焦点距離の短いマイク
ロレンズが画素一つ一つに取り付けられている。その結
果、従来の高精細な液晶表示素子においてブラックマト
リックスで遮られていた光を、本発明のマイクロレンズ
によって無駄無く画素開口部に集光し、明るい表示画面
を得ることができる。
た液晶プロジェクターでは、液晶表示素子の画素サイズ
の縮小化（高精細化）に応じて、焦点距離の短いマイク
ロレンズが画素一つ一つに取り付けられている。その結
果、従来の高精細な液晶表示素子においてブラックマト
リックスで遮られていた光を、本発明のマイクロレンズ
によって無駄無く画素開口部に集光し、明るい表示画面
を得ることができる。
【００５１】尚、マイクロレンズで集められた光はスポ
ットを形成した後、その開口数できまる角度（発散角）
で画素開口部から発散しながら投影レンズ１８に達す
る。この発散光を投影レンズがカバーするためには、投
影レンズの焦点距離Ｆが短く、且つレンズの口径Ｐがで
きるだけ大きいことが望ましい。具体的には投影レンズ
の開口数であるＰ／２Ｆという値が、マイクロレンズの
それよりも大きいことが条件となる。従って、前記のマ
イクロレンズの開口数に関する条件から、開口数が０．
１以上の投影レンズを使用すると光の損失を減らすこと
ができ、スクリーン上で明るい表示が得られる。
ットを形成した後、その開口数できまる角度（発散角）
で画素開口部から発散しながら投影レンズ１８に達す
る。この発散光を投影レンズがカバーするためには、投
影レンズの焦点距離Ｆが短く、且つレンズの口径Ｐがで
きるだけ大きいことが望ましい。具体的には投影レンズ
の開口数であるＰ／２Ｆという値が、マイクロレンズの
それよりも大きいことが条件となる。従って、前記のマ
イクロレンズの開口数に関する条件から、開口数が０．
１以上の投影レンズを使用すると光の損失を減らすこと
ができ、スクリーン上で明るい表示が得られる。
【００５２】
【発明の効果】本発明によれば、焦点距離の短いマイク
ロレンズ表面に薄いカバーガラスを貼る代わりに、厚い
ガラスを貼って、研磨を行い、目標の厚さを得るので、
マイクロレンズ基板及びそれを用いた液晶表示素子の量
産性が著しく向上する。
ロレンズ表面に薄いカバーガラスを貼る代わりに、厚い
ガラスを貼って、研磨を行い、目標の厚さを得るので、
マイクロレンズ基板及びそれを用いた液晶表示素子の量
産性が著しく向上する。
【００５３】従って、ガラスの厚さに左右されず、ガラ
ス基板をマイクロレンズアレイに貼り合わせ、所望の厚
さに研磨することができるので、臨機応変にマイクロレ
ンズの焦点距離を容易に短く設定できる。この短焦点化
に伴って、液晶表示素子の絵素開口部への集光力が向上
し、明るい表示画像が得られる。
ス基板をマイクロレンズアレイに貼り合わせ、所望の厚
さに研磨することができるので、臨機応変にマイクロレ
ンズの焦点距離を容易に短く設定できる。この短焦点化
に伴って、液晶表示素子の絵素開口部への集光力が向上
し、明るい表示画像が得られる。
【００５４】又、本発明によれば、マイクロレンズ基板
の研磨後、マイクロレンズの焦点面側の透明基板を所望
の形状に分断し、該マイクロレンズ基板を対向基板とし
てアクティブマトリックス基板と貼り合わせて構成され
る多数枚取りの液晶表示素子の基板を分断することがで
きるので、内部のカバーガラス基板をダイシングによっ
て分断する必要もなく、外側の基板のみをスクライブす
ることにより、短時間で確実に分断することができる。
その結果、液晶パネルの量産性が高くなる。
の研磨後、マイクロレンズの焦点面側の透明基板を所望
の形状に分断し、該マイクロレンズ基板を対向基板とし
てアクティブマトリックス基板と貼り合わせて構成され
る多数枚取りの液晶表示素子の基板を分断することがで
きるので、内部のカバーガラス基板をダイシングによっ
て分断する必要もなく、外側の基板のみをスクライブす
ることにより、短時間で確実に分断することができる。
その結果、液晶パネルの量産性が高くなる。
【図１】本発明の一実施例であるマイクロレンズ基板を
使用した液晶表示素子の構造を説明するための断面図で
ある。
使用した液晶表示素子の構造を説明するための断面図で
ある。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は本発明のマイクロレンズ基板
の製造工程を説明するための断面図である。
の製造工程を説明するための断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は本発明のマイクロレンズ基板
を使用した液晶表示素子の貼り合わせと分断工程及び液
晶表示素子の完成を説明するための断面図である。
を使用した液晶表示素子の貼り合わせと分断工程及び液
晶表示素子の完成を説明するための断面図である。
【図４】本発明の第２の実施例である液晶プロジェクタ
ーの光学系を説明するための図である。
ーの光学系を説明するための図である。
１ 石英ガラス基板 ２ マイクロレンズ ３ 接着層， ４、４’ 石英カバーガラス ５ シール材 ６ 液晶層 ７ 石英ガラス基板 ８ マイクロレンズアレイ ９、９’ 液晶表示素子の対向基板またはマイクロレン
ズ基板 １０、１０’ 液晶表示素子 １１ 光源 １２ ＵＶ−ＩＲフィルター １３ ダイクロイックミラー １４ 反射鏡 １５ コンデンサレンズ １６ 液晶表示素子 １７ ダイクロイックミラー １８ 投影レンズ １９ 液晶プロジェクターの光学系
ズ基板 １０、１０’ 液晶表示素子 １１ 光源 １２ ＵＶ−ＩＲフィルター １３ ダイクロイックミラー １４ 反射鏡 １５ コンデンサレンズ １６ 液晶表示素子 １７ ダイクロイックミラー １８ 投影レンズ １９ 液晶プロジェクターの光学系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−248125（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−265051（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−170437（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−160639（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】 マイクロレンズ又はレンチキュラーレン
ズが形成された第１の透明基板（８）にカバーガラスを
接着する工程と、前記カバーガラスの表面にブラックマ
トリックス、透明電極、配向膜を形成する工程と、第２
の透明基板（７）とを貼り合わせる工程と、外側の前記
第１の透明基板（８）及び前記第２の透明基板（７）に
スクライブラインを入れた後分断する工程と含む液晶表
示素子の製造方法において、マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズが形成された
第１の透明基板（８）にカバーガラスを接着した後に、
前記カバーガラスに所定の分断ラインに沿って、スクラ
イブラインを入れる、 次に、分断した前記カバーガラスの表面に、ブラックマ
トリックス、透明電極、配向膜を形成した後に、前記第
２の透明基板（７）とを貼り合わせ、 その後、外側の前記第１の透明基板（８）及び前記第２
の透明基板（７）にスクライブラインを入れた後、 分断
することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項２】 前記カバーガラスは、該カバーガラスを
前記マイクロレンズ又はレンチキュラーレンズが形成さ
れた前記第１の透明基板（８）に接着した後に、前記マ
イクロレンズ又はレンチキュラーレンズの焦点が該カバ
ーガラスの外側表面の近傍に位置するような厚さに研磨
されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の
製造方法。 - 【請求項３】 前記カバーガラスの研磨は、該カバーガ
ラスの外側表面が前記マイクロレンズ又はレンチキュラ
ーレンズの焦点距離の１／１０以内に位置するようにな
されることを特徴とする請求項２記載の液晶表示素子の
製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32642893A JP3253439B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 液晶表示素子の製造方法 |
| US08/362,138 US5505804A (en) | 1993-12-24 | 1994-12-22 | Method of producing a condenser lens substrate |
| EP94309719A EP0659521B1 (en) | 1993-12-24 | 1994-12-22 | Method of producing a condenser lens substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32642893A JP3253439B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 液晶表示素子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000119258A Division JP2000329907A (ja) | 2000-01-01 | 2000-04-20 | マイクロレンズ基板の製造方法及び液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07181305A JPH07181305A (ja) | 1995-07-21 |
| JP3253439B2 true JP3253439B2 (ja) | 2002-02-04 |
Family
ID=18187691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32642893A Expired - Fee Related JP3253439B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0659521B1 (ja) |
| JP (1) | JP3253439B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6197209B1 (en) | 1995-10-27 | 2001-03-06 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Method of fabricating a substrate |
| DE19610881B4 (de) * | 1995-12-07 | 2008-01-10 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Mikrosystembaustein |
| US6211916B1 (en) * | 1996-03-11 | 2001-04-03 | Eastman Kodak Company | Solid state imager with inorganic lens array |
| KR0180850B1 (ko) * | 1996-06-26 | 1999-03-20 | 구자홍 | 유리기판 에칭장치 |
| KR100265556B1 (ko) | 1997-03-21 | 2000-11-01 | 구본준 | 식각장치 |
| US6137555A (en) * | 1997-03-26 | 2000-10-24 | Matsushita Electronics Corporation | Liquid crystal panel with uniform adhesive layer and method of manufacturing |
| US5949740A (en) * | 1997-06-06 | 1999-09-07 | Litton Systems, Inc. | Unbalanced fiber optic Michelson interferometer as an optical pick-off |
| JP4049854B2 (ja) * | 1997-09-18 | 2008-02-20 | リコー光学株式会社 | 液晶プロジェクタ用の液晶デバイスおよび液晶デバイス用の対向基板 |
| US6327011B2 (en) * | 1997-10-20 | 2001-12-04 | Lg Electronics, Inc. | Liquid crystal display device having thin glass substrate on which protective layer formed and method of making the same |
| JP3228896B2 (ja) * | 1997-10-24 | 2001-11-12 | キヤノン株式会社 | 反射型ｌｃｄパネルユニット及びこれを用いた液晶プロジェクター |
| JPH11211902A (ja) * | 1998-01-21 | 1999-08-06 | Micro Opt:Kk | 平板型マイクロレンズアレイ |
| KR100272513B1 (ko) | 1998-09-08 | 2001-01-15 | 구본준 | 유리기판의 식각장치 |
| KR100308157B1 (ko) | 1998-10-22 | 2001-11-15 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시소자용 유리기판 |
| JP2008097032A (ja) * | 2000-10-04 | 2008-04-24 | Sharp Corp | マイクロレンズアレイ、液晶表示素子および投影型液晶表示装置 |
| US20040047039A1 (en) * | 2002-06-17 | 2004-03-11 | Jian Wang | Wide angle optical device and method for making same |
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