JP2007536137A - 光触媒被覆物を有する基板 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
特に、この発明は、反射防止機能と光触媒被覆を兼ね備えた基板に関するするものである。
本発明の基板は、透明ないしは半透明で、無機あるいは有機で、例えばガラスあるいはガラスーセラミックスあるいは種々の硬質ポリマーあるいは可塑性ポリマーなどの基板である。
無機および有機の基板のいずれでも、この必要性を満足させるために多岐にわたる被覆物が開発されてきた。それらは所与の基板の光の反射率を下げること、あるいは場合によっては光の反射率を無視することさえも策定される。一般に、被覆物が非被覆基板の反射率よりも低い反射率を有していると、被覆物は反射防止機能を有していると考えられている。
例えば、特許出願FR2721720にこのような眼科用レンズ用の被覆物が記載されている。それらは、入を可視域の、従っておよそ550nmにおける平均の波長であるとして、その視角的厚さ(それは材料の屈折率によって増加される幾何学的厚さの産物である)が入/4と等しい誘電体材料の単一の膜から構成されるのが基本である。この場合には、低い光の反射率は法線に近い光線の入射に対してのみ得られる。他の入射角度に対しては入射あるいは観測する角度とともに反射の色が変わることが、生じた干渉による部分的にのみ破壊的な性質を証明する。反射防止被覆物もまたさらに複雑で、これらの美観的性状を改善するには少なくとも3〜4層から構成される。それらはまた、機械的あるいは熱機械的強度あるいは耐摩耗性に関する厳しい規格を満足することも同様に求められる。
このタイプの被覆物の主要な欠点はそれらの光学的効果が汚れ、特に有機性汚れによって極度に影響を受けるという事実である。言い換えれば、好ましくない接触面が加わることで汚れが反射された光線の光学経路を変更し、その際に緩衝効果を妨害するため、汚れの厚さが小さくてもこれらの反射防止被覆物は汚れをさらに目立たせるということが明らかになった。それ故、例えば眼科用レンズや店頭への反射防止被覆物によって、“指紋”タイプの有機性汚濁は特に浮き彫りにされる。
二酸化チタンは、出願FR2738812に記載されているように、ナノスケールの結晶粒子の形で無機あるいは有機の結合剤に埋め込まれて部分的に取り込まれてもよく、あるいは上述の出願FR2814094のように現場で生じさせてもよい。他の方法は、
少なくとも部分的には結晶性二酸化チタン、特に完全に識別可能な粒子の形での結晶性二酸化チタンを含むメソ多孔性被覆物を堆積させるためにゾルーゲル法を利用することである。
出願FR2838734に記載されているこの特殊な方法によって得られる生成物は光触媒活性が増加する。
この発明の他の目的は、経済的な方法で光触媒被覆物を堆積させることが可能である材料を提案することである。
この発明の更なる目的は、耐薬品性および機械的強度が良好である材料を提案することである。
この発明の文脈において、反射防止被覆物とは、基板の被覆されない面(非被覆面)によってもたらされる光の反射率よりも低い光の反射率がもたらされる被覆される面(被覆面)に対する被覆物を意味する。
この基材の被覆面全体の光の反射率は、好適には基板の非被覆面の反射率の80%以下、特に60%以下、さらに40%以下、実に20%あるいは15%以下である。
この発明の好ましい態様によれば、被覆面の反射率は可視光の波長幅に一致する400−800nmの全幅において基板の非被覆面の反射率よりも低い。
特に好ましい方法では、光触媒被覆物の屈折率は1.5以下でさえある。この方法で、この発明の材料の反射率が非被覆基板の反射率よりも低くて光触媒機能と反射防止機能との真の組み合わせをみることが驚くほど実現可能であることがわかった。このことは、中間物層が時には光反射率を低くすることを唯一の目的として光触媒被覆物の下に置かれるので、むき出しの基板よりも反射率が低くなることはない先行技術の開示と相違する。
この発明の光触媒被覆物は、屋内照射の条件下で2時間照射後の分解したステアリン酸の重量%として表される活性(Kint)が15%より大、特に20%より大、さらには30%より大、その中でも特に40%より大、そして50%より大でさえあることが有利である。
前記のステアリン酸の分解速度は以下に詳細に記載の条件下にフーリエ変換赤外分光分析法(FTIR)によって測定されるCH2−CH3基の伸縮振動の面積の減少速度を示す。
この光触媒の活性の測定条件は、屋内光条件下および屋外光条件下のいずれもこの発明に基づく実施例の説明中に詳細が記載されている。
メソ多孔性構造がシリカを含む場合には、Ti/Si原子比が0.25〜2、特に0.6〜1.2、その中でも実質的に1である被覆物を選択することが発明者にとって有利であることが明らかになった。実際のところ、Ti/Si原子比の低い被覆物は好ましい光触媒特性を有さず、一方でTi/Si原子比が高いと基材の屈折率がより高くなる。
前記の少なくとも部分的に結晶性の二酸化チタンは、例えば完全に識別できる粒子の形でメソ多孔性構造に組み込まれる。この二酸化チタンは光触媒活性を増大させるかあるいは可視波長域でのさらなる強い活性を生み出すために他の材料と一緒に場合によってはドープされるか混ぜ合わされる(この明細書で参照用に引用される出願WO97/10185およびWO97/10186に説明されるように)。そしてこの二酸化チタンは、0.5〜100nm、特に1〜80nmの直径を有し、それらが0.5〜10nmの直径を有する粒子あるいは基本微結晶の塊からなるナノ粒子を構成する。
さらに、耐摩耗性およびこのような高いレベルまでの光触媒活性の耐久性が優れている。従って、この発明の好適な態様は、磨耗すると通常は表面層の高密度化およびそのために結局は汚し防止機能の喪失をもたらすという結果になると予想されるが、磨耗後にも多孔性を保つのに役立つ。
前記の複数層の堆積は金属層、特に銀、チタンあるいは白金に基づく金属層を含まないことが好ましい。これらの層が存在すると、被覆基板の光透過率が大幅に下がる。この発明者らは金属層の存在は機械的強度と耐薬品性を低下させることも見出した。
- 1.8〜2.3の屈折率n1および5〜50nmの幾何学的厚さe1を有する高屈折率の第1の層1、
- 1.35〜1.65の屈折率n2および10〜60nmの幾何学的厚さe2を有する低屈折率の第2の層2、
- 1.8〜2.5の屈折率n3および40〜150nmの幾何学的厚さe3を有する高屈折率の第3の層3。
この発明の文脈において、“層”とは単一層あるいは問題となっている層に対して各層が指示された屈折率を有しかつ各層の幾何学的厚さの合計が問題となっている層に対して指示される値に等しくなっている重ね合わせの層のいずれをも意味する。
これらの好適な厚さと反射率の基準は、広帯域での低光反射率(つまり、400−800nm全域で基板の被覆面が基板の非被覆面よりも低い全反射率を有するような)を有し、そのように被覆された基板が観察される入射角度の如何に関わらず透過における中間色および反射における審美の良さを有する反射防止機能を得るために役立つ。
前記の光触媒被覆物がその態様に従ってゾルーゲル法によって形成される態様の文脈において、被覆物あるいは基板と前記光触媒被覆物との間に積層される堆積は、ゾルーゲル法に特有ではあるが光触媒被覆物の厚さの変化が光の反射率の値に実質的に影響を及ぼさないように有利に最適化される。
- 被覆物からなるメソ多孔性構造を構成する材料の前駆体の少なくとも1種および溶媒に希釈された有機構造化剤少なくとも1種を含む“ゾル”の調製工程、
- 有機構造化剤の周囲での前記前駆体の初期の沈澱そして前駆体から派生する分子の成長に対応するゾルの“熟成”工程、
- 場合によってはドープされてよい特徴的な粒度が0.5〜100nmの二酸化チタンのナノ粒子あるいは微結晶をゾルに添加、
- 被覆される基板の少なくとも1つの面にゾルの塗布、
- 溶媒の除去、
- 有機構造化剤の除去。
前記の構造化剤は、ゾルの調製および熟成の工程の後に加えることもでき、後者の熟成工程は前駆体の予備凝縮が支持体表面の広い範囲で凝縮される被覆酸化物の構造化の助けとなると認められる。有利な熟成条件は、ゾルの40〜60℃の温度で30分〜24時間の維持から成り、温度が高いと熟成時間は短くなる。
使用される溶媒は好適にはアルコール、特にエタノールであり、エタノールは毒性が無いという利点がある。
- スピンコーティング(回転している基板への堆積)、
- 浸漬被覆あるいは浸漬(ゾル中の基板の浸漬次いで制御された速度での取り出し)、
- 薄層状の被覆
- 基板が堆積されるゾルで充たされそして次いで制御された方法で水抜きされる実質的に平行な2つの面で挟まれる狭い空洞(あるいは“気泡”)を形成して被覆される、セル被覆、
- スプレー被覆技術(スプレーガン、等)。
これに関連して、この発明の特に好適な態様は、50〜80℃の温度で被覆物を強固にし、引き続いてあるいは同時に、熱的ではなくて照射を通じての、例えば紫外線照射下での前記有機構造化剤の除去にある。
そして、光触媒特性を有するに酸化チタンが存在すると、構造化剤全体の速やかな分解を可能にすることが判明する。
この発明者らは、低い温度で実施されるこれらの処理が高空隙率とそれ故の被覆物への高光触媒活性を与える利点もあることを見つけた。
この発明は、以下の限定されない実施例の態様の詳細な記載を読めばにさらに良く理解されるであろう。
厚さ4mmでフロート法で作られて商品名SGGプラニラックス(Planilux 登録商標)でサン−ゴバン グラスから販売される透明ガラスの両面に、磁気的に促進された陰極スパッタリング法(“マグネトロンスパッタリング”と呼ばれる)によって3層からなる次の堆積が被覆される:
ガラス / Si3N4 / SiO2 / TiO2
20.2nm 22.1nm 95.9nm
(同一の堆積が反対面に存在する。)。
第2および第3の層は550nmにおける屈折率が、各々1.48および2.33である。
メソ多孔性構造を有する光触媒被覆物が得られる基材の両面に形成される。
第1工程で、テトラエトキシシラン22.3ml、純エタノール22.1mlおよび脱塩水に入れた塩化水素9mlを透明(最終pH1.25)になるまで混合し、そして次いでフラスコを60℃の水槽中に1時間置くことによって、液体処理組成物が得られる。
次いで、メソ多孔性被覆物を強固にし、そして溶媒と有機構造化剤とを除くために前記試料は250℃で2時間の熱処理を受ける。
このようにして形成された被覆物の細孔は4−5nmの大きさである。
このメソ多孔性構造を有する被覆物のSIMS(二次的イオン質量スペクトロスコピー)分析はTi/Si原子比が初めの液体組成物の比率と同一であることを裏付ける。このTi/Si比は1が選択される。このSIMS分析はナノ粒子が被覆物の3次元に均一に分散されることを確認するのにも役立つ。
この被覆物の屈折率がこの分野の専門家に良く知られる偏光解析法によって測定される。その値は550nmにおいて1.54である。
光触媒活性は以下のように測定される:
- 試料を5x5cm2のサイズに切断、
- 試料を紫外線照射下に酸素で覆って45分間清浄化、
- 参照スペクトルを用意するための4000〜400cm-1の波数に対するFTIRによる赤外スペクトルの測定、
- ステアリン酸の分解:ステアン酸をメタノール中に5g/lの量で溶解したステアリン酸溶液60μlを試料上にスピンコートによって堆積させる、
- FTIRによる赤外線スペクトル測定、
3000〜2700cm-1でのCH2−CH3結合の伸縮帯域の面積の測定、
- UVA型の放射への暴露:屋外および屋内の暴露を想定して試料が受ける各々約35W/m2および4W/m2の出力は315−400nmの波長域の光電セルによって調整される。ランプの種類は照明条件によっても異なる:屋内暴露用には熱白色蛍光灯標準のフィリップスT12、屋外暴露用にはフィリップス・クレオ・パフォーマンス紫外線電球、
- 継続した10分間の暴露後の3000〜2700cm-1でのCH2−CH3結合の伸縮帯域の面積の測定によるステアリン酸の層の光崩壊の測定、
- 屋外条件下での光触媒活性kextが、0〜30分の間の継続したUV暴露時間に対応し3000〜2700cm-1でのCH2−CH3結合の伸縮帯域の面積を表す斜線のcm-1.min-1で示される傾斜によって規定される、
- 屋内条件下での光触媒活性kintが、2時間照射後の分解したステアリン酸の重量%(赤外線スペクトルから計算される)として規定される。
kext=3.0x10-2cm-1/min
kint=20%
光反射率RLは1%である。
比色変数(a*、b*)が(0,0)であり、完全な中間色を証明している。
それ故、被覆面での反射率は基板の非被覆面の反射率の12.5%である。
この実施例は出願FR2814094に記載されていて、その実施例4である。
基板の1面のみが処理され、得られる基材は以下のような構成となる:
ガラス / Si3N4 / SiO2 / TiO2
25nm 22nm 104nm。
この光反射率は15.8%であり、これは処理面が、約11.8%の光反射率、あるいは基板の非被覆面の反射率のほぼ3倍の光反射率を有することを意味する。それ故、この被覆物は、前記の出願でいくら適していると述べられていても、本発明の内容における反射防止としては適し得ない。
ここでは、屈折率が1.586であり、コロイダルシリカおよびエポキシ化アルコキシシランの加水分解物から成る溶液を硬化して得られる耐摩耗性の被覆物で被覆されたポリカーボネートに基く基板が用いられる。
この基板は実施例1に記載の条件に類似した条件のもとに光触媒被覆で被覆される。
実施例1における条件との相違点は以下の通りである:
- 強化処理および溶媒と構造化剤との除去が、基板の耐熱性が低いので高温で行うこ とができない。従って、これらの処理は紫外線照射下に60℃で3時間の加熱が実 施される強化熱処理で置き換えられる。この最終工程は二酸化チタンの光触媒作用 のおかげで構造化剤を分解するのに役立つ、
- Ti/Siの比は0.25である。
この光触媒層の屈折率は550nmにおいて1.39であり、その厚さは約100nmである。
この基板の被覆面の光の反射率は1.05%、あるいは基板の非被覆面の反射率の22%である。比色変数(a*、b*)は(5.6、7.6)である。
それ故、この場合は、光触媒単独では基板に反射防止機能を付与することが可能であるが、より複雑な被覆物で得られるものよりは機能が弱い。
この実施例はTi/Siの比が2であることを除き他の条件は実施例3と同じ条件で再実験する。
この場合、光触媒被覆物の屈折率は550nmにおいて1.61であり、基材の光の反射率は9.72%であり、非被覆基板の反射率よりも大きい。
光触媒被覆物のチタンの含量が増加すると、実際に屈折率の増加を引き起こし、反射防止機能を得る可能性にとって不利である。
この実施例は光触媒被覆物と耐磨耗性被覆物との間に真空蒸着によって得られる堆積層を積層させる他は実施例4と同じ条件で再実験する。この堆積は、以下の構成に従ってジルコニウムとチタンの二酸化物に基く第1の層とシリカに基く第2の層と、二酸化チタンに基く第3の層とをからなる:
ポリカーボネート / ZrTiOx / SiO2 / TiO2
36nm 15nm 56nm
こうして、下記事項が得られる:
光反射率RLが1.21%、
比色変数(a*、b*)が(5.9、−5.8)、
それ故、基板の被覆面の反射率は基板の非被覆面の反射率の12.5%である。
- 例えば指紋の速やかな消失を保証するなどの屋内および屋外での非常に高い光触 媒活性、
- 低反射率および比較的中間の色。
この実施例はほぼ実施例1の操作条件を繰り返す。
違いは以下の通りである:
Ti/Si比が0.25である。光触媒被覆物は、屈折率が550nmにおいて1.39であり、厚さが97nmである。しかしながら、後者の光触媒被覆物の厚さは光反射率に実質的に影響を及ぼさないで70〜120nmで変えることができ、この厚さの変化の幅の範囲は光触媒被覆物の厚さの平均値の50%以上である。
ガラス / Si3N4 / SiO2 / TiO2
18.2nm 43.9nm 113.4nm
こうして、下記事項が得られる:
RL=1%
(a*、b*)=(0、0)
kext=1.0x10-2cm-1/min。
それ故、光学的な結果は実施例で得られた結果と同じである。
この実施例は以下の条件を除いて実施例1と同じ実験条件で再実験する:
基板は超透明プリントガラスで作られて商品名SGGアルバリノ(Albarino 登録商標)でサン−ゴバン グラスから販売される。基板の1面のみが処理される。
Ti/Si比が2である。それから光触媒被覆物の屈折率は550nmにおいて1.61であり、その厚さは83nmである。しかしながら、後者の光触媒被覆物の厚さは光反射率に実質的に影響を及ぼさないで70〜100nmで変えることができ、その光触媒被覆物の厚さの幅の範囲が光触媒被覆物の厚さの平均値の35%である。
ガラス / Si3N4 / SiO2 / TiO2
41.0nm 14.2nm 56.1nm
こうして、下記事項が得られる:
RL=4.5%、
(a*、b*)=(1.1、−2.0)、
kext=4.9x10-2cm-1/min。
被覆面の反射率は0.6%で、基板の非被覆面の反射率の15%である。
この光触媒被覆層はTi/Si比が大きく、それ故にその活性は極めて強い。
このガラスは太陽光電池パネルを作成するために使用される。反射防止と自浄作用の組み合わせは、それによって高くかつ耐久性のあるエネルギー効率を長期間得るのに役立つ。
これらの各実施例は基板と光触媒被覆物との間に積層される堆積の種類、および場合によってTi/Si比が実施例1と異なる。
この堆積は次の層から成る:
ガラス / Si3N4 / SiO2 / Si3N4
e1(nm) e2(nm) e3(nm)
ここでは第3層は二酸化チタンに代えて窒化ケイ素である。この変更は強靭化工程あ るいは曲げ工程の間に起こる耐熱機械応力への堆積の抵抗力を改良することを目的と する。
表1は各実験条件と3つの実施例の結果を示す。
これらの被覆面の反射率は非被覆面の反射率の各々12.5%、12.5%および20%である。さらに、被覆面の反射率は基板の非被覆面の反射率よりも全400−800nm域に渡って低い。
これらのガラスはショーウィンドウあるいはお店の店頭を調製するために適している。このようにして成形された曲線状の窓ガラスは、屋内での効果的な自浄作用を有しかつ反射防止機能があるおかげで売りに出されて置かれた物品を目立たせる利点がある。
前述の特許出願EP−A−1291331の表1にある実施例を上記出願に記載された技術的な教示に従って再現した。下層の堆積および厚さが107.76nmの二酸化チタン層がマグネトロンスパッタリング法によって蒸着された。
屋外条件下に測定された活性kextは0.3x10-2cm-1/minであり、有機の汚れの速やかな分解を確かにするには不足している。さらに、上記出願の図8に示されているように、厚さのほんのわずかの変化(この場合は7nm)が反射率の値を大幅に変化させる。結局のところ、被覆基板の反射率は波長に大きく依存し、400nmおよび800nmにて測定された値は非常に大きい。
Claims (25)
- 基板の表面の少なくとも1つの面の少なくとも一部に二酸化チタンに基づく光触媒被覆物を有する基板であって、基板の被覆面が基板の非被覆面よりも低い光の反射率を有することを特徴とする透明または半透明の基板。
- 光の反射率を低くするために基板と光触媒被覆物との間に少なくとも1つの被覆物が挿入されることを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 基板と光触媒被覆物との間に挿入される被覆物が多層の堆積物であることを特徴とする請求項2に記載の基板。
- 基板と光触媒被覆物との間に挿入される被覆物が薄い誘電体層から構成され、前記誘電体層が順に、
- 1.8〜2.3の屈折率n1および5〜50nmの幾何学的厚さe1を有する高屈折率の第1の層1、
- 1.35〜1.65の屈折率n2および10〜60nmの幾何学的厚さe2を有する低屈折率の第2の層2、
- 1.8〜2.5の屈折率n3および40〜150nmの幾何学的厚さe3を有する高屈折率の第3の層3
を含む、ことを特徴とする請求項3に記載の基板。 - 多層の堆積物が金属層を包含しないことを特徴とする請求項3又は4に記載の基板。
- 基板の被覆面が基板の非被覆面の60%以下の光の反射率を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の基板。
- 基板の被覆面が基板の非被覆面の15%以下の光の反射率を有することを特徴とする請求項2又は3に記載の基板。
- 400〜800nmの全波長域において、基板の被覆面が基板の非被覆面よりも低い反射率を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の基板。
- 被覆基板の反射率が非被覆基板の反射率よりも低水準にとどまる光触媒被覆物の厚さの幅の範囲が光触媒被覆物の厚さの平均値の少なくとも15%に相当することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の基板。
- 光触媒被覆物が550nmにおいて1.8未満の屈折率を有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の基板。
- 光触媒被覆物が550nmにおいて1.6未満の屈折率を有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の基板。
- 光触媒被覆物が、ステアリン酸の分解速度として示される屋外光条件下での活性が1x10−2cm−1/分以上であることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の基板。
- 光触媒被覆物が、分解したステアリン酸の重量%として示される屋内光条件下での活性が15%以上であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の基板。
- 光触媒被覆物が、分解したステアリン酸の重量%として表される屋内光条件下での活性が30%以上であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の基板。
- 光触媒被覆物が、少なくとも部分的に結晶性の二酸化チタンを含むメソ多孔性構造を有することを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の基板。
- メソ多孔性構造は、二酸化チタンを除くと、主としてシリカ(SiO2)からなることを特徴とする請求項15に記載の基板。
- 少なくとも部分的に結晶性の二酸化チタンが、完全に識別できる粒子の形でメソ多孔性構造に組み込まれることを特徴とする請求項15又は16に記載の基板。
- Ti/Siの原子比が0.6〜1.2であることを特徴とする請求項16又は17に記載の基板。
- 基板と光触媒被覆物との間に耐傷性又は耐摩耗性の被覆物が挿入されることを特徴とする請求項1に記載のプラスチック基板。
- 光の反射率を低くするために耐傷性又は耐摩耗性の被覆物が基板と光触媒被覆物との間に挿入されることを特徴とする請求項2に記載のプラスチック基板。
- 以下の工程:
- 被覆物のメソ多孔性構造を構成する材料の前駆体の少なくとも1種および溶媒に希釈された有機構造化剤の少なくとも1種を含む“ゾル”の調製、
- ゾルの“熟成”、
- ゾルに対する二酸化チタンのナノ粒子あるいは微結晶の添加、
- 被覆されるべき基板の少なくとも1つの面に対するゾルの塗布、
- 溶媒の除去、
- 有機構造化剤の除去
を含むことを特徴とする請求項1〜20のいずれか1項に記載の基板の製造法。 - 基板がプラスチック製であって、溶媒および有機構造化剤の除去の工程が紫外線照射下に80℃以下の温度で実施されることを特徴とする請求項21に記載の基板の製造法。
- 請求項1に記載の基板を含むことを特徴とする透明板ガラス。
- 請求項19および20のいずれかに記載の基板を含むことを特徴とする眼科用レンズ。
- 透明板ガラス、眼科用レンズ、美術館の窓あるいはショーウィンドウ、水族館のガラス、インテリアあるいは都会の家具用透明板ガラス、ディスプレー画面用透明板ガラス、熱および/または電力を取り出す太陽電池パネル用透明板ガラス、自動車、船舶あるいは飛行機用透明板ガラス、鏡、自動車のバックミラー、ヘッドライト光学素子、照明装置としての請求項1に記載の基板の利用。
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